• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2003년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.608-611
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• 2003

In this paper, laser direct micromaching is developed to fabricate micro patterns using UV laser ( λ$_3$= 355 nm). Experimentally, laser beam paths mainly influences the surface shape quality. Thus. we proposed laser beam path generator by extracting shape data in a blueprint worked through CAD modeler and using genetic algorithm that considers the characteristics of laser beam. The results show that various shapes of micro patterns could be manufactured using proposed method in this paper.

• 마이크로전자및패키징학회지
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• 제16권4호
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• pp.33-39
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• 2009

마스크리스 리소그래피(maskless lithography)에 응용하기 위한 마이크로렌즈 어레이(microlens array, MLA)가 석영의 습식 식각과 UV 접착제(UV adhesive)의 코팅을 바탕으로 개발되었다. 제작된 MLA의 초점거리는 ${\sim}45\;{\mu}m$ 정도였으며, 집광되는 광선의 초점은 ${\sim}1\;{\mu}m$로 측정되었다. MLA를 통과하며 초점을 맺은 빔(beam)의 크기 및 세기가 charge coupled device (CCD) 카메라와 빔 프로파일러(beam profiler)를 이용하여 각각 측정되었으며, 일정한 세기의 점들이 초점면에서 고르게 관찰되었다. 초점거리는 코팅된 UV 접착제의 두께에 따라 변화하였으며, UV 접착제의 두께가 두꺼울수록 짧아지는 경향을 보였다. 일반적인 마스크 얼라이너(mask aligner)를 이용한 MLA의 UV 포커싱(UV focusing)이 감광막(photoresist, PR) 상에서 실시되었으며, MLA를 통과한 빛이 감광막 위에 일정하게 집광되었다. 마스크 얼라이너와 MLA 사이의 거리 변화에 따라 감광막에 구현된 패턴 사이즈가 조절 되었다. 고온에서 오랜 시간이 지난 후에도 소자의 특성은 전혀 변함이 없었다.

• 소성∙가공
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• 제13권3호
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• pp.216-224
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• 2004

In this study, we have developed a new UV$({\lambda}=355nm)$ laser micromachining technology by direct ablation method without masks. This technology allows that 3D micro parts can be fabricated rapidly and efficiently with a low price. And it has a benefit of reducing fabricating process simply. Due to micro parts' fabrication, such technologies need the control of XYZ stages with high precision, the design of optical devices to maintain micron spot sizes of laser beam and the control technology of laser focus. The developed laser manufacturing process for laser micromachining is that, after extracting coordinates of shape data from CAD model data, a beam path considering manufacturing features of laser beam is created by using genetic algorithm. This generated manufacturing process is sent to stage controller. In order to improve the surface quality of micro parts, we have carried out experiments on iteration manufacturing and beam step-over by using a minimum focus size. Moreover, we have fabricated a micro-channel through the developed laser micromachining technology and verified it through the results.

• Korean Chemical Engineering Research
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• 제50권1호
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• pp.72-75
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• 2012

Strain-free AlGaN/GaN 나노선을 기판에 분산시킨 후 E-beam lithography(EBL)를 이용해 단일 나노선 자외선 센서를 제작하였다. 나노선의 구조적, 광학적 특성을 분석하기 위해 focused ion beam(FIB), photoluminescence, micro-Raman spectroscopy를 이용하여 나노선의 strain 및 형태를 조사하였다. 자외선 센서로서의 특성 여부를 확인하기 위하여 빛을 차단 한 조건과 자외선을 조사하는 조건하에서 current-voltage(I-V) 특성을 측정하였으며 각각 9.0 ${\mu}S$과 9.5 ${\mu}S$의 전기전도도(conductance)를 얻었다. 자외선 조사 조건하에서 excess carrier의 증가로 인해 전기전도도가 약 5%가 향상되었음을 알 수 있었다. 자외선을 반복적으로 조사하는 과정의 실험을 통해 우수한 포화 시간(saturation time)과 감쇠 시간(decay time)을 얻었다. 따라서 AlGaN/GaN 나노선은 자외선 센서로서 많은 가능성을 가지고 있음을 확인하였다.

• 한국식품영양과학회지
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• 제41권11호
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• pp.1632-1638
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• 2012

치콘의 미생물학적 안전성을 확보하기 위해 50 ppm 이산화염소수와 5 kJ/$m^2$ UV-C 및 2 kGy 전자빔 조사 병합처리에 따른 저장 중 미생물 수 및 품질 변화를 $4{\pm}1^{\circ}C$에서 11일 동안 저장하면서 측정하였다. 이산화염소수와 UV-C 병합처리 후 치콘의 총 호기성 세균 수는 대조구와 비교하여 1.49~2.92 log CFU/g, 효모 및 곰팡이는 1.63~1.78 log CFU/g의 감소를 보였다. 반면에, 이산화염소수와 2 kGy 전자빔 병합처리구의 경우 총 호기성 세균은 저장기간 동안 검출되지 않았으며, 효모 및 곰팡이 역시 11일 간의 저장기간 동안 나타나지 않았다. 이산화염소수와 전자빔의 병합처리는 대조구와 비교하여 치콘의 저장 중 Hunter 색도 값에 부정적 영향을 미치지 않았다. 관능검사에 있어서도 저장기간 동안 대조구와 비교 시 유의적인 차이가 없는 것으로 나타났다. 따라서 본 연구결과, 이산화염소수와 전자빔 조사의 병합처리가 치콘의 저장 중 오염될 수 있는 위해미생물의 감소와 외관적 품질유지에 효과적인 살균처리 기술이라고 판단된다.

