Objectives: The purpose of this study is to fabricate an ultra-fine ginsenoside particle atomizer that can provide a new treatment method by delivering ginsenoside components that have a therapeutic effect on respiratory diseases directly to the lungs. Methods: We fabricated the AAO vibrating mesh by using the micromachining process. The starting substrate of an AAO wafer has a 350nm pore diameter with 50㎛ thickness. A photomask having several 5㎛ opening holes with a 100㎛ pitch was used to separate each nanopore nozzle. The photoresist structure was optimized to pattern the nozzle area during the lift-off process precisely. The commercial vibrating mesh was removed from OMRON's NE-U100 product, and the fabricated AAO vibrating mesh was installed. A diluted sample of 20mL with 30% red ginseng concentrate was prepared to atomize from the device. Results: As a result of liquid chromatography analysis before spraying the ginsenoside solution, ginsenoside components such as 20S-Rg3, 20R-Rg3, and Rg5 were detected. After spraying through the AAO vibrating mesh, ginsenosides of the same component could be detected. Conclusion: A nutrient solution containing ginsenosides was successfully sprayed through the AAO vibrating mesh with 350 nm selective pores. In particular, during the atomizing experiment of ginsenoside drug solution having excellent efficacy in respiratory diseases, it was confirmed that atomizing through the AAO vibrating mesh while maintaining most of the active ingredients was carried out.
레드머드(Red mud)는 보오크사이트 원광석으로부터 수산화알루미늄($Al(OH)_3$) 및 산화알루미늄($Al_2O_3$)을 제조하는 공정에서 발생되는 산업부산물로 Bayer Process를 통하여 함수율 50%의 슬러지 상태로 국내에서 연간 약 30만톤이 발생되고 있다. 본 논문에서는 함수율 50%의 레드머드 슬러지를 가열 공정없이 건설산업 현장에 사용할 수 있도록 적정 혼합수 및 첨가제를 사용하여 액상화하고 점도, 입도, 침전지수와 같은 분산특성을 검토하였다. 본 논문의 범위에 한정하여 액상화 레드머드의 안정적인 분산을 위해서는 초기 점도를 2000cP에서 8000cP을 적용하고 목표 침전지수를 20%이하로 설정하는 것이 타당할 것으로 사료된다.
알루미나 분말을 분쇄하면서 Y 수화물을 동시에 침전시켜 YAG 분말을 합성하였다. 하소 분말 (l20$0^{\circ}C$, 4 h)에는 YAG 외에 소량의 YAM이 남아 있었다. 그러나 평균 입경 0.57 $\mu$m으로 분쇄한 분말 성형체에서는 산화물 혼합법에서 YAG 단일상이 얻어지는 온도 (l500∼1$600^{\circ}C$) 보다 훨씬 낮은 130$0^{\circ}C$ 에서 YAG 단일상이 이미 형성되었다. 분말의 소결성은 우수하여 소결조제 SiO$_2$(350 ppm Si) 의 첨가에 관계없이 치밀화가 잘 일어났다. SiO$_2$를 첨가하지 않은 경우, 1$600^{\circ}C$에서 98%의 손결밀도를 얻었다. SiO$_2$를 첨가한 경우에는 150$0^{\circ}C$에서 치밀화가 더 잘 일어나 97.7%의 소결밀도가 얻어졌으며, 1$600^{\circ}C$에서는 SiO$_2$의 소결촉진 효과가 나타나지 않아 밀도는 SiO$_2$를 첨가하지 않은 시편과 비슷하였다.
Al-doped ZnO (AZO) thin films were grown on quartz substrates by the sol-gel method. The effects of the Al mole fraction on the structural and optical properties of the AZO thin films were investigated by scanning electron microscopy (SEM), X-ray diffraction (XRD), and UV-VIS spectroscopy. The particle size of the AZO thin films decreased with an increase in Al concentrations. The optical parameters, the optical band gap, absorption coefficient, refractive index, dispersion parameter, and optical conductivity, were studied in order to investigate the effects of Al concentration on the optical properties of AZO thin films. The dispersion energy, single-oscillator energy, average oscillator wavelength, average oscillator strength, and refractive index at an infinite wavelength of the AZO thin films were affected by the Al incorporation. The optical conductivity of the AZO thin films also increased with increasing photon energy.
