• 제목/요약/키워드: SF Film

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약물 독성 평가용 생체외 각막 모델 제작 연구 (Fabrication of Ex vivo Cornea Model for a Drug Toxicity Evaluation)

  • 김선화;박상혁
    • 대한의용생체공학회:의공학회지
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    • 제40권5호
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    • pp.143-150
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    • 2019
  • To evaluate the toxicity of ophthalmic drug, the Draize test and Bovine Corneal Opacity and Permeability (BCOP) test commonly used. In Draize test, experimental animals were under stress and pain due to long-term exposure of drug. In addition, regarding physiological functions, animal model is not perfectly reflected a human eye condition. Although some models such as $EpiOcular^{TM}$, HCE model, LabCyte Cornea-Model, and MCTT $HCE^{TM}$ were already presented advanced cornea ex-vivo model to replace animal test. In this sense, cornea tissue structure mimicked ex-vivo toxicity model was fabricated in this study. The corneal epithelial cells (CECs) and keratocytes (CKs) isolated from rabbit eyeball were seeded on non-patterned silk film (n-pSF) and patterned silk film (pSF) at $32,500cells/cm^2$ and $6,500cells/cm^2$. Sequentially, n-pSF and pSF were stacked to mimic a multi-layered stroma structure. The thickness of films was about $15.63{\mu}m$ and the distance of patterns was about $3{\mu}m$. H&E stain was performed to confirm the cell proliferation on silk film. F-actin of CKs was also stained with Phalloidin to observe the cytoskeletal alignment along with patterns of the pSF. In the results, CECs and CKs were shown the good cell attachment on the n-pSF and pSFs. Proliferated cells expressed the specific phenotype of cornea epithelium and stroma. In conclusion, we successfully established the ex-vivo cornea toxicity model to replace the eye irritation tests. In further study, we will set up the human ex-vivo cornea toxicity model and then will evaluate the drug screening efficacy.

SF 영화 <매트릭스>에 나타난 문화적 혼성성 (Cultural Hybridity in SF Film )

  • 황혜진;이승환
    • 한국콘텐츠학회논문지
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    • 제5권5호
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    • pp.92-99
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    • 2005
  • 특정 문화 콘텐츠에 대한 대중적 호응의 이면에서 펼쳐지는 정치경제학과 개인의 심리학에 이르기까지의 드라마를 완전히 이해하기란 쉽지 않다. 다만 장르영화의 흥망성쇠에서도 볼 수 있듯이 대중은 영화라는 문화 콘텐츠를 통해 새로움과 진부함이 교차하는 지점, 즉 자신이 알고 있는 세계의 현존을 확인하는 동시에 그 너머의 세계에 대한 비전을 통해 삶의 의미를 재구성하고자 한다는 것은 분명하다. 본고는 이와 같은 맥락 안에서 <매트릭스> 시리즈의 서사가 제시하는 혼성적 특징을 서사와 인물, 함축적 의미의 저장고로 존재하는 종교적/철학적 질문의 측면에서 분석하고자 한다. 이러한 분석은 새로움과 진부함의 경계 사이에서 현란한 곡예를 보여줌으로써 대중성을 획득한 동시에 SF 영화의 담론을 활성화시킨 <매트릭스> 시리즈의 전략을 이해할 수 있는 하나의 방안이 될 것이다.

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$SF_6$ 대체가스 연구동향 (Trends on the Research for Alternatives of $SF_6$ Gas)

