• 전기전자학회논문지
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• 제20권2호
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• pp.167-170
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• 2016

정적 램의 비트라인을 정밀하게 추적하는 감지증폭기의 enable 신호를 만들기 위해 replica bit-line 기술 (RBL)이 사용된다. 하지만, 공정으로 인한 문턱전압의 변화는 replica bit-line 회로에 흐르는 전류를 변화시키고 이는 감지증폭기의 enable 신호 생성 시간 ($T_{SAE}$)을 변화시키며, 결과적으로는 읽기 동작을 불안정하게 한다. 본 논문에서는 conventional replica bit-line delay ($RBL_{conv}$)구조 및 $T_{SAE}$ 변화를 감소시킬 수 있는 개선 구조인 dual replica bit-line delay (DRBD)구조와 multi-stage dual replica bit-line delay(MDRBD)구조를 소개하고, 14nm FinFET 공정, 동작전압 0.6V에서 각 기술들에 대한 읽기 성공률이 $6{\sigma}$를 만족하는 최대 on-cell 개수를 simulation을 통해 찾고 이때 각 구조에 대한 performance와 에너지를 비교했다. 그 결과, $RBL_{conv}$ 대비 DRBD와 MDRBD의 performance는 각각 24.4%와 48.3% 저하되고 에너지 소모는 각각 8%와 32.4% 감소된 것을 관찰하였다.

• 한국산학기술학회논문지
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• 제12권6호
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• pp.2729-2734
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• 2011

본 논문에서는 DC 정합회로를 갖는 능동 Replica LDO 레귤레이터에 대하여 나타내었다. Replica단과 출력단의 DC전압을 정합하기 위하여 DC정합회로를 설계하였다. 능동 Replica LDO 레귤레이터의 PSR특성은 일반적인 레귤레이터 보다 큰 값을 가질 수 있다. 설계된 DC정합회로는 Replica 레귤레이터에서 발생할 수 있는 단점을 줄여준다. 또한 전체회로를 능동회로로 설계함으로써 칩면적을 줄이고 수동저항을 사용할 때 발생하는 열잡음을 제거할 수 있다. 0.35um CMOS 파라미터를 사용하여 HSPICE 시뮬레이션한 결과, DC정합회로를 이용하여 설계된 레귤레이터의 PSR특성은 -28dB@10Hz로써 DC정합회로를 사용하지 않는 일반적인 레귤레이터의 -17dB@10Hz보다 개선될 수 있음을 확인하였다. 레귤레이터의 DC출력 전압은 3V이다.

• 한국의류학회지
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• 제29권7호
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• pp.1008-1017
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• 2005

When we develop 2D pattern from replica of human body with small pieces, it is inevitable to have some replica pieces overlapped or departed. In this study, the optimized method of 2D pattern development from the 3D replica pieces was investigated using dress-form. Among six arrangement methods, anchoring two vertexes of a replica to neighboring vertexes of a next replica induces the optimized 2D pattern by evenly distributing stress across the 3D replica pieces. Anchoring neighboring vertexes resulted in automatic widening k overlapping (W & O) the interspaces among replicas of dress-form, thereby stress was distributed more evenly than any other method. W&O arrangement method was verified to be the best by examining the 3D space distribution images between body surface and twelve experimental garments.

• 한국정보처리학회:학술대회논문집
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• 한국정보처리학회 2006년도 춘계학술발표대회
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• pp.1447-1450
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• 2006

단순한 데이터통신을 위한 넷(Net)이 정보 교환의 혁명을 일으켰던 웹(Web)으로 발전하였고, 현재 웹은 신경망 형태의 인터넷 구조를 갖는 그리드(grid)를 향해 발전하고 있다. 정보의 교환 및 분산된 자원을 공유하기 위한 그리드 컴퓨팅은 자원의 발견 뿐 만 아니라, 접근 속도와 제한된 자원의 공유를 비롯한 여러 문제점을 가지고 있다. 특히, 데이터에 대한 접근 속도와 제한적인 데이터 공유 문제를 해결하기 위해 Replica 서비스가 제안되었으나, 이러한 Replica 서비스를 원활하게 지원하기 위해서는 Replica 경로 및 정보들을 목록으로 구성해야만 한다. 현재 그리드 컴퓨팅 분야에서 이러한 목록을 구현하는 것과 동시에 최적의 조건을 찾아가는 기법에 대한 연구가 활발히 진행 중이다. 따라서, 본 논문에서는 Replica 서비스를 최적화하기 위한 기존의 연구들을 분석하고 Data Location Service를 이용하여 Replica 서비스를 최적화하는 방법을 제안하였다.

• 한국시뮬레이션학회논문지
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• 제18권3호
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• pp.61-71
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• 2009

서버 재설정 시스템은 분산된 환경 하에서 동일한 콘텐츠를 복사하여 사용자의 콘텐츠 요청이 생겼을 때 빠르게 콘텐츠를 제공함으로써 CSN(Client-Server Network) 시스템보다 효과적으로 서비스를 제공한다. 많은 복제서버가 지역적으로 넓게 퍼져있기 때문에 사용자의 정보를 참고하여 최적이라고 판단되는 복제서버를 지정해주는 것이 중요하며, 경로 재설정기가 효과적으로 구축이 되었을 때 사용자에게 유연하게 콘텐츠를 제공할 수 있다. 본 논문에서는 의사결정 트리 기법을 통해 사용자에게 적합한 후보 복제서버 리스트를 생성하고 생성된 리스트 내에 속하는 복제서버의 가용율을 고려하여 최적의 복제서버를 선택한다. 또한, 복제서버의 정보 갱신을 위해 발생되는 복제서버와 경로 재설정기의 반복적인 통신 메시지를 줄이기 위해 각 복제 서버의 가용율을 예측하여 경로 재설정기의 부하와 네트워크의 사용을 줄여주는 가용율 기반의 서버 재설정 시스템을 제안한다. 이렇게 제안된 시스템을 통해 선택된 복제서버의 경로를 사용자에게 통보해 주면, 사용자는 직접 복제서버로 접속을 함으로써 사용자는 효율적으로 콘텐츠를 제공받을 수 있다.

