Objective: This study was carried out to assess the status of working environments, to improve the working environments, and to be helpful to prevent occupational disease. Methods: The authors measured the noise level, concentration of dust, heavy metals, organic solvents, and other chemicals at 95 industries (22 working processes) by type of working process in manufacturing industry of parts and accessories for motor vehicles and its engines from January to December 2003. Samples were measured and analyzed by regulations of Korea Ministry of Labor, manuals of National Institute for Occupational Safety and Health (NIOSH) and Occupational Safety and Health Administration (OSHA). Results: Results are as follows. 1. Major processes exceeding mean noise levels provided the American Conference of Governmental Industrial Hygienists (ACGIH) Threshold Limit Value (TLV) were shakeout [97.5 dB(A)]. shot-blast [94.2 dB(A)], pressing [92.9 dB(A)], crushing [91.2 dB(A)], and cleaning [90.6 dB(A)]. 2. Mean concentrations of dusts were not exceeded to the TLV. But concentration on some points of processes as like welding (6.50 mg/m3), foundry (5.24 mg/m3) were exceeded. 3. Mean concentrations of heavy metals were not exceeded to the TLV. 4. Mean concentrations of organic solvents and chemicals were not exceeded to the TLV. 5. Improving rate for working environment were significantly higher in industries with health manager than without (p<0.05), and by increasing the year of working environmental measurement (p<0.01). Conclusions: The results suggest that working processes of exceeding to the TLV will be needed rapid improvement of the working environment, and also the others will be needed positive management of the working environment. Health managers must be recommended to employ in the workplace, and further studies for relationship between working environment and health effects for the workers must be carried out.
Kim, Young-Taek;Cha, Jae-Kook;Park, Jung-Chul;Jung, Ui-Won;Kim, Chang-Sung;Cho, Kyoo-Sung;Choi, Seong-Ho
Journal of Periodontal and Implant Science
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제42권1호
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pp.13-19
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2012
Purpose: The aim of this study was to examine whether a previous peri-implantitis site can affect osseointegration, by comparing implant placement at a site where peri-implantitis was present and at a normal bone site. A second aim of this study was to identify the tissue and bone reaction after treating the contaminated implant surface to determine the optimal treatment for peri-implant diseases. Methods: A peri-implant mucositis model for dogs was prepared to determine the optimal treatment option for peri-implant mucositis or peri-implantitis. The implants were inserted partially to a length of 6 mm. The upper 4 mm part of the dental implants was exposed to the oral environment. Simple exposure for 2 weeks contaminated the implant surface. After 2 weeks, the implants were divided into three groups: untreated, swabbed with saline, and swabbed with $H_2O_2$. Three implants from each group were placed to the full length in the same spot. The other three implants were placed fully into newly prepared bone. After eight weeks of healing, the animals were sacrificed. Ground sections, representing the mid-buccal-lingual plane, were prepared for histological analysis. The analysis was evaluated clinically and histometrically. Results: The untreated implants and $H_2O_2$-swabbed implants showed gingival inflammation. Only the saline-swabbed implant group showed re-osseointegration and no gingival inflammation. There was no difference in regeneration height or bone-to-implant contact between in situ implant placement and implant placement in the new bone site. Conclusions: It can be concluded that cleaning with saline may be effective in implant decontamination. After implant surface decontamination, implant installation in a previous peri-implant diseased site may not interfere with osseointegration.
Background: Among women with haematuria, defining individuals under high risk for bladder cancer based on reproductive factors prior to cystoscopy would be of great benefit in the management of this condition. The aim of this study was to compare age and reproductive factors such as menopausal status, parity, age at first delivery and age at the last delivery between women who have haematuria with or without bladder cancer. Materials and Methods: A total of 463 patients underwent diagnostic cystoscopy in D$\ddot{u}$zce University Faculty of Medicine between 1 June 2008 and 1 June 2013. Female patients who presented with persistent microscopic or macroscopic haematuria and underwent standard evaluation for haematuria including urinalysis, urine culture, urine cytology, urinary tract imaging with excretory urography or computerized tomography with contrast enhancement and endoscopic evaluation of the urethra and bladder were included in this study. Exclusion criteria were tobacco use and high risk occupations for bladder cancer such as textile, dry cleaning, painting and etc. Forteen women had hematuria due to benign conditions, and 18 due to bladder cancer. Data were retrospectively retrieved from the medical records of Duzce University Hospital. Results: Patients with haematuria due to benign reasons did not significantly differ from patients who were found to have bladder cancer in terms of age (p=0.28), menopausal status (p=0.29), mean parity (p=0.38), being nulliparous (p=0.57), parity ${\geq}3$ (p=0.22), age ${\leq}18$ years at first delivery (p=1.00), age ${\geq}30$ years at last delivery (p=0.26), age ${\geq}35$ years at last delivery (p=0.23) and percentage of the patients with advanced age (${\geq}65$ years) (p=0.18). Conclusions: It is difficult to predict a high risk for developing bladder cancer in women with haematuria based solely on reproductive factors.
