For advanced TFT-LCD manufacturing processes, dry etching of thin-film layers(a-Si, $SiN_x$, SID & gate electrodes, ITO etc.) is increasingly preferred instead of conventional wet etching processes. To dry etch Al gate electrode which is advantageous for reducing propagation delay time of scan signals, high etch rate, slope angle control, and etch uniformity are required. For the Al gate electrode, some metals such as Ti and Nd are added in Al to prevent hillocks during post-annealing processes in addition to gaining low-resistivity($<10u{\Omega}{\cdot}cm$), high performance to heat tolerance and corrosion tolerance of Al thin films. In the case of AI-Nd alloy films, however, low etch rate and poor selectivity over photoresist are remained as a problem. In this study, to enhance the etch rates together with etch uniformity of AI-Nd alloys, magnetized inductively coupled plasma(MICP) have been used instead of conventional ICP and the effects of various magnets and processes conditions have been studied. MICP was consisted of fourteen pairs of permanent magnets arranged along the inside of chamber wall and also a Helmholtz type axial electromagnets was located outside the chamber. Gas combinations of $Cl_2,{\;}BCl_3$, and HBr were used with pressures between 5mTorr and 30mTorr, rf-bias voltages from -50Vto -200V, and inductive powers from 400W to 800W. In the case of $Cl_2/BCl_3$ plasma chemistry, the etch rate of AI-Nd films and etch selectivity over photoresist increased with $BCl_3$ rich etch chemistries for both with and without the magnets. The highest etch rate of $1,000{\AA}/min$, however, could be obtained with the magnets(both the multi-dipole magnets and the electromagnets). Under an optimized electromagnetic strength, etch uniformity of less than 5% also could be obtained under the above conditions.
비이송식DC 플라즈마 토치를 제작하고 이를 이용하여 질화규소 분말을 제조하였다. Ar 가스를 사용하여 플라즈마를 발생시켯으며, 발생된 플라즈마 flame으로 반응가스 및 reactive quenching 가스를 도입하였다. 토치의 하단부에 2개의 slit를 장착하여 가스의 도입 위치를 변화시킬 수 있게 하였다. $SiCl_4와 NH_3$를 출발원료로 하여 질화규소 분말을 제조하였다. 얻어진 분말은 무정형이었으며, 반응부산물을 제거하고 $1420^{\circ}C$에서 질소 분위기하에서 가열함으로써 결정화된 질화규소 분말을 얻었다. XPD pattern 및 IR 스펙트럼으로부터 질화규소 분말을 확인하였고, TEM을 사용하여 전후의 형상을 관찰하였다.