  • 이동희
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2002년도 하계학술대회 논문집 C
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    • pp.1403-1406
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    • 2002
  • Environmental impact of human activities has become a great concern in most of the countries world-wide, and for years. It has recently focused on potential climate changes due to the increase of green house gases content in the atmosphere. One of these gases is $SF_6$, which is an essential material in electrical applications having excellent dielectric and arc-quenching properties. Though the actual contribution of $SF_6$ to global warming is negligible at present, the control of $SF_6$ emissions seems to be nevertheless imperative. Actually, it is listed in the Kyoto protocol that emissions should not only be duly reported but also the electrical industry which is now the major user of this gas must be able to show that it is possible to use this gas and at the same time preserve the environment. For the development of environmentally-benign electric power equipment and systems, novel gases or gas mixtures are strongly required as the alternatives of $SF_6$ gas. Until now, most research work is focused on the $SF_6/N_2$ mixed gas which is suitable for application in the electrical apparatus with slightly non-uniform fields. Recently, $SF_6/CO_2$ mixed gas also is expected to be promising as a $SF_6$ alternative, especially in highly non-uniform fields and in a gas-impregnated film insulation system. Including these results, the author reviews the research trend or reducing the environmental impact of $SF_6$ gas in this paper.

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ZnO 박막의 fluorine-계 유도결합 플라즈마 식각 (Fluorine-based inductively coupled plasma etching of ZnO film)

  • 박종천;이병우;김병익;조현
    • 한국결정성장학회지
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    • 제21권6호
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    • pp.230-234
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    • 2011
  • $CF_4$ Ar 및 $SF_6$/Ar 유도결합 플라즈마을 이용하여 ZnO 박막의 고이온밀도 플라즈마 식각을 수행하였다. $10CF_4$/5Ar, $10SF_6$/5Ar 유도결합 플라즈마에서 최고 ~1950 ${\AA}$/min과 ~1400 ${\AA}$/min의 식각 속도를 확보하였다. 대부분의 조건 하에서 식각된 ZnO 표면은 식각 전보다 더 낮은 표면조도 값들을 나타내었다. $10CF_4$/5Ar 유도결합 플라즈마에서 Ni mask는 ZnO에 대해 최고 11의 높은 식각 선택도를 나타낸 반면에 Al은 이보다 낮은 1.6~4.7 범위의 식각선택도를 나타내었다.

설포베타인 키토산의 실크 블렌드 필름의 제조 및 그들의 성질 (Preparation of Sulfobetaine Chitosan, Silk Blended Films, and Their Properties)

  • 구자성;차재령;오세행;공명선
    • 폴리머
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    • 제38권1호
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    • pp.54-61
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    • 2014
  • Bombyx mori silk fibroin(SF)과 블렌드 필름을 만들기 위하여 키토산에 1,3-propanesultone을 반응시켜 수용성 sulfobetaine chitosan(SCs)을 제조하였다. 여러 가지 비율의 SF/SCs 블렌드 필름을 B. mori SF와 SCs의 수용액을 혼합하여 제조하였다. 수용액으로부터 얻어진 SF/SCs 블렌드 필름의 구조와 형태 변화는 분광학적 및 열적 분석을 통해 규명하였다. SF와 SCs의 혼합 비율에 따른 인공 피부나 화상치료 목적의 비이오재료로서의 물리적 및 기계적 성질에 미치는 영향을 조사하였다. X-선 분석으로 두 생체고분자 사이에 좋은 친화성을 보여주고 있음을 알 수 있었으며 기계적 성질도 SCs의 함량이 증가하면 크게 증가하였다. $37^{\circ}C$에서 phosphate buffered saline solution 용액 중에서 in vitro 분해 실험을 8주 동안 시행한 결과 46.4%가 분해됨을 알 수 있었다. MC3T3-E1 세포에 의한 독성 실험 결과 무독성을 나타내 주었으며, 3일의 배양 후 SF/SCs 필름의 상대 세포 수는 최적화된 tissue culture plastic보다 약간 낮게 나타남을 알 수 있었다.

영화 타이틀시퀀스 제작을 위한 물질성 (Materiality for Producing the Title Sequence of Film)

  • 신승윤;김미진;문요한
    • 한국콘텐츠학회논문지
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    • 제13권10호
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    • pp.160-169
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    • 2013
  • 타이틀시퀀스에서 활용된 물질은 영화의 스타일과 내용을 포괄적으로 내포하고 있다. 그러므로 어떤 물질을 선택하는가에 따라 정서적 표현의 효과가 달라질 수 있다. 이에 따라 최근 20년간의 영화 타이틀시퀀스 42편을 수집하여 소재를 분류하고 기호학사각형을 이용해 물질의 범주를 정의하였다. 물질도의 강약을 검증하기 위해 설문하여 3단계의 물질도를 구분하고 영화의 장르에 따라 어떤 범주의 물질성이 활용되었는지 조사하였다. 분석 결과 물질성은 장르의 구분 없이 내용에 따라 선택되었으나 물질도의 차이는 있었다. 강한 물질도는 스릴러와 SF.미스테리 장르에서 사용되었고, 중간 물질도는 전반적으로 활용되나 특히 드라마 장르와 액션에서 활용되었다. 약한 물질도 또한 다양한 장르에서 활용되었으나 특히 공포, SF 미스테리 장르에서 활용되었다. 본 논문은 영화를 상징적으로 시각화하는 타이틀시퀀스 제작에 있어 물질의 선택에 의한 표현 방법 연구를 제안하였다는데 의의가 있다.

RPCVD를 이용한 SiOF박막의 형성 및 특성 (Formation and Characterization of SiOF films using Remote Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition)

  • 이상우;김제덕;김광호
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 1995년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.105-108
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    • 1995
  • The inter-metal dielectric SiOF films were fabricated using remote plasma-enhanced chemical vapour deposition with addition of SF$\sub$6/ gas. SiOF bond formation in these films was recognized by a chemical bonding structural study using FT-IR. The deposition rate and the dielectric constant of a deposited films were decreased with increasing SF$\sub$6/ gas. It was observed that leakage current of SiOF film was reduced the one order compared to a film without addtion of SF$\sub$6/ gas.

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$SF_6$ 플라즈마 방전을 이용한 G3AS-MIS 커패시터의 제작 밑 특성 (Fabrication and Properties of GaAs-MIS Capacitor using $SF_6$ Plasma Discharge)

  • 이남열;정순원;김광호;유병곤;이원재;유인규;양일석
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 1999년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.29-32
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    • 1999
  • $GaF_3$ films were directly grown on p' and p-type GaAs(100) substrates using a $SF_6$ plasma discharge system. GaAs MIS(Meta1-Insulator-Semiconductor) capacitor was successfully fabricated for about 1 hour at temperature $290^{\circ}C$ using the as-grown $GaF_3$ films. The as-grown films on p'-GaAs exhibited a current density of less than 6.68 $\times$ $1O^{-9}$ A/$cm^2$ at a breakdown field of 500kV/cm and a refractive index of 2.0 ~ 2.3 at a wavelength of 632.8 nm. The dielectric constant was about 5 derived from 1 MHz capacitance-voltage (C-V) measurements. Dielectric dispersion of the fluoridated films on p'-GaAs measured ranged from 100 Hz to 10 MHz was not observed.

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SF6/Ar 유도결합플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성에 관한 연구 (A Study of Etching Characteristics of the ZnO Thin Film Using a SF6/Ar Inductively Coupled Plasma)

  • 강성칠;이윤찬;이진수;권광호
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제24권12호
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    • pp.935-938
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    • 2011
  • The etching characteristics of ZnO and etch selectivities of ZnO to $SiO_2$ in $SF_6$/Ar plasma were investigated using Inductively-coupled-plasma (ICP). The maximum etch rates of ZnO were 6.5 nm/min at $SF_6$(50%)/Ar(50%), Source power (700 W), Bias power (250 W), Working pressure(8 mTorr). The etch rate of ZnO showed a non-monotonic behavior with increasing from 0% to 50% Ar fraction in $SF_6$/ Ar plasma. The plasma diagnostic were characterized using Optical Emission Spectroscopy (OES) analysis measurements.