Showerhead is used as a main part in the semiconductor equipment. The face plate flatness should remain constant and the cleaning performance must be gained to keep the uniformity level of etching or deposition in chemical vapor deposition process. High operating temperature or long period of thermal loading could lead the showerhead to be deformed thermally. In some case, the thermal deformation appears very sensitive to showerhead performance. This paper describes the methods for robust design using computational fluid dynamics. To reveal the influence of the post distribution on flow pattern in the showerhead cavity, numerical simulation was performed for several post distributions. The flow structure appears similar to an impinging flow near a centered baffle in showerhead cavity. We took the structure as an index to estimate diffusion path. A robust design to reduce the thermal deformation of showerhead can be achieved using post number increase without ill effect on flow. To prevent the showerhead deformation by heat loading, its face plate thickness was determined additionally using numerical simulation. The face plate has thousands of impinging holes. The design key is to keep pressure drop distribution on the showerhead face plate with the holes. This study reads the methodology to apply to a showerhead hole design. A Hagen-Poiseuille equation gives the pressure drop in a fluid flowing through such hole. The assumptions of the equation are the fluid is viscous-incompressible and the flow is laminar fully developed in a through hole. An equation can be expressed with radius R and length L related to the volume flow rate Q from the Hagen-Poiseuille equation, $Q={\pi}R4{\Delta}p/8{\mu}L$, where ${\mu}$ is the viscosity and ${\Delta}p$ is the pressure drop. In present case, each hole has steps at both the inlet and the outlet, and the fluid appears compressible. So we simplify the equation as $Q=C(R,L){\Delta}p$. A series of performance curves for a through hole with geometric parameters were obtained using two-dimensional numerical simulation. We obtained a relation between the hole diameter and hole length from the test cases to determine hole diameter at fixed hole length. A numerical simulation has been performed as a tool for enhancing showerhead robust design from flow structure. Geometric parameters for the design were post distribution and face plate thickness. The reinforced showerhead has been installed and its effective deposition profile is being shown in factory.
Lim, Sang Chul;Koo, Jae Bon;Park, Chan Woo;Jung, Soon-Won;Na, Bock Soon;Lee, Sang Seok;Cho, Kyoung Ik;Chu, Hye Yong
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
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pp.344-344
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2014
Transparent amorphous oxide semiconductors such as a In-Ga-Zn-O (a-IGZO) have advantages for large area electronic devices; e.g., uniform deposition at a large area, optical transparency, a smooth surface, and large electron mobility >10 cm2/Vs, which is more than an order of magnitude larger than that of hydrogen amorphous silicon (a-Si;H).1) Thin film transistors (TFTs) that employ amorphous oxide semiconductors such as ZnO, In-Ga-Zn-O, or Hf-In-Zn-O (HIZO) are currently subject of intensive study owing to their high potential for application in flat panel displays. The device fabrication process involves a series of thin film deposition and photolithographic patterning steps. In order to minimize contamination, the substrates usually undergo a cleaning procedure using deionized water, before and after the growth of thin films by sputtering methods. The devices structure were fabricated top-contact gate TFTs using the a-IGZO films on the plastic substrates. The channel width and length were 80 and 20 um, respectively. The source and drain electrode regions were defined by photolithography and wet etching process. The electrodes consisting of Ti(15 nm)/Al(120 nm)/Ti(15nm) trilayers were deposited by direct current sputtering. The 30 nm thickness active IGZO layer deposited by rf magnetron sputtering at room temperature. The deposition condition is as follows: a rf power 200 W, a pressure of 5 mtorr, 10% of oxygen [O2/(O2+Ar)=0.1], and room temperature. A 9-nm-thick Al2O3 layer was formed as a first, third gate insulator by ALD deposition. A 290-nm-thick SS6908 organic dielectrics formed as second gate insulator by spin-coating. The schematic structure of the IGZO TFT is top gate contact geometry device structure for typical TFTs fabricated in this study. Drain current (IDS) versus drain-source voltage (VDS) output characteristics curve of a IGZO TFTs fabricated using the 3-layer gate insulator on a plastic substrate and log(IDS)-gate voltage (VG) characteristics for typical IGZO TFTs. The TFTs device has a channel width (W) of $80{\mu}m$ and a channel length (L) of $20{\mu}m$. The IDS-VDS curves showed well-defined transistor characteristics with saturation effects at VG>-10 V and VDS>-20 V for the inkjet printing IGZO device. The carrier charge mobility was determined to be 15.18 cm^2 V-1s-1 with FET threshold voltage of -3 V and on/off current ratio 10^9.