The aim of this study was to evaluate the bond strength of using a Au bonding agent applied on cp-Ti and nonprecious metal-gold-ceramic system. Metallic frameworks(diameter: 5mm, height: 20mm)(N=56, n=7per group) cast in Ni-Cr alloy, Co-Cr alloy and cp-Ti were obtained using acrylic templates and airborne particle abraded with $110{\mu}m$ aluminum oxide. Au bonding agent was applied on wash opaque firing as intermediate layer. SEM and SEM/EDS line profile were performed on the cutting the cross-section of the metal substrate-porcelain with intermediate Au coating. Groups were tested using shear bond strength(SBS) testing at 0.5mm/min. The mean SBS values for the ceramic-Au layer-metal combination were significantly higher than those ceramic-metal combination. While ceramic-Au layer-cp-Ti combinations failed to increase bond strength instead of using a titanium bonding porcelain. The appication of using Au intermediate layer significantly improve the bond strength combination with metal-ceramic system.
전해 캐패시터와 supercapacitor의 특성을 함께 가지는 하이브리드 캐패시터의 용량은 표면이 산화물로 피복된 양극에 의해서 좌우된다 본 연구에서는 고전압 하이브리드 슈퍼캐패시터의 제조를 위해 양극의 용량 최적화를 수행하였다. $40{\mu}m$의 입자경을 갖는 알루미늄 분말과 NaCl분말을 4:1의 무게비로 혼합하여 디스크 형태의 전극을 만들고 열처리를 하였다. 열처리 후 $50^{\circ}C$의 증류수에서 NaCl을 용해시켜 열처리 온도에 따른 용량과 저항을 비교하였다. 최적의 열처리 과정을 거친 후 electropolishing 및 화학처리, 1차 및 2차 에칭을 단계별로 행하였고 각각의 단계에서 최적의 조건을 조사하였다 각각의 단계에서의 용량과 저항은 ac impedance analyzer를 사용하여 측정하였으며 전극의 표면은 SEM을 이용하여 관찰하였다. 2차 에칭 후 내전압이 300V급인 전극으로 만들기 위하여 365V로 양극산화 시켰으며, 산화된 알루미늄 디스크 전극을 사용하여 단위 셀을 제조하여 주파수에 따른 용량과 저항 특성을 기존의 300V급 알루미늄 전해 캐패시터와 비교하였다.
PURPOSE. The purpose of this study was to investigate the impact of different surface treatment methods and thermal ageing on the bond strength of autopolymerizing acrylic resin to Co-Cr. MATERIALS AND METHODS. Co-Cr alloy specimens were divided into five groups according to the surface conditioning methods. C: No treatment; SP: flamed with the Silano-Pen device; K: airborne particle abrasion with $Al_2O_3$; Co: airborne particle abrasion with silica-coated $Al_2O_3$; KSP: flamed with the Silano-Pen device after the group K experimental protocol. Then, autopolymerized acrylic resin was applied to the treated specimen surfaces. All the groups were divided into two subgroups with the thermal cycle and water storage to determine the durability of the bond. The bond strength test was applied in an universal test machine and treated Co-Cr alloys were analyzed by scanning electron microscope (SEM). Two-way analysis of variance (ANOVA) was used to determine the significant differences among surface treatments and thermocycling. Their interactons were followed by a multiple comparison' test performed uing a post hoc Tukey HSD test (${\alpha}=.05$). RESULTS. Surface treatments significantly increased repair strengths of repair resin to Co-Cr alloy. The repair strengths of Group K, and Co significantly decreased after 6,000 cycles (P<.001). CONCLUSION. Thermocycling lead to a significant decrease in shear bond strength for air abrasion with silica-coated aluminum oxide particles. On the contrary, flaming with Silano-Pen did not cause a significant reduction in adhesion after thermocycling.