본 연구는 $CaCl_2$$-Na_2$$CO_3$$-H_2$O 반응계의 생성물인 침강성탄산칼슘의 성상에 영향을 주는 인자들을 조사할 목적으로 수행되었으며, 탄산칼슘 동질이상의 생성수율, 입도, 백색도 등에 미치는 반응 용액 농도의 영향, 불순물의 영향, pH의 영향, 종결정의 영향, 반응용액 적하속도의 영향등을 검토하였다. 본 연구를 통하여 얻어진 주요 실험결과들은 아래와 같다. 1. 반응염의 농도가 크거나 그 적하속도가 빠를수록 반응생성물중 불안정한 aragonite과 vaterite의 생성수율이 증가하며 생성물의 입도는 미세해지는 경향을 보였다. 본 연구의 실험조건에서는 반응농도가 0.1~1.0mol/ι일 때 aragonite와 vaterite의 생성수율이 각각 80~90%, 75~82%로 가장 높았다. 2. 국내에서 산출되는 석회석 중에 주로 존재하는 6종의 불순성분($Fe_2$$O_3$, $Al_2$$O_3$, MgO, $SiO_2$, $Na_2$O, $K_2$O)을 구성하는 양이온을 반응용액속에 이온상태($SiO_2$는 500mesh 이하의 고체상태)로 첨가할 경우 Fe\ulcorner의 첨가량이 많을수록 생성물의 백색도가 저하하고 ${Fe^{3+}}/{CaCO_3}$몰분율이 0%일 경우 백색도 99.8에서 ${Fe^{3+}}/{CaCO_3}$몰분율이 10%일 경우 백색도 29.8), Mg\ulcorner의 첨가량이 많을수록 aragonite의 생성수율을 증가시키는 경향을 나타내었다. 3. pH 8~11 영역에서는 aragonite과 vaterite의 생성수율이 높고 pH 6~8과 11~13 영역에서는 calcite의 생성수율이 높았으나 pH 6~8에서 생성되는 calcite는 크기가 $1mu extrm{m}$이상인 조립의 능면체였으며 pH 11~13에서 생성되는 calcite는 미립의 능면체였다. 4. 종결정으로 calcite, aragonite, vaterite을 각각 생성 $CaCO_3$에 대한 중량백분율로 0~10% 첨가할 경우 calcite과 aragonite 종결정은 자신의 결정구조와 같은 $CaCO_3$동질이상의 생성수율을 증가시키나, vaterite은 불안정하여 종결정으로서의 역할을 하지 못하였다. 본 연구의 실험 조건중 $47^{\circ}C$에서 calcite Seed를 첨가하지 않을 경우 calcite의 생성수율은 50% 정도이나 calcite Seed를 6%이상 첨가하면 calcite의 생성수율이 거의 100%에 가깝게 증가하며, 동일조건에서 aragonite Seed를 첨가할 경우는 무첨가시 약 50%였던 aragonite의 생성수율이 2%이상 첨가하면 85%이상으로 증가하였다.
금산-완주지역 형석광화대내 석회암 및 화강암지역 지하수의 수문지화학 및 불소분포 특성을 연구하였다. 연구지역의 지하수는 공통적으로 Ca-HCO$_3$유형이며, 쥬라기 및 백악기 화강암지역의 일부 지하수는 각각 Ca-Na-HCO$_3$및 Na-HCO$_3$유형이다. 형석광화대의 광산폐수에 의한 음용지하수의 오염은 발견되지 않으나, 불소의 음용수 기준치를 초과하는 지하수가 백악기 화강암지역에서 집중적으로 발견된다. 백악기 화강암지역 지하수에는 불소가 최대 11.4 mg/$\ell$ 포함되어 있으며, 불소함량은 관정의 심도가 증가함에 따라 증가한다. 불소 지하수는 F함량에 대해 Na, HCO$_3$, Cl, SiO$_2$, pH 등은 양의 상관관계를, Ca는 음의 상관관계를 보이는 것은 지하수내 불소가 주로 분화지수가 매우 높은 화강암류내 함불소 규산염광물의 용해에 기원한 것임을 시사한다. 연구지역 지하수내 불소의 저감방안으로는 백악기 화강암지역에서의 음용수용 관정개발을 지양하고, 불가피한 경우에는 수질이 허용하는 범위내에서 관정의 깊이를 가능한 얕게하는 것이다.
본 연구는 다변량 통계분석을 이용하여 수리지화학적 특성을 분석하고, 주성분 분석을 통해 얻어진 변수를 설명하는 수리지화학적 과정에 대한 해석, 그리고 각 성분과 주성분을 이용한 공간정보에 대하여 지구통계기법을 적용하여 연구지역 지하수의 유동 및 순환 과정을 해석하고자 하였다. 제주도 지하수의 수질에 가장 많이 영향을 미치는 성분은 Cl과 $NO_3$이었으며, 특히 농업활동에 의해 증가되는 $NO_3$는 지하수 성분 중 가장 큰 변동을 보여주었다. 다변량 통계분석법인 주성분 분석(PCA)에 의한 수리지화학적 특성 분석 결과, 초기 3개의 주성분은 전체 분산의 $73.9\%$를 설명하였다. 주성분 1은 용존 이온의 증가를 나타내며, 주성분 2는 탄산염 광물의 용해와 질산염 오염의 영향, 주성분 3은 양이온 교환반응과 규산염광물의 용해과정을 지시한다. 실험적 반베리오그램 유형 분석 견과 지하수 성분은 크게 두 그룹으로 분류되며 각각의 그룹에는 EC, Cl, Na, $NO_3$와 $HCO_3,\;SiO_2,$ Ca, Sr이 속한다 지하수 성분의 공간분포 특징을 조사한 결과, 전기전도도(EC), Cl, Na는 해수의 영향을 받는 해안가로 갈수록 증가하는 경향을 보여주며, $NO_3$는 농경지의 분포와 밀접한 상관관계를 가진다. 이들 성분은 또한 지형과도 상관성을 가지며 이는 지하수 함양과의 관련성을 나타낸다. 요인 크리깅 수행 결과 PCI은 Cl, Na, EC의 공간분포와는 다른 양상을 보여주는데 이는 pH, Ca, Sr, $HCO_3$가 PCI에 미치는 영향 때문인 것으로 분석되었다 서부지역에서는 PC2의 이상대가 길게 나타나며 이는 탄산염 광물의 용해와 관련이 있는 것으로 사료된다. 이상의 결과로부터 연구지역 지하수에 대한 다변량 통계분석 및 지구통계 분석 기법의 적용은 수질에 대한 복합적 정보의 정량화와 공간 특성을 해석하는데 사용될 수 있다.