• 한국레이저가공학회지
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• 제14권1호
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• pp.14-18
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• 2011

Semiconductor industry demands decrease in line/space dimensions of IC substrates. Particularly for IC substrates for CPU, line/space dimensions below $10{\mu}m/10{\mu}m$ are expected to be used in production since 2014. Conventional production technologies (SAP, etc.) based on photolithography are widely agreed to be reaching capability limits. To address this limitation, the embedded circuit fabrication technology using laser ablation has been recently developed. In this paper, we used a nanosecond UV laser and a picosecond UV laser to fabricate embedded circuit patterns into a buildup film with $SiO_2$ powders for IC substrate. We conducted SEM and EDS analysis to investigate surface quality of the embedded circuit patterns. Experimental results showed that due to higher recoil pressure, picosecond UV laser ablation of the buildup film generated a better surface roughness.

• 폴리머
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• 제29권6호
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• pp.588-592
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• 2005

자외선을 차단할 목적으로, 단일 모재를 사용함으로써 기존 방법이 갖고 있는 차단제의 적층에 따른 두께 증가와 접착제의 반응 온도에 따른 변형 등의 단점을 개선하고자 하였다. 화장품 용기 및 옥외용으로 사용 가능한 고분자 필름(폴리카보네이트) 표면에 이온 조사를 통하여 고분자 표면을 개질하였다. 표면 개질된 필름의 280$\∼$400 nm 사이 자외선 차단 특성, 표면의 화학 및 형태 변화 특성, 자외선에 대한 저항성을 W분광기, FTIR(ATR)과AFM, UV 촉진 내광성 시험기를 이용하여 측정하였다. 분석 결과, 개질된 고분자 필름은 자외선 전 영역을 차단할 수 있었고 이온의 주입량에 따라 차단율을 자유롭게 변화시킬 수 있었다. 이는 이온들의 주입으로 인한 고분자의 표면 화학 변화에 기인한다. 개질된 고분자 표면은 nm수준으로, 별도의 차단제가 필요없는 하나의 모재로, 자외선 차단을 위해 활용 할 수 있으리라 판단된다. 또한 자외선 조사에 따른 고분자의 색 변화 및 자외선 투과 특성 변화가 없음을 확인하여 일상 생활환경에서 지속적인 자외선 차단 방법으로 사용 가능하리라 기대할 수 있었다.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 1997년도 추계학술대회 논문집 학회본부
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• pp.665-668
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• 1997

We fabricated a number of optical fiber Bragg gratings by varying the UV beam parameters such as the laser energy density, pulse repetition rate and exposing time. The reflectance and the Bragg wavelength shift of the fiber Bragg gratings formed with a KrF excimer laser in real time depend strongly on the UV beam parameters. The index changes in the gratings during the exposing time are well fitted to the well known equations.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2006년도 추계학술대회 논문집
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• pp.519-520
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• 2006

• 한국식품저장유통학회지
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• 제20권1호
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• pp.45-51
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• 2013

UV-C 및 전자선 조사에 의한 막걸리의 품질변화를 측정하기 위하여 생막걸리를 UV-C 및 전자선 조사하고 $4^{\circ}C$에서 15일간 저장하여 이에 따른 품질 변화를 측정하였다. UV-C 및 전자선 조사에 의한 미생물 분석 결과, 전자선 조사가 UV-C 조사보다 막걸리 내 미생물을 제어하는 데 더 효과적인 기술로 확인되었다. UV-C 또는 전자선 및 저장기간에 따라 pH가 증가하는 경향을 보였다. 산도 측정 결과, 저장기간에 따라 UV-C 및 전자선 조사군이 대조군보다 산도가 유의적으로 증가하는 경향을 보였다. 명도의 경우 UV-C 및 전자선에 의해 그 값이 증가하는 경향을 보인 반면 저장기간이 증가함에 따라 감소하는 경향을 보였다. 적색도는 전자선 처리군이 다른 처리군에 비해 높은 값을 보였으며, 저장기간에 따른 변화는 일관적이게 나타나지 않았다. 황색도는 UV-C 및 전자선 조사에 따른 변화는 일관적이지 않았으나 저장기간에 따라 값이 증가하는 경향을 보였다. 환원당 함량 측정 결과 저장 초기 UV-C 및 전자선 조사에 의해 함량이 높았으나, 저장기간에 따라 대조군에 비해 빨리 감소하였다. 따라서, 전자선 조사가 UV-C 조사보다 막걸리 내 미생물을 효과적으로 제어할 수 있다고 판단된다. 그러나 막걸리에의 UV-C 또는 전자선 조사로 인해 발생되는 품질변화를 최소화하기 위한 방법 및 UV-C 또는 전자선 조사에 의한 화학적 특성 변화의 규명에 대한 지속적인 후속연구가 필요할 것으로 판단된다.