본 연구는 연구개발 외주비중(총연구개발비 중 외부 연구개발비 비율)에 영향을 주는 기업요인을 분석하는 것을 목적으로 한다. 이와 관련된 4개의 가설을 검증하기 위해 통계청의 2006년 기업활동실태조사 데이터를 이용해 토빗분석을 수행했다. 본 논문의 주요 결과를 요약하면 다음과 같다. 첫째, 기술역량이 높은 기업일수록 연구개발 외주비중이 높다. 즉 근로자수 대비 특허수 또는 연구개발 집약도(매출액 대비 연구개발비)가 높은 기업은 연구개발 외주에 의존하는 경향이 있다. 그러나 사내연구소를 보유한 기업의 경우 연구개발 외주를 주더라도 그 비중이 낮았다. 둘째, 혁신활동의 보완재로 IT솔루션을 활용하는 기업은 연구개발 외주비중이 높다. 셋째, 대기업일수록 내부 연구개발보다 외부 연구개발비의 비중이 높다.
This study examines the relationship between R&D investment and subsequent outputs of the research activity. Usually, there is some time difference between the production of research outputs, such as academic papers and application or registration of patents, and the investment of R&D expenditure. The time lag for producing this kind of research outputs should be considered to evaluate the performance of research activity exactly. The purpose of this study is to identify time lag effect between the times of input and output of a R&D activity and to derive the degree of time lag using the data set of a long term R&D program supported by Korean government. A modified Almon model is suggested to identify the time lag effect between input and output of research activities performed by this program. Time-series cross-section data from 16 research centers between 2001 and 2009 are used to find time lag effect.
본 논문은 다국적기업 R&D랩들의 중국내 비즈니스활동이 활성화됨에 따라, 다국적기업이 중국에 어떤 진출동기로 어떤 유형의 R&D랩을 설립하는지에 대한 분석을 진행하고자하였다. 다국적기업 R&D랩의 중국진출동기를 중국의 시장이나 고객을 확보하기 위한 시장요인, 중국의 훌륭한 인적자원을 활용하기 위한 인적자원요인, 중국내 경쟁에서 경쟁우위를 차지하기 위한 경쟁우위요인과 정치적 환경요인 4가지로 분류하고, R&D랩 유형을 글로벌 기술센타, 현지 시장지원 랩, 현지 기술지원 랩 등 3가지 유형으로 분류하여 진출동기별 선택 가능한 R&D랩 유형을 규명하였다. 그 결과, 시장요인을 지향하거나 경쟁우위를 지향하는 다국적기업들은 현지 시장지원 랩을, 중국의 자원요인을 지향하는 다국적기업들은 글로벌 기술센터를 많이 설립하는 것으로 나타났다. 또한 중국의 감세, 면세 등 정책적 이점을 지향하여 R&D랩을 진출하는 다국적기업들은 현지 기술지원 랩을 선택하는 경우가 많았다.
Kim, Sangsig;Sung, Man Young;Hong, Jinki;Lee, Moon-Sook
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제1권1호
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pp.26-31
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2000
The ~1540 nm $^4$$I_{13}$ 2/ longrightarro $w^4$$I_{15}$ 2/ emissions of E $r^{3+}$ in Er-implanted GaN annealed at temperatures in the 400 to 100$0^{\circ}C$ range were investigated to gain a better understanding of the formation and dissociation processes of the various E $r^{3+}$ sites and the recovery of damage caused by the implantation with increasing annealing temperature ( $T_{A}$).The monotonic increase in the intensity of the broad defect photoluminescence(PL) bands with incresing $T_{A}$ proves that these are stable radiative recombination centers introduced by the implantation and annealing process. Theser centers cannot be attributed to implantation-induced damage that is removed by post-implantation annealing. Selective wavelength pumpling of PL spectra at 6K reveals the existence of at least nine different E $r^{3+}$ sites in this Er-implanted semiconductor. Most pf these E $r^{3+}$ PL centers are attributed to complexed of Er atoms with defects and impurities which are thermally activated at different $T_{A}$. Only one of the nine observed E $r^{3+}$ PL centers can be pumped by direct 4f absorption and this indicates that it is highest concentration E $r^{3+}$ center and it represents most of the optically active E $r^{3+}$ in the implanted sample. The fact that this E $r^{3+}$ center cannot be strongly pumped by above-gap light or broad band below-gap absorption indicates that it is an isolated center, i.e not complexed with defects or impurities, The 4f-pumped P: spectrum appears at annealing temperatures as low as 40$0^{\circ}C$, and although its intensity increase monotonically with increasing $T_{A}$ the wavelengths and linewidths of its characteristic peaks asre unaltered. The observation of this high quality E $r_{3+}$PL spectrum at low annealing temperatures illustrates that the crystalline structure of GaN is not rendered amorphous by the ion implantation. The increase of the PL intensities of the various E $R_{3+}$sites with increasing $T_{A}$is due to the removal of competing nonradiative channels with annealing. with annealing.annealing.
