• 제목/요약/키워드: Profile definition

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효과적인 추천과 세분화를 위한 트랜잭션 기반 여러 형태 사용자 프로파일의 구축 (The Construction of Multiform User Profiles Based on Transaction for Effective Recommendation and Segmentation)

  • 고재진;안형근
    • 정보처리학회논문지D
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    • 제13D권5호
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    • pp.661-670
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    • 2006
  • 쉽게 접할 수 있는 정보의 양이 증가하고 전자상거래가 발전함에 따라, 드넓은 정보공간을 축소하기 위하여 추천과 SDI 시스템과 같은 정보 필터링 시스템이 사용되어지게 되었으며, 이에 따라 사용자들은 그들의 요구와 취향에 가장 적합한 정보들을 바로 접근할 수 있게 되었다. 지금까지 다양한 정보 필터링 방법들이 추천시스템을 지원하기 위해 제안되었다. 최근에는 새로운 정보교환 표준으로 떠오르고 있는 XML 문서를 필터링 하는 시스템들에 있어서도 다른 접근 방법을 요구하고 있다. 따라서, 본 논문에서 제안하는 시스템은 XML이 가진 구조 정보를 이용하여 여러 형태의 사용자 프로파일을 생성하는 방법을 제안한다. 시스템은 구매와 같은 트랜잭션이 발생하기 전에 사용자 구매 패턴을 분석하기 위해서 필요한 프로파일을 운영자가 직접 정의하는 운영자 프로파일과 이를 적용한 사용자 프로파일의 두 부분으로 구성된다. 운영자 프로파일은 DTD로부터 선택된 항목을 이용하여 DTD를 따르는 문서내의 특정부분을 가리킬 수 있도록 만들어진다. 제안하는 시스템은 사용자의 구매 행위에 적응력을 가질 수 있도록 보다 정확한 사용자 프로파일을 구축하고, 이와 같은 사용자 프로파일을 기반으로 사용자에게 불필요한 검색과정 없이 필요한 상품 정보를 제공할 수 있도록 한다.

Use of Hard Mask for Finer (<10 μm) Through Silicon Vias (TSVs) Etching

  • Choi, Somang;Hong, Sang Jeen
    • Transactions on Electrical and Electronic Materials
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    • 제16권6호
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    • pp.312-316
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    • 2015
  • Through silicon via (TSV) technology holds the promise of chip-to-chip or chip-to-package interconnections for higher performance with reduced signal delay and power consumption. It includes high aspect ratio silicon etching, insulation liner deposition, and seamless metal filling. The desired etch profile should be straightforward, but high aspect ratio silicon etching is still a challenge. In this paper, we investigate the use of etch hard mask for finer TSVs etching to have clear definition of etched via pattern. Conventionally employed photoresist methods were initially evaluated as reference processes, and oxide and metal hard mask were investigated. We admit that pure metal mask is rarely employed in industry, but the etch result of metal mask support why hard mask are more realistic for finer TSV etching than conventional photoresist and oxide mask.

고체 면에 흡착된 박막에서의 분리압력 특성에 관한 연구 (Disjoining Pressures of Nanoscale Thin Films on Solid Substrate)

  • 한민섭
    • 대한기계학회논문집B
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    • 제33권2호
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    • pp.101-106
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    • 2009
  • The disjoining pressure is an important physical property in modeling the small-scale transport phenomena on thin film. It is a very useful definition in characterizing the non-continuum effects that are not negligible in heat and mass transport of the film thinner than submicro-scales. We present the calculated values of disjoining pressure of He, Kr and Xe thin films absorbed on graphite substrate using Molecular Dynamics Simulation (MD). The disjoining pressure is accurately calculated in the resolution of a molecular scale of the film thickness. The characteristics of the pressure are discussed regarding the molecular nature of the fluid system such as molecular diameter and intermolecular interaction parameters. The MD results are also compared with those based on the continuum approximation of the slab-like density profile and the results on other novel gases in the previous study. The discrepancies of the continuum model with MD results are shown in all three configurations and discussed in the view point of molecular features.

기반암 전단파속도의 부지응답특성 영향평가 (The Effect of the Shear Wave Velocity of a Seismic Control Point on Site Response Analysis)

  • 이진선
    • 한국지진공학회논문집
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    • 제13권1호
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    • pp.1-8
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    • 2009
  • 본 논문에서는 부지응답 해석 시 통제운동 지점의 전단파속도가 부지응답해석에 미치는 영향을 살펴보았다. 내진설계기준 연구(II)(건설교통부, 1997)에서는 '재현주기별 지진가속도의 작용 위치는 "기본적인 지진재해도는 보통암지반을 기준으로 평가한다."라고 정의하고 있다. 그러나 보통암지반(SB)의 전단파속도 범위가 $760m/sec{\sim}1500m/sec$로 폭넓게 분포되어 있어, 부지응답 해석 시 통제운동지점의 선택에 따라 해석의 결과에 차이가 발생할 수 있다. 따라서, 본 논문에서는 국내의 대표적인 해성퇴적지반층인 인천 및 부산지역의 상세부지조사결과를 바탕으로 1차원 등가선형해석을 수행하였다. 통제운동지점인 기반암 전단파속도에 따른 지층내 가속도의 크기 변화, 그리고 이에 따른 액상화 안전율 변화정도를 살펴보았다. 또한, 해석결과와 외국의 내진설계기준을 바탕으로 국내 내진설계기준의 개선방향에 대하여 살펴보았다.