Purpose. This study aimed to assess the influence of various micromechanical surface conditioning (MSC) strategies with or without coupling agent (silane) application on the micro-shear bond strength (µSBS) of resin- matrix ceramics (RMCs). Materials and Methods. GC Cerasmart (GC), Lava Ultimate (LU), Vita Enamic (VE), Voco Grandio (VG), and Brilliant Crios (BC) were cut into 1.0-mm-thick slices (n = 32 per RMC) and separated into four groups according to the MSC strategy applied: control-no conditioning (C), air-borne particle abrasion with aluminum oxide particles (APA), 2W- and 3W-Er,Cr:YSGG group coding is missing. The specimens in each group were further separated into silane-applied and silane-free subgroups. Each specimen received two resin cement microtubules (n = 8 per subgroup). A shear force was applied to the adhesive interface through a universal test machine and µSBS values were measured. Data were statistically analyzed by using 3-way ANOVA and Tukey HSD test. Failure patterns were scrutinized under stereomicroscope. Results. RMC material type, MSC strategy, and silanization influenced the µSBS values (P<.05). In comparison to the control group, µSBS values increased after all other MSC strategies (P<.05) while the differences among these strategies were insignificant (P>.05). For control and APA, there were insignificant differences between RMCs (P>.05). The silanization decreased µSBS values of RMCs except for VE. Considerable declines were observed in GC and BC (P<.05). Conclusion. MSC strategies can enhance bond strength values at the RMC - cement interface. However, the choice of MSC strategy is dependent on RMC material type and each RMC can require a dedicated way of conditioning.
Samples of anodic oxide film used in semiconductor and display manufacturing processes were prepared at different electrolyte temperatures to investigate the corrosion resistance. The anodic oxide film was grown on aluminum alloy 6061 by using a sulfuric acid ($H_2SO_4$) electrolyte of 1.5 M at $0^{\circ}C$, $5^{\circ}C$, $10^{\circ}C$, $15^{\circ}C$, and $20^{\circ}C$. The insulating properties of the samples were evaluated by measuring the breakdown voltage, which gradually increased from 0.43 kV ($0^{\circ}C$) to 0.52 kV ($5^{\circ}C$), 1.02 kV ($10^{\circ}C$), and 1.46 kV ($15^{\circ}C$) as the electrolyte temperature was increased from $0^{\circ}C$ to $15^{\circ}C$, but then decreased to 1.24 kV ($20^{\circ}C$). To evaluate the erosion of the film by fluorine plasma, the plasma erosion and the contamination particles were measured. The plasma erosion was evaluated by measuring the breakdown voltage after exposing the film to $CF_4/O_2/Ar$ and $NF_3/O_2/Ar$ plasmas. With exposure to $CF_4/O_2/Ar$ plasma, the breakdown voltage of the film slightly decreased at $0^{\circ}C$, by 0.41 kV; however, the breakdown voltage significantly decreased at $20^{\circ}C$, by 0.83 kV. With exposure to $NF_3/O_2/Ar$ plasma, the breakdown voltage of the film slightly decreased at $0^{\circ}C$, by 0.38 kV; however, the breakdown voltage significantly decreased at $20^{\circ}C$, by 0. 77 kV. In addition, for the entire temperature range, the breakdown voltage decreased more when sample was exposed to $NF_3/O_2/Ar$ plasma than to $CF_4/O_2/Ar$ plasma. The decrease of the breakdown voltage was lower in the anodic oxide film samples that were grown slowly at lower temperatures. The rate of breakdown voltage decrease after exposure to fluorine plasma was highest at $20^{\circ}C$, indicating that the anodic oxide film was most vulnerable to erosion by fluorine plasma at that temperature. Contamination particles generated by exposure to the $CF_4/O_2/Ar$ and $NF_3/O_2/Ar$ plasmas were measured on a real-time basis. The number of contamination particles generated after the exposure to the respective plasmas was lower at $5^{\circ}C$ and higher at $0^{\circ}C$. In particular, for the entire temperature range, about five times more contamination particles were generated with exposure to $NF_3/O_2/Ar$ plasma than for exposure to $CF_4/O_2/Ar$ plasma. Observation of the surface of the anodic oxide film showed that the pore size and density of the non-treated film sample increased with the increase of the temperature. The change of the surface after exposure to fluorine plasma was greatest at $0^{\circ}C$. The generation of contamination particles by fluorine plasma exposure for the anodic oxide film prepared in the present study was different from that of previous aluminum anodic oxide films.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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