국가 R&D의 투자 효율을 제고할 수 있는 시스템에 대한 요구에 따라 한국과학기술정보연구원(KISTI)의 주관으로 구축 중인 국가과학기술종합정보시스템(NTIS)은 정보화 전략의 일관성 확보와 정보화 투자의 효율성 확대를 위하여 ITA를 수립하여 활용하고 있다. 본 연구에서는 여러 국가연구개발사업 관리 기관을 연계하는 NTIS 구축을 위한 NTIS ITA의 정립절차와 수립된 ITA를 소개하고 ITA 수립의 시사점과 기대효과를 알아본다.
본 연구는 외국의 대학과 사이언스파크, 테크노파크 등에 소재한 기술창업보육기관의 운영에 대한 사례를 다루었다. 기술창업보육센터는 지역경제 활성화, 일자리창출, 신 벤처산업의 육성이라는 점에서 공통점이 있으며 국내 센터운영과 비교하면 여러 가지 차이점이 있다. 외국은 기술창업보육센터 입지를 국가정책차원에서 경제적인 낙후성과 지역의 연관 산업을 고려하여 센터를 특성화하며 전문가 협력네트워크 구축과 운영을 활성화하고 있다. 입주기업은 산학협력을 통해 기술완성도를 높이며 대학과 연구소는 연구개발성과를 사업화로 연계하여 기술력 있는 벤처창업을 촉진함으로써 spin-offs를 통한 기술창업자들을 육성하고 있다. 외국사례를 통해 국내 기술창업센터 운영에 대한 시사점과 성공적인 센터 운영방안을 제시하였다.
Chronic inflammation has been implicated as one of the important etiological factors in insulin resistance and type 2 diabetes mellitus (T2DM). To investigate the role of anti-inflammatory cytokines in the development of T2DM, we conducted a case-control study to assess the association between IL4/IL4R polymorphisms and disease risk. We firstly identified single nucleotide poly-morphisms (SNP) at IL4 and IL4RA loci by sequencing the loci in Korean participants. Case-control studies were conducted by genotyping the SNPs in 474 T2DM cases and 470 non-diabetic controls recruited from community-based cohorts. Replication of the associated signals was performed in 1,216 cases and 1,352 controls. We assessed effect of IL4 -IL4RA interaction on T2DM using logistic regression method. The functional relevance of the SNP associated with disease risk was determined using a reporter expression assay. We identified a strong association between the IL4 promoter variant rs2243250 and T2DM risk (OR=0.77; 95% CI, 0.67~0.88; p=$1.65{\times}10^{-4}$ in the meta-analysis). The reporter gene expression assay demonstrated that the presence of rs2243250 might affect the gene expression level with ~1.5-fold allele difference. Our findings contribute to the identification of IL4 as a T2D susceptibility locus, further supporting the role of anti-inflammatory cytokines in T2DM disease development.
Purpose: This study is a descriptive research in which the pathological syndromes of the schizophrenic patients in the community mental health centers, the degrees of the insights, and the correlations between them were examined. Method: The subjects included 114 SPR pt. people who were enrolled in community mental health centers located in D City. The research was conducted during the period from Aug. 1st, 2002 to Jul. 30th, 2004. The instruments were PANSS developed by Kay(1987) and SUMD developed by Amador(1993). Results: Among the pathological syndromes, positives ones were $12.64{\pm}3.80$ on the average, negative ones were $32.00{\pm}5.36$, and general pathological syndromes were $30.50{\pm}6.24$. In the evaluation of the insights, the mean score was $11.81{\pm}5.09$. There were some significant correlations between positive syndromes and general pathological ones (r=.572, p=.000), and negative syndromes and general pathological ones(r=.262, p=.029), while there was no significant correlation between the insights and the sub-measures of general pathological syndromes. Conclusion: Therefore, the schizophrenic patients taking advantage of the community mental health centers have more negative syndromes than those in hospitalized, and rehabilitation programs are needed to help them continuously. And the further study of the correlations between the pathological syndromes and the degrees of the insights are required, and still, it should be analyzed what effects the insight acquirement brings about to the improvements of the pathological syndromes after the application of the insight-oriented programs.