소금, 설탕을 이용해 제조한 pH 6.5의 침지액 처리와 유자 및 매실 농축액을 이용하여 각각 pH 4.5, 5.5로 조정한 침지액과 450 MPa의 초정수압 병행처리가 고등어 필렛의 저장성 및 품질에 미치는 영향을 알아보기 위하여 생균수, pH, VBN 함량, 산화도, 색도, VOCs, 관능평가를 실시하였다. 일반세균수를 측정한 결과, 기본 침지액 처리구에 비해 유자, 매실 침지액 및 초정수압의 병행처리구에서 균의 생육이 억제되는 것을 확인하였다. VBN 함량 측정 결과, 세 처리구 모두 저장 20일차까지 VBN 함량이 10 mg/100 g 이하로 나타나 신선한 상태를 유지하였다. 산화도를 측정한 결과, 기본 침지액의 경우 저장 20일차에 0.442 MDA mg/kg을 보였으나 유자 및 매실 침지액과 초정수압 병행처리의 경우 각각 기본 침지액의 산화도에 비해 33% 및 12% 억제함을 보여 병행처리 산화억제 효과를 확인하였다. 색도의 경우 초정수압 병행처리에 의해 명도, 백색도가 증가하고 적색도가 감소하는 경향을 보였다. 향기성분 분석 결과, 유자, 매실 침지액 및 초정수압 병행처리구에서 저장 20일차까지 sulfur류 및 acid류가 나타나지 않아 부패취나 비린내가 억제된 것으로 사료된다. 관능평가 결과, 저장 일차별 및 처리구별 유의적인 차이는 없었으나 유자, 매실 침지액 및 초정수압의 병행처리구에서 향 및 맛은 비린 향과 맛이 감소하였고 경도 및 탄력성은 증가함을 보였다. 결론적으로 고등어의 경우 저장 및 유통과정에서 산패와 미생물 증식에 의한 품질 저하가 가장 큰 문제점으로, 본 연구 결과와 같이 미생물의 효과적인 증식 억제 방법으로 침지액 처리 및 유자 또는 매실을 이용해 pH를 조절한 침지액과 초정수압의 병행처리는 고등어의 저장성 증진 및 품질 개선 효과를 통한 대중적 상품화에 크게 기여할 수 있을 것으로 사료된다.
