Poly(urethane acrylate) siloxane oligomers with Interpenetrating polymer netwoked nanoparticles were prepared to synthesize hard coating solution by reaction with diisocyanates. The diisocyanate combined siloxane hard coating solution showed more flexibility than the siloxane solution. In addition, diisocyanate resulted in improvement of curl property and surface hardness in the siloxane solution. Of the used diisocyanates, isophorone diisocyanate and acryloyloxy ethyl diisocyanate were good for UV hard coating solution. This effect will decrease brittleness in the siloxane solution using for plastic display plate.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제17권3호
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pp.178-181
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2016
In this study a coating experiment was performed to fabricate blue light cut films, which represent a 390~430 nm cut off rate of more than 40% and a transmittance rate of more than 90%, using a roll-to-roll nano micro coating system. The study also analyzed the characteristics of the blue light cut films. Thus, the hardness, which is more than 3H, is ensured through fabricating films using a Sol-Gel process that will determine the proper hardness level. Also, the experiment shows excellent results by cutting blue light through a mixing blue light powder.
This work investigated the gamma-ray shielding performance, and the physical and mechanical properties of poly (methyl methacrylate) (PMMA) composites embedded with 0-44.0 wt% bismuth trioxide (Bi2O3) fabricated by the fast ultraviolet (UV) curing method. The results showed that the addition of Bi2O3 had significantly improved the gamma shielding ability of PMMA composites. Mass attenuation coefficient and half-value layer were examined using five gamma sources (Cs-137, Ba-133, Cd-109, Co-57, and Co-60). The high loading of Bi2O3 in the PMMA samples improved the micro-hardness to nearly seven times that of the pure PMMA. With these enhancements, it was demonstrated that PMMA/Bi2O3 composites are promising gamma shielding materials. Furthermore, the fast UV curing exerts its great potential in significantly shortening the production cycle of shielding material to enable rapid manufacturing.
We have manufactured a photoresist which has excellent dispersity and good applying property due to 330 cps of viscosity for environment-friendly and economical maskless screen plate making. And the photoresist applied on the screen stretched was exposed with mask by UV-LED light source so we could manufacture the photoresist which proper for the UV light source. And it was developed by air spray with $1.7\;kgf/cm^2$ of injection pressure. Because of the excellence of power and resolution of the UV-LED light sourse, the pencil hardness and solvent resistance of curing photoresist film were excellent as those of conventional photoresist film. Moreover the $100{\mu}m$-width stripe image which has sharp edges was formed. So we confirmed a possibility of dry development process by air spray method.
In this study, approached to improve durability of the multi-functional nano-pattern fabricated on the curved lens surface using nanoimprint lithography (NIL) was proposed, and the effects of the proposed methods on functionality after wear test were examined. To improve the mechanical property of ultraviolet(UV)-curable resin, UV-NIL was conducted at the elevated temperature around $60^{\circ}C$. In addition, micro/nano hierarchical structures was fabricated on the lens surface with a durable film mold. Analysis on the worn surfaces of nano-hole pattern and hierarchical structures and measurements on the static water contact angle and critical water volume for roll-off indicated that the UV curing process with elevated temperature is effective to maintain wettability by increasing hardness of resin. Also, it was found that the micro-scale pattern is effective to protect nano-pattern from damage during wear test.
Poly(urethane acrylate) siloxane oligomers with Interpenetrating polymer networked nanoparticles were prepared to synthesize hard coating solution by reaction with isophorone diisocyanate(IPDI) of 1, 2, 3, 4 phr. The structures and molecular weights of the synthesized solutions were characterized by IR spectroscopy and gel permeation chromatography, respectively. In the cross-cut test for the adhesion, all the solutions showed good adhesion of 5B regardless of the content of IPDI and film thickness. The addition of 1 phr IPDI resulted in the best pencil hardness. The IPDI combined siloxane hard coating solution showed more flexibility than the siloxane solution. These results will yield the improvement in the siloxane solution using for plastic display plate.
