ICP-CVD 방법에 의해 성장된 탄소나노튜브의 Ni 및 Co 촉매 두께에 따른 구조적 물성 및 전계 방출 특성 분석 (Characterization of structural and field emissive properties of CNTs grown by ICP-CVD method as a function of Ni and Co catalysts thickness)
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- 대한전기학회:학술대회논문집
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- 대한전기학회 2003년도 하계학술대회 논문집 C
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- pp.1574-1576
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- 2003