본 연구의 목적은 국책 연구 성과의 기술거래에서 기술공급 기관과 기술도입 기업 간에 작용하는 기술료 결정요인을 비교 분석하여 기술이전 관련 기관, 기술공급 및 도입 기업 등 이해 관계자에게 유의한 정보와 정책적 시사점을 제공하기 위함이다. 이를 위하여 본 연구에서는 2011년부터 2015년까지 농촌진흥청 차세대바이오그린21 국책 연구 사업을 추진한 N사업단의 대학과 중소기업간 기술이전 사례를 중심으로 96개 기술공급 기관과 85개의 기술도입 기업에게 2016년 9월 1일부터 10월 31일 2개월 동안 AHP 설문 조사를 실시하고 각 기술거래 당사자 간 기술료 결정요인의 중요도를 비교 분석하였다. 분석 결과 기술거래 양 당사자는 '기술 활용의 수익성'과 '경영진의 기술도입 의지'를 중요한 기술료 결정요인으로 인식하고 있는 공통점이 있는 반면, 기술공급 기관은 기술이 적용된 제품의 '시장 경쟁력' 요인을, 기술도입 기업은 '기업의 가용 예산범위'를 더 높은 상대적 중요성으로 인식하는 차이가 있었다. 본 연구를 통하여 산업 현장의 구체적 니즈를 반영한 기술수요 조사, 기술료 지불 방법의 다양화, 기술이전을 목적으로 한 연구 평가 지표의 차별화, 기술개발 시급성을 반영한 연구 과제 추진이 필요하다는 정책적 시사점이 도출되었다.
기술혁신 활동은 기업이 기술경쟁력을 확보하고 지속적으로 성장하기 위해 매우 중요한 활동이다. 우리나라는 기업의 혁신활동을 촉진하기 위하여 국가차원에서 인증제도를 운영하며, 중소기업의 글로벌 기술경쟁력 제고를 위해 노력하고 있다. 이 가운데 기술혁신과 관련된 대표적인 제도가 신기술(NET) 인증이다. 신기술 인증제도는 엄격한 3단계 심사과정을 거쳐 인증하고 있으며, 기업의 신기술 상용화, 기술거래 및 초기시장 진출 촉진 등을 목적으로 운영되고 있다. 신기술 인증을 획득했다는 것은 해당 기업이 일정 수준 이상의 기술경쟁력을 확보하고 있다는 것을 의미한다. 이에 본 연구에서는 신기술 인증제도를 중심으로 기업의 어떠한 기술혁신활동이 R&D프로젝트 성공과 경영성과 제고에 영향을 미치는 지에 대한 실증분석을 수행하고자 하였다. 이를 검증하기 위해 주요변수로 기술전략, 기술기획, 체계화된 R&D프로세스, 내부협력, 외부협력 활동을 설정하였다. 실증분석 결과, 본 연구에서 설정한 변수 모두 개별적으로 R&D프로젝트 성공과 경영성과 제고에 기여함을 확인하였다. 다만, 모든 변수를 고려한 종합적인 차원에서 살펴보면, R&D프로젝트 성공을 위해서는 체계화된 R&D프로세스 관리와 외부기관과의 협력 활동이, 경영성과 제고를 위해서는 연구개발 초기 단계인 기술전략 수립과 기술기획 활동이 통계적으로 유의미한 영향을 미치는 것으로 분석되었다. 본 연구는 기업부설연구소를 설립·운영하고 있으며, 활발히 연구개발(R&D) 활동을 수행하고 있는 혁신지향적인 중소기업을 대상으로 하였으며, 분석방법으로는 다중회귀분석을 활용하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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