실리콘계 태양전지 제조과정에서 발생하는 불량품에서 실리콘웨이퍼를 회수하는 연구를 수행하였다. 상온($25^{\circ}C$)에서 인산용액 농도, 산성불화암모늄 농도, 킬레이트제 종류 및 농도를 변화시키면서 폐태양전지의 반사방지막 및 N층의 제거 효율을 조사하였다. 10 wt% 인산, 2.0 wt% 산성불화암모늄, 1.5 wt% Hydantoin 사용 시 제거 효율이 가장 우수 하였다. 인산농도가 증가할수록 미세입자의 표면전위가 (+)로 변하여 정전기적 인력에 의해 실리콘웨이퍼 표면에 재흡착하여 표면처리 전보다 두께가 두꺼워졌으며, 표면의 오염도도 증가하였다. 인산-산성불화암모늄-킬레이트제 용액에 의한 표면처리방법은 모든 공정이 상온에서 수행되며, 공정이 단순하고, 폐수 발생량이 적고, 표면제거 효율이 우수한 방법으로 폐 태양전지의 재활용 및 기존 RCA 세정법의 대안으로 가능성이 매우 클 것으로 판단되었다.
양육지식은 양육실천에 중요한 관련요인이며 양육지식과 양육실천 정도 사정은 영아기 부모에게 중요하다. 저자는 기 개발된 타당성이 검증된 양육지식 척도(CRKS)와 양육실천 척도(CRPS)의 자국내 도입을 위하여 Saramma와 Thomas가 기 개발한 도구들을 채택하였다. 예비연구가 국제적 언어학적 검증단계에 따라서 수행되었다. 조사대상자는 A의 보건소와 B의 오케타니 마사지실을 방문한 영아 부모 20명이었다. 수집된 자료는 기술통계와 Wilcoxon Rank Sum Test가 도구의 이해도와 일반적 특성에 따른 도구의 평균 정도를 비교하기 위해서 사용되었다. 도구의 신뢰도와 타당도는 Cronbach's alpha, Spearman Correlations을 사용하였다. 대상자의 평균 나이는 33.94(${\pm}2.99$)세였고 영아의 평균 월령은 3.35(${\pm}0.58$)개월였다. CRKS와 CRPS의 이해도는 각각 1.80(${\pm}0.65$)점과 1.33(${\pm}0.54$)점으로 사용하기 쉬웠다. CRKS의 평균점수는 22.50(${\pm}4.89$)점으로 중간점수였고 CRPS의 평균점수는 30.75(${\pm}2.04$)점으로 높았다. CRPS의 Cronbach's alpha는 식이영역이 0.71, 성장과 발달 영역이 0.64, 청결과 보호영역이 0.68, 영아자극 영역이 0.77였다. CRPS의 영아자극과 CRKS의 성장과 발달 영역은 유의한 상관관계가 있었다(r=.530, p=.016). 일반적 특성 중에서 의료인이 비의료인에 비해서 유의하게 CRKS 점수가 높았다(p=0.04). CRKS와 CRPS 척도는 지역사회와 임상실무에서 사용이 간편하고 쉽게 응답할 수 있는 도구로 사용되기를 기대한다.
이 연구는 토기 재질과 토양 특성에 따라 매장환경이 출토 토기에 미치는 물리화학적 영향을 연구하였다. 이를 위해 대전 학하, 아산 음봉, 화성 소근산 그리고 공주 행정중심복합도시 출토 토기와 토양을 연구 대상으로 하였다. 먼저 토기의 탈염을 통해 용출되는 이온의 화학종과 용출속도를 조사한 결과, 토기의 기공크기와 흡수율에 따라 토기 내 이온유입이 달라졌다. 즉 $1,000^{\circ}C$ 이상의 고온 소성된 토기는 기공이 작고 흡수율이 낮아 매장환경의 염 유입 현상이 거의 일어나지 않았다. 그러나 $800^{\circ}C$ 이하의 저온 소성된 토기는 기공이 크고 흡수율이 높아 다량의 염이 유입되어 증류수 탈염을 통해 염을 제거하였다. 탈염 2일 만에 40~60%의 염이 제거되었고 탈염 1주일 만에 60~80%의 염이 제거되었다. 또한 토양에 포화되어 있는 이온은 대부분 토기에도 동일한 비율로 존재하고 $K_2SO_4$와 같이 토양에 잔존하는 비료의 성분도 검출되었다. 그러나 모래 함량이 상당히 높은 사질 토양시료에서는 함유 이온량이 적어 토기에 유입되는 이온의 영향이 비교적 적었고 미사 및 점토 함량이 높은 토양에 매장되었던 토기는 유입되는 이온함량이 높았다. 그러나 저온소성된 토기에서는 다량 유입된 염에 의한 손상이 우려되므로 세척 이외의 탈염을 통한 염 제거가 필요하며 그 기간은 토기의 상태에 따라 달라질 수 있을 것으로 생각된다.
The main problems contributing to food poisoning outbreaks in institutional settings and a home were reviewed and analyzed through the epidemiological investigations of food poisoning. The major documented factors included improper holding temperatures, inadequate cooking, poor personal hygiene, cross-contamination and contaminated equipment, food from unsafe sources, failure to follow food hygiene policies, and lack of education, training, monitoring and superivision. Usually more than one factor contributed to the development of an outbreak. (1) Use of improper holding temperatures was the single most important factor contributing to food poisoning. They included improper cooling, allowing a laps of time (12 hours or more) between preparing food and eating it, improper hot holding, and inadequate or improper thawing. Food thermometers were not used in most of the instances. (2) In inadequate cooking, the core temperature of food during and after cooking had not been measured, and routine monitoring was limited to recording the temperature of plated meals. Compared with conventional methods of cooking, microwave ovens did not protect against food poisoning as effectively. Centralized food preparation potentially increased the risk of food poisoning outbreaks. (3) Poor personal hygiene both at the individual level (improper handwashing and lack of proper hygienic practices) and at the institutional level (poor general sanitization) increased the risk of transmission. Person to person transmission of enteric pathogens through direct contact and via fomites has been noted in several instances. (4) Obtaining food from unsafe sources was a risk factor in outbreaks of food poisoning. Food risks were high when food was grown or harvested from contaminated areas. Possibilities included contamination in the field, in transport, at the retail site, or at the time it was prepared for serving. (5) Cross-contamination and inadequate cleaning/handling of equipment became potential vehicles of food poisoning. Failure to separate cooked food from raw food was also a risk factor. (6) Failure to follow food hygiene policies also provided opportunities for outbreaks of food poisoning. It included improper hygienic practices during food preparation, neglect of personnel policies (involvement of symptomatic workers in food preparation), poor results on routine inspections, and disregarding the results and recommendations of an inspection. (7) Lack of formal and in-service education, training, monitoring, and supervision of food handlers or supervisors were critical and perhaps neglected elements in occurrences of food poisoning.
본 논문은 유류로 오염된 부지를 DSB(Deep-site Biopile) system을 이용하여 정화함으로써 적용 가능한 현장특성을 평가하기 위한 것이다. 오염부지는 유류가 유출되어 깊이 약 2.5 m 부근에 위치하는 지하수의 흐름에 띠라 광범위하게 오염(총 $7,201m^3$) 되어 있었으며, 투수성이 좋은 Sand층으로 구성되어 있다. 부지 내 설치된 배관은 각 지점마다 독립적으로 제어될 수 있도록 하였으며, DSB system의 가동은 24시간을 기준으로 30분 가동/30분 정지되도록 하였다. 오염부지 내 오염원이 저감되는 현황을 파악하기 위하여 DSB system 가동시간에 따른 시료채취 작업을 수행한 결과, DSB system 가동 후 약 30여일 만에 총석유계탄화수소 및 BTEX 오염원이 약 50% 이상 저감되었으며 약 165일이 경과한 후에는 토양오염 확인기준 이하로 저감되어 정화작업이 정상적으로 완료되었다. 이와 같이 본 DSB system은 기존에 적용되어 왔던 생물학적 공법들과는 달리 높은 농도의 유류화합물로 오염되어 있는 토양 및 지하수를 약 6개월의 단기간에 효과적으로 처리할 수 있었으며 정화 system을 지상이 아닌 지중에 설치함으로써 별도의 부지가 확보되지 않은 경우에도 적용할 수 있는 특성이 있음을 알 수 있었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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