50 nm 이상의 CMOS 기술에 이용되는 Spin-on Dielectric 박막 형성과 그 특성에 미치는 전구체의 영향 (The Effects of Precursor on the Formation and Their Properties of Spin-on Dielectric Films Used for Sub-50 nm Technology and Beyond)
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- 한국진공학회지
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- 제20권3호
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- pp.182-188
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- 2011