적응형 웹 서핑 지원을 위한 에이전트 시스템 (An Agent System for Supporting Adaptive Web Surfing)

  • 국형준
    • 정보처리학회논문지B
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    • 제9B권4호
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    • pp.399-406
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    • 2002
  • 본 연구는 웹 서핑 지원을 위한 적응형 사용자 에이전트의 설계를 위해 사용자 데이터 수집, 데이터 처리를 통한 사용자 프로파일 구축 및 개선, 그리고 사용자 프로파일의 적용을 통한 적응 등 세 가지 이슈를 집중 연구하였다. 그 결과 웹 상에서 작동하는 적응형 사용자 에이전트를 위한 기능 정의 및 주요 구성 요소들을 설계하고 세부 모형을 구현하였다. 내부적으로는 두 개의 독립된 에이전트의 협동 체제에 의해 작업 목표를 성취한다. 이들은 각각 IIA(Interactive Interface Agent) 및 UPA(User Profiling Agent)이다. 사용자 인터페이스를 관장하는 IIA는 사용자에게 현재 웹 문서의 대강을 파악하고 나아가서 검색 질의어를 선택할 수 있게 하는 키워드 색인(Keyword Index)과, 계층 구조 방식의 사용자 검색 과정을 나타내는 제안 링크(Suggest Link)를 제공함으로서 사용자 친숙한 인터페이스 환경을 제시한다. UPA는 사용자에 관한 정적 정보와 브라우징 행위에서 나타나는 동적 정보를 사용자 프로파일에 반영한다. 특히, 사용자 관심을 반영하는 관심 벡터(Interest Vector)의 개념을 정립하고 근접도(similarity) 평가에 의해 이들을 갱신하고 추가함으로써 사용자 관심을 동적으로 프로파일링하는 체계를 제시하였다.

Numerical simulation of hollow steel profiles for lightweight concrete sandwich panels

  • Brunesi, E.;Nascimbene, R.;Deyanova, M.;Pagani, C.;Zambelli, S.
    • Computers and Concrete
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    • 제15권6호
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    • pp.951-972
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    • 2015
  • The focus of the present study is to investigate both local and global behaviour of a precast concrete sandwich panel. The selected prototype consists of two reinforced concrete layers coupled by a system of cold-drawn steel profiles and one intermediate layer of insulating material. High-definition nonlinear finite element (FE) models, based on 3D brick and 2D interface elements, are used to assess the capacity of this technology under shear, tension and compression. Geometrical nonlinearities are accounted via large displacement-large strain formulation, whilst material nonlinearities are included, in the series of simulations, by means of Von Mises yielding criterion for steel elements and a classical total strain crack model for concrete; a bond-slip constitutive law is additionally adopted to reproduce steel profile-concrete layer interaction. First, constitutive models are calibrated on the basis of preliminary pull and pull-out tests for steel and concrete, respectively. Geometrically and materially nonlinear FE simulations are performed, in compliance with experimental tests, to validate the proposed modeling approach and characterize shear, compressive and tensile response of this system, in terms of global capacity curves and local stress/strain distributions. Based on these experimental and numerical data, the structural performance is then quantified under various loading conditions, aimed to reproduce the behaviour of this solution during production, transport, construction and service conditions.

The Study of the Cycle Time Improvement by Work-In-Process Statistical Process Control Method for IC Foundry Manufacturing

  • Lin, Yu-Cheng;Tsai, Chih-Hung;Li, Rong-Kwei;Chen, Ching-Piao;Chen, Hsien-Ching
    • International Journal of Quality Innovation
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    • 제9권3호
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    • pp.71-91
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    • 2008
  • The definition of cycle time is the time from the wafer start to the wafer output. It usually takes one or two months to get the product since customer decides to produce it. The cycle time is a critical factor for customer satisfaction because it represents the response time to the market. Long cycle time reflects the ineffective investment for the capital. The cycle time is very important for foundry because long cycle time will cause customer unsatisfied and the order loss. Consequently, all of the foundries put lots of human source in the cycle time improvement. Usually, we make decisions based on the experience in the cycle time management. We have no mechanism or theory for cycle time management. We do work-in-process (WIP) management based on turn rate and standard WIP (STD WIP) set by experiences. But the experience didn't mean the optimal solution, when the situation changed, the cycle time or the standard WIP will also be changed. The experience will not always be applicable. If we only have the experience and no mechanism, management will not be work out. After interview several foundry fab managers, all of the fab can't reflect the situation. That is, all of them will have an impact period after product mix or utilization varied. In this study, we want to develop a formula for standard WIP and use statistical process control (SPC) concept to set WIP upper/lower limit level. When WIP exceed the limit level, it will trigger action plans to compensate WIP Profile. If WIP Profile balances, we don't need too much WIP. So WIP level could be reduced and cycle time also could be reduced.

