• 제목/요약/키워드: Plasma Gun

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밸러스트 수 처리를 위한 Plasma Gun의 오존생성에 미치는 운전변수의 영향 (Effects of Operating Parameters on Ozone Production by Plasma Gun for Ballast Water Treatment)

  • 이현돈;김종오;정재우
    • 한국항해항만학회지
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    • 제34권3호
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    • pp.205-211
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    • 2010
  • 밸러스트수 처리를 위한 Plasma Gun의 전기적 특성과 오존 생성에 미치는 주요 운전변수들의 영향에 관해 실험실 규모 연구를 수행하였다. 방전개시전압보다 높은 전압이 인가되면 방전이 시작되고 오존이 생성되었으며 전압이 증가함에 따라 기체로 전달되는 에너지 및 오존 농도가 거의 선형적으로 증가하였다. 오존 생성 측면에서 최적의 에너지 효율성을 얻을 수 있는 전극간 거리가 존재하였으며 실험된 장치에서는 1.95 mm의 전극간 거리에서 최적 효율이 얻어졌다. 전기에너지 특성에 미치는 내부전극 재질의 영향은 무시할만한 수준이었으나 내부전극의 전기전도도와 열전도도 차이가 오존 생성에 큰 영향을 미치는 것으로 나타났다. 일정한 Plasma Gun 구조에서 오존 생성은 기체로 전달되는 에너지밀도에 의해 중요한 영향을 받는 것으로 나타났으며 유입되는 기체의 산소함량이 증가할수록 오존 생성이 증가하는 것으로 나타났다.

전열포 플라즈마 생성장치의 영차원 해석모델 (Zero-Dimensional Modeling of Plasma Generator in Electrothermal Gun)

  • 김경진;박중윤
    • 한국추진공학회지
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    • 제19권6호
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    • pp.1-9
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    • 2015
  • 본 연구에서는 전열포의 플라즈마 발생장치에서 외부회로로부터 가해지는 펄스형 전기에너지에 의한 플라즈마 발생현상을 대상으로 영차원적 모델링 및 전산해석을 수행하였다. 전극 사이의 보어 내 플라즈마의 균일 온도 가정을 채용하여 질량 및 에너지 방정식을 간소화하였으며, 보어 및 전극 표면 상의 용발 모델 및 플라즈마 물성치 계산모델과 연계하였다. 해석결과는 1차원적 해석모델과 비교하여 상당히 일치함을 보여 영차원적 해석결과의 유효성을 확인할 수 있다.

FIRST OPERATING TEST OF THE 700 MHz 1 MW PROTOTYPE KLYSTRