Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.19
no.1
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pp.47-53
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2012
Bonding strength of Sn-3.0Ag-0.5Cu solder joint due to degradation characteristic of OSP surface finish was investigated, compared with SnPb finish. The thickness variation and degradation mechanism of organic solderability preservative(OSP) coating were also analyzed with the number of reflow process. To analyze the degradation degree of solder joint strength, FR-4 PCB coated with OSP and SnPb were experienced preheat treatment as a function of reflow number from 1st to 6th pass, respectively. After 2012 chip resistors were soldered with Sn-3.0Ag-0.5Cu on the pre-heated PCB, the shear strength of solder joints was measured. The thickness of OSP increased with increase of the number of reflow pass by thermal degradation during the reflow process. It was also observed that the preservation effect of OSP decreased due to OSP degradation which led Cu pad oxidation. The mean shear strength of solder joints formed on the Cu pads finished with OSP and SnPb were 58.1 N and 62.2 N, respectively, through the pre-heating of 6 times. Although OSP was degraded with reflow process, the feasibility of its application was proven.
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.26
no.2
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pp.31-43
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2019
In this study, polymer elastic bumps were fabricated for the flexible electronic package flip chip bonding and the viscoelastic and viscoplastic behavior of the polymer elastic bumps according to the temperature and load were analyzed using FEM and experiments. The polymer elastic bump is easy to deform by the bonding load, and it is confirmed that the bump height flatness problem is easily compensated and the stress concentration on thin chip is reduced remarkably. We also develop a spiral cap type and spoke cap type polymer elastic bump of $200{\mu}m$ diameter to complement Au metal cap crack phenomenon caused by excessive deformation of polymer elastic bump. The proposed polymer elastic bumps could reduce stress of metal wiring during bump deformation compared to metal cap bump, which is completely covered with metal wiring because the metal wiring on these bumps is partially patterned and easily deformable pattern. The spoke cap bump shows the lowest stress concentration in the metal wiring while maintaining the low contact resistance because the contact area between bump and pad was wider than that of the spiral cap bump.
The Journal of Korean Institute of Electromagnetic Engineering and Science
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v.24
no.11
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pp.1081-1090
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2013
In this paper, a C-band 10 W power amplifier with internally matched input and output matching circuit is designed and fabricated. The used power transistor for the power amplifier is GaAs pHEMT bare-chip. The wire bonding analysis considering the size of the capacitor and the position of transistor pad improves the accurate design. The matching circuit design with the package effect using EM simulation is performed. To reduce the unsymmetry of IMD3 in 2-tone measurement due to the memory effect, the bias circuit minimizing the memory effect is proposed and employed. The measured $P_{1dB}$, power gain, and power added efficiency are 39.8~40.4 dBm, 9.7~10.4 dB, and 33.4~38.0 %, respectively. Adopting the proposed bias circuit, the difference between the upper and lower IMD3 is less than 0.76 dB.
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.14
no.4
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pp.63-69
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2007
We investigated interconnection processes using Cu vias for MEMS sensor packages. Ag paste layer was formed on a glass substrate and used as a seed layer for electrodeposition of Cu vias after bonding a Si substrate with through-via holes. With applying electrodeposition current densities of $20mA/cm^2\;and\;30mA/cm^2$ at direct current mode to the Ag paste seed-layer, Cu vias of $200{\mu}m$ diameter and $350{\mu}m$ depth were formed successfully without electrodeposition defects. Interconnection processes for MEMS sensor packages could be accomplished with Ti/Cu/Ti line formation, Au pad electrodeposition, Sn solder electrodeposition and reflow process on the Si substrate where Cu vias were formed by Cu electrodeposition into through-via holes.
Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics D
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v.35D
no.6
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pp.72-78
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1998
An optical modulator Ti:LiNbO$_3$optical waveguide and CPW electrode structure were fabricated. The optical modulator was packaged using components such as ferrules, dirmy LN block and glass, vibration and shock absorbption pad, and alumina feeder through processings of pigtailing. Au wire bonding, epoxing, SMA connecting, sealing. The electrical and optical characteristics were measured after packaging. The electrical properties of S$_{21}$ and S$_{11}$ were obtained as 9.8 GHz at -3 dB and -8.9dB at 14.4GHz, respectively. Optical waveguide prepared met requirements for a single mode at a 1550nm wavelength range. Insertion loss was 4.3dB at room temperature after packaging, and was varied 4.3~6.4dB at various temperatures, 5~45$^{\circ}C$. E-O bandwidth measurement showed 3dB optical response at 7.8GHz, which means that it is applicable for 10Gbps optical communicationon
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.11
no.4
s.33
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pp.1-5
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2004
A multi-layer flexible substrate is composed of copper(Cu)/polyimide that are known as good electrical conductivity, and low dielectric constant, respectively. In this study. conductor line of $5{\mu}m$-pitch was successfully fabricated without non-uniform pattern shape by electroplating copper and coating polyimide on patterned stainless steel. For multi-layer flexible substrate, via holes were drilled by UV laser and filled with electroplating copper and tin. And then, the PI layer with vias and conductor lines was stripped from stainless steel substrate. The PI layers were laminated at once with careful alignment between layers. Solid state reaction between tin and copper during lamination formed the intermetallic compounds of $Cu_6Sn_5$($\eta$-phase) and $Cu_3Sn$($\epsilon$-Phase) and achieved a complete inter-connection by vertically positioning the plugged via holes on via pad. The via formation process has several advantages; such as better electrical property and lower cost than V type via and paste via.
Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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2012.10a
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pp.241-244
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2012
In this paper, three types of optical receivers are designed using a $0.35-{\mu}m$ standard CMOS technology for plastic optical fiber (POF) applications. Basic common-source transimpedance amplifier (CS-TIA), common-gate TIA (CG-TIA), and regulated-cascode TIA (RGC-TIA) are optimally designed, and their transimpedance gain (TZ gain), 3-dB bandwidth, and noise characteristics are compared and analyzed. As a result of simulations, the RGC-TIA indicates better TZ gain and 3-dB bandwidth than other topologies, and CS-TIA has the best noise performance. Each optical receiver occupies area of $0.35mm^2$.
The research efforts on GaN-based light-emitting diodes (LEDs) keep increasing due to their significant impact on the illumination industry. Surface mount technology (SMT) is widely used to mount the LED packages for practical application. In surface mount soldering both the device body and leads are intentionally heated by a reflow process. We studied on the effects of multiple reflows on microstructural variation and joint strength of the solder joints between the LED package and the substrate. In this study, Pb-free Sn-3.0Ag-0.5Cu solder and a finished pad with organic solderability preservatives (OSP) were employed. A $Cu_6Sn_5$ intermetallic compound (IMC) layer was formed during the multiple reflows, and the thickness of the IMC layerincreased with an increasing number of reflows. The shear force decreased after three reflows. From the observation of the fracture surface after a shear test, partially brittle fractures were observed after five reflows.
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.13
no.1
s.38
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pp.23-29
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2006
Ultrasonic soldering of Si-wafer to FR-4 PCB at ambient temperature was investigated. The UBM of Si-substrate was Cu/ Ni/ Al from top to bottom with thickness of $0.4{\mu}m,\;0.4{\mu}m$, and $0.3{\mu}m$ respectively. The pad on FR-4 PCB comprised of Au/ Ni/ Cu from top to bottom with thickness of $0.05{\mu}m,\;5{\mu}m$, and $18{\mu}m$ respectively. Sn-3.5wt%Ag foil rolled to $100{\mu}m$ was used for solder. The ultrasonic soldering time was varied from 0.5 s to 3.0 s and the ultrasonic power was 1,400 W. The experimental results show that a reliable bond by ultrasonic soldering at ambient temperature was obtained. The shear strength increased with soldering time up to a maximum of 65 N at 2.5 s. The strength decreased to 34 N at 3.0 s because cracks were generated along the intermetallic compound between Si-wafer and Sn-3.5wt%Ag solder. The Intermetallic compound produced by ultrasonic soldering between the Si-wafer and the solder was $(Cu,Ni)_{6}Sn_{5}$.
Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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v.12
no.7
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pp.1235-1242
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2008
In this paper, x-ray image sensor of photon counting type having a $32{\times}32$ pixel array is designed with $0.18{\mu}m$ triple-well CMOS process. Each pixel of the designed image sensor has an area of loot $100{\times}100\;{\mu}m2$ and is composed of about 400 transistors. It has an open pad of an area of $50{\times}50{\mu}m2$ of CSA(charge Sensitive Amplifier) with x-ray detector through a bump bonding. To reduce layout size, self-biased folded cascode CMOS OP amp is used instead of folded cascode OP amp with voltage bias circuit at each single-pixel CSA, and 15-bit LFSR(Linear Feedback Shift Register) counter clock generator is proposed to remove short pulse which occurs from the clock before and after it enters the counting mode. And it is designed that sensor data can be read out of the sensor column by column using a column address decoder to reduce the maximum current of the CMOS x-ray image sensor in the readout mode.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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