ebXML의 CPP/CPA 편집 시스템 설계 및 구현 (A Design and Implements of CPP/CPA Editing System based on ebXML)

  • 최종근;김창수;정회경
    • 한국멀티미디어학회논문지
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    • 제6권5호
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    • pp.928-936
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    • 2003
  • 기업 간 비즈니스 거래를 하기 위해서는 B2B(Business to Business) 기업이 지원하는 업무 프로세스에 관한 정보와 업무 정보 교환을 위해 기업의 기술적인 사항을 정의하고 거래 기업 간의 비즈니스 거래를 위하여 거래 파트너간 합의된 상호작용을 정의한 문서가 필요하다. 이러한 문서를 XML 기반의 개방형 전자상거래 프레임워크인 ebXML(electronic business XML)에서는 기업의 비즈니스 협업 능력을 정의한 전자를 협업 프로토콜 프로파일(Collaboration-Protocol Profile:CPP)이라 하고 거래 기업간의 비즈니스 협업 상호작용을 정의한 후자를 협업 프로토콜 약정서(Collaboration-Protocol Agreement:CPA) 라고 한다. 본 논문에서는 ebXML에서 거래 기업 간 상호 운용성을 증대시키는 CPP 문서를 효율적으로 저작 할 수 있는 생성기와 거래기업들의 CPP 문서들을 기본으로 상호 협업을 정의한 CPA문서를 저작할 수 있는 Composer 시스템을 설계 및 구현하였다.

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Real-Time Spacer Etch-End Point Detection (SE-EPD) for Self-aligned Double Patterning (SADP) Process

  • Han, Ah-Reum;Lee, Ho-Jae;Lee, Jun-Yong;Hong, Sang-Jeen
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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    • pp.436-437
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    • 2012
  • Double patterning technology (DPT) has been suggested as a promising candidates of the next generation lithography technology in FLASH and DRAM manufacturing in sub-40nm technology node. DPT enables to overcome the physical limitation of optical lithography, and it is expected to be continued as long as e-beam lithography takes place in manufacturing. Several different processes for DPT are currently available in practice, and they are litho-litho-etch (LLE), litho-etch-litho-etch (LELE), litho-freeze-litho-etch (LFLE), and self-aligned double patterning (SADP) [1]. The self-aligned approach is regarded as more suitable for mass production, but it requires precise control of sidewall space etch profile for the exact definition of hard mask layer. In this paper, we propose etch end point detection (EPD) in spacer etching to precisely control sidewall profile in SADP. Conventional etch EPD notify the end point after or on-set of a layer being etched is removed, but the EPD in spacer etch should land-off exactly after surface removal while the spacer is still remained. Precise control of real-time in-situ EPD may help to control the size of spacer to realize desired pattern geometry. To demonstrate the capability of spacer-etch EPD, we fabricated metal line structure on silicon dioxide layer and spacer deposition layer with silicon nitride. While blanket etch of the spacer layer takes place in inductively coupled plasma-reactive ion etching (ICP-RIE), in-situ monitoring of plasma chemistry is performed using optical emission spectroscopy (OES), and the acquired data is stored in a local computer. Through offline analysis of the acquired OES data with respect to etch gas and by-product chemistry, a representative EPD time traces signal is derived. We found that the SE-EPD is useful for precise control of spacer etching in DPT, and we are continuously developing real-time SE-EPD methodology employing cumulative sum (CUSUM) control chart [2].

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소세지의 텍스처 프로필 수행을 위한 용어와 표준척도의 개발 (Development of Definition of Parameters and Reference Scales for Texture Profiling of Frankfurter Sausages)

  • 김혜영;이미경;장경아;김광옥
    • 한국식품과학회지
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    • 제27권1호
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    • pp.1-5
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    • 1995
  • 본 연구에서는 국내산(A) 및 수입산(B) 소세지를 택하여 소세지의 텍스처 프로필을 수행하였다. 패널요원들은 두 제품에 대하여 감지되는 순서에 따라 14개의 관능적 특성용어를 개발하였다. 개발된 특성용어는 표면의 촉촉함, 표면의 매끄러움, 탄성, 내부경도, 껍질이 질긴 정도, 응집성, 조밀도, 씹음수, 수분방출, 덩어리 응집성, 덩어리상, 과립상, 껍질의 분리도, 기름짐이었다. 또한 $0{\sim}3$점을 8구간으로 나눈 척도와 특성의 객관적인 평가를 위하여 표준시료를 사용하는 표준척도를 확립하였다. 소세지 A는 탄성, 표면의 매끄러움, 내부경도, 껍질이 질긴 정도, 조밀도, 씹음수, 덩어리상 및 껍질의 분리도에서 소세지 B보다 높은 강도값을 나타내었다. 표면의 촉촉함, 응집성, 수분방출, 덩어리 응집성, 과립상같은 특성들에 있어서는 소세지 B가 소세지 A보다 더 높은 값을 나타내었다. 기름짐에 있어서는 소세지 B가 크게 평가되었으나 소세지 A보다 더 담백한 맛이라는 의견이 제시되었다.

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