We have prepared the polymethylene-bridged, dinuciear, half-sandwich constrained geometry catalysts (CGC)[Zr(η$\^$5/:η$^1$-C$\_$9/H$\_$5/SiMe$_2$NCMe$_3$)]$_2$[(CH$_2$)$\_$n/][n=6(9), n=12(10)]by treating 2 equivalents of ZrCl$_4$with the corresponding tetralithium salts of the ligands in toluene. $^1$H and $\^$13/C NMR spectra of the synthesized complexes provide firm evidence for the anticipated dinuciear structure. In $^1$H NMR spectra, two singlets representing the methyl group protons bonded at the Si atom of the CGC are present at 0.88 and 0.64 ppm, which are considerably downfield positions relative to the shifts of 0.02 and 0.05 ppm of the corresponding ligands. To investigate the catalytic behavior of the prepared dinuciear catalysts, we conducted copolymerizations of ethylene and styrene in the presence of MMAO. The prime observation is that the two dinuclear CGCs 9 and 10 are not efficient for copo-lymerization, which definitely distinguishes them from the corresponding titanium-based dinuclear CGC. These species are active catalysts, however, for ethylene homopolymerization; the activity of catalyst 10, which contains a 12-methylene bridge, is larger than that of 9 (6-methylene bridge), which indicates that the presence of the longer bridge between the two active sites contributes more effectively to facilitate the polymerization activity of the dinuciear CGC. The activities increase as the polymerization temperature increases from 40 to 70$^{\circ}C$. On the other hand, the molecular weights of the polyethylenes are reduced when the polymerization temperature is increased. We observe that dinuciear metallocenes having different-length bridges give different polymerization results, which reconfirms the significant role that the nature of the bridging ligand has in controlling the polymerization properties of dinuclear catalysts.
Plasma electrolytic oxidation (PEO) treatment was performed on cast Mg-6 wt%Al alloy solution-treated at 693K for 16h and aged at 498K. The surface roughness, thickness, micro-hardness, wear and corrosion properties of coatings on solution-treated and aged Mg-6 wt%Al alloy were investigated. The coatings on aged Mg-6 wt%Al alloy had thinner layer and lower micro-hardness and wear resistance than the solution-treated Mg-6 wt%Al alloy. As the aging time increased, the thickness of coatings decreased while the surface roughness was almost no changed. In addition, the micro-hardness and wear property of coatings decreased with increasing the aging time unlike the uncoated Mg-6 wt%Al alloy showing the peak micro-hardness and the best wear property after aging for 16 h. However, the coatings on Mg-6 wt%Al alloy peak-aged for 16h revealed the best corrosion resistance in 3.5% NaCl solution, which was explained based on the microstructural characteristics.
A new method determining the micro amount of cupferron spectrophotometrically was investigated and was considered on the various factors which affect on the method. The method was as follows; ferric alum solution was added in a suitably acidified solution of cupferron. After the precipitates of Fe(Ⅲ)-cupferrate were formed, they were extracted with chloroform and the absorbancy of the organic phase was measured by spectrophotometer, Beckmann Model B (1cm quartz cell). The stable maximum wavelength was 325 $m{\mu}$ at 3.0 to 5.6 of the optimum pH and it obeyed on Boer's law in the range of 5.76 ${\gamma}/ml$ to 74.80 ${\gamma}/ml$ of cupferron. The maximum wavelength was independent on pH, concentration of cupferron and of ferric alum. The absorbancy at 325 $m{\mu}$ was not affected by $SO_4^{--}$ and Ac, but was varied by $Cl^-$ and $NO_3^-$. Sulfuric acid and acetate buffer are preferred to the acid and buffer solution adjusting the pH. At higher acidity, however, the absorbancy was somewhat lowered because of the decomposition of cupferron, and at too high concentration of ferric alum, it was also decreased because of the difficulty in the extraction. By this method, it was able to determine cupferron quantitatively in the percent error of 1.18.
In this paper, we studied the physical and electrical characteristics of $\textrm{WSi}_{x}$ thin film with respect to the adoption of the DCS (dichlorosiliane) post flow and the variation of deposition temperature. XRD measurements show that as deposited thin film has a hexagonal structure regardless of deposition Process. However, we find that the phase of thin film has changed to a tetragonal structure after the heat treatment at $680^{\circ}C$. Adoption of DCS post flow and increment of deposition temperature result in the increments of Si/W composition ratio. These conditions also result in the increment of sheet resistance by the amount 3.0~4.2$\Omega$/$\square$, but give the tendency in the decrement of stress by 0.27~0.3 E10dyne/$\textrm{cm}^2$. We also find that the contact resistance of word line and bit line interconnection was decreased by the amount 5.33~16.43$\mu$$\Omega$-$\textrm{cm}^2$, when applying DCS post flow and increasing deposition temperature.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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