Chemical mechanical polishing (CMP) is a hybrid surface-polishing process that utilizes both mechanical and chemical energy. However, the recently emerging semiconductor substrate and thin film materials are challenging to process using the existing CMP. Therefore, previous researchers have conducted studies to increase the material removal rate (MRR) of CMP. Most materials studied to improve MRR have high hardness and chemical stability. Methods for enhancing the material removal efficiency of CMP include additional provision of electric, thermal, light, mechanical, and chemical energies. This study aims to introduce research trends on CMP using ultraviolet (UV) light to these methods to improve the material removal efficiency of CMP. This method, photocatalysis-assisted chemical mechanical polishing (PCMP), utilizes photocatalytic oxidation using UV light. In this study, the target materials of the PCMP application include SiC, GaN, GaAs, and Ru. This study explains the photocatalytic reaction, which is the basic principle of PCMP, and reviews studies on PCMP according to materials. Additionally, the researchers classified the PCMP system used in existing studies and presented the course for further investigation of PCMP. This study aims to aid in understanding PCMP and set the direction of future research. Lastly, since there have not been many studies on the tribology characteristics in PCMP, research on this is expected to be required.
Simplification of the manufacturing process in shoe making is essential to improve productivity and reduce production costs. To improve the adhesion of EVA foam used as a midsole, EVA/itaconated EPDM(EPDM-g-IA)(80/20wt%) blend was prepared using Torque Rheometer-Plasti-Corder, and 1,6-hexamethylenediamine/crosslinking agent/foaming agent/additive were mixed, followed by amidation reaction and foaming to prepare EVA/EPDM-g-IA foam for shoe midsole. In this study, we investigate the effect of the content of 1,6-hexamethylenediamine(0, 0.5, 1.0, 2.0, 3.0) on the mechanical properties, water-contact angle and adhesion of EVA/itaconated EPDM foam. As the content of 1,6-hexamethylenediamine increased, mechanical properties such as tensile strength, tear strength, tensile elastic modulus, hardness, and water-contact angle were lowered, but elongation at break and compression set(%) were increased. Both normal type and non-UV type adhesive strength increased with increasing diamine content. In particular, it was found that the adhesion strength of the non-UV type adhesion increased sharply with increasing diamine content. As a result, an adherend rupture occurs in a foam sample having a content of 1,6-hexamethylenediamine of 3phr. From this, it can be seen that the EVA/itaconated EPDM foam for shoe midsoles, which can be used for non-UV adhesion without primer and UV treatments, have been developed.
일반적으로 탁주 생산 공정에서 오존을 처리하는 경우는 용기 및 음용수의 소독을 주목적으로 하고 있다. 그러나 지하수 등에 오존을 이용하는 경우, 오존의 산화반응으로 탁주의 품질 에 긍정적인 효과를 보이는 것으로 나타났으며 담금 공정에서의 오존처리효과를 분석한 결과, 오존 처리시 수중의 오존의 오존농도가 1 ppm이하의 규정을 유지한 상태에서 오존주입량을 증가시키게 되면 오존 증가와 함께 에탄올의 생성량은 1차 담금 4일 째부터 20%이상 증가하는 것으로 나타났다. 특히 오존을 단독으로 처리하는 경우보다 오존과 자외선을 동시에 처리하는 경우에 에탄올 생성량은 10%이상 증가하는 것으로 나타났다. 또한, 오존의 주입시간에 따라 에탄올 발생량이 다르게 나타났으며 오존주입시간을 4시간 처리한 경우가 미 오존 처리한 경우와 비교하여 수중의 경도는 85%이상 감소되며 전기전도도는 50%이상 증가하였지만 수중의 산소농도는 1.2 ppm 미만으로 큰 차이가 나타나지 않았다. 지하수의 오존주입시간별 발효일 경과에 따라 에탄올 발생량을 비교해 본 결과 담금 첫날과 비교하여 담금일 4일후 최대 300% 차이가 나는 것으로 나타났다. 이상의 실험결론을 토대로 1차 담금에서 당의 생성량을 비교해 본 결과, 오존단독 처리와 오존과 자외선을 동시에 처리한 경우와 비교하였을 경우에 당의 생성량은 35%이상 증가하는 것으로 나타났다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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