고주파 반응성 스퍼터링법에 의한 ${SiO_x}{N_y}$ 박막의 제작
(The preparation of ${SiO_x}{N_y}$ thin films by reactive RF sputtering method)
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- 한국광학회지
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- 제11권1호
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- pp.13-18
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- 2000