펄스드 플라즈마를 이용한 $SiH_4-NH_3-N_2$ 에서의 SiN박막의 상온 증착 : Duty ratio 이온에너지와 굴절률에의 영향
(Room tempearture deposition of SiN film by using $SiH_4-NH_3-N_2$ plasma: Effect of duty ratio on Ion energy and Refractive index)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집
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- pp.206-207
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- 2009