• 대한전자공학회:학술대회논문집
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• 대한전자공학회 2003년도 하계종합학술대회 논문집 II
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• pp.1201-1204
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• 2003

This paper described a replica-delay adaptive lock-acquisition scheme for high-speed DLLs. The proposed scheme provides the fast and correct locking cycle that is variable according to the magnitude of the arbitrary replica delay (fixed delay). The scheme guarantees the wide operation range and the fast lock-aquisition time. It has been confirmed by HSPICE simulations in a 0.35${\mu}{\textrm}{m}$ CMOS process.

• 대한치과보철학회지
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• 제55권4호
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• pp.372-380
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• 2017

목적: 본 연구는 보철물의 적합도를 계측하는 두 가지의 측정방법을 평가하기 위해 지르코니아로 전부도재관을 제작하고 replica technique과 triple-scan protocol을 이용하여 전부도재관의 변연 및 내면 적합도를 비교 연구하고자 하였다. 재료 및 방법: 타이타늄의 지대치 모형을 제작하여 20개의 지르코니아 전부도재관을 제작하였다. 제작된 지르코니아 전부도재관 10개는 replica technique을 이용해 복제하고 복제된 시편을 협설, 근원심으로 절단하여 변연 및 내면 적합도를 측정하였고, 다른 10개의 전부도재관은 triple-scan protocol을 이용하여 협설과 근원심으로 단면을 형성하고 변연 및 내면 적합도를 계측하여 통계 분석하였다 (${\alpha}=.05$). 결과: 변연과 내면 적합도는 replica technique $49.86{\pm}29.69{\mu}m$, triple-scan protocol $75.35{\pm}64.73{\mu}m$로 유의한 차이가 있었고 (P < .001), 내면 적합도만을 측정한 결과 각각 $58.38{\pm}31.77{\mu}m$, $64.00{\pm}46.43{\mu}m$로 유의한 차이가 없었다 (P > .343). 결론: Replica technique과 triple-scan protocol을 이용하여 전부도재관의 변연 및 내면 적합도를 비교 측정한 결과 triple-scan protocol에서의 변연 적합도가 크게 측정되었고, 내면 적합도만 비교해 본 결과 통계적인 유의한 차이가 없었다.

• 한국재료학회지
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• 제14권1호
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• pp.78-82
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• 2004

In this study, the degree of creep damages on the weldment accelerated creep degradation was nondestructively evaluated by replica method. The frequency of creep cavities occurrence has been observed highly at the intercritical HAZ. The life fraction of weldment damaged by creep has shown from 0.25(damage grade: 2) to 0.75(damage grade: 4) when it reptured. The degree of creep damages is considered to be evaluated by the metallographic replica method which is one of nondestructive evaluation methods.

• 한국산학기술학회:학술대회논문집
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• 한국산학기술학회 2011년도 춘계학술논문집 1부
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• pp.362-365
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• 2011

본 논문에서는 PSRR특성을 향상할 수 있는 능동 Replica LDO레귤레이터 회로를 설계하였고, 능동 Replica LDO레귤레이터의 Replica단과 출력단에서 발생할 수 있는 DC전압 부정합을 최소화하기 위하여 DC정합이 가능한 전압제어회로를 설계하였다. 설계된 회로에서 DC정합을 위한 전압제어회로를 사용함으로써 PSRR 특성향상과 함께 안정된 출력특성을 얻을 수 있었다. HSPICE 시뮬레이션 결과, 5V 가변입력할 때, DC출력특성은 3V∼3.12V까지 일정한 값을 유지함을 알 수 있었으며 PSRR특성은 -28@10HZ로 확인되었다.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제34권4호
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• pp.262-268
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• 2021

For the past several decades, various next-generation patterning methods have been developed to obtain well-designed nano-to-micro structures, such as imprint lithography, nanotransfer printing (nTP), directed self-assembly (DSA), E-beam lithography, and so on. Especially, nTP process has much attention due to its low processing cost, short processing time, and good compatibility with other patterning techniques in achieving the formation of high-resolution functional patterns. To transfer functional patterns onto desirable substrates, the use of soft materials is required for precise replication of master mold. Here, we introduce a simple and practical nTP method to create highly ordered structures using various polymeric replica materials. We found that polymethyl methacrylate (PMMA), polystyrene (PS), and polyvinylpyridine (PVP) are possible candidates for replica materials for reliable duplication of Si master mold based on systematic analysis of pattern visualization. Furthermore, we successfully obtained well-defined metal and oxide nanostructures with functionality on target substrates by using replica patterns, through deposition and transfer process. We expect that the several candidates of replica materials can be exploited for effective nanofabrication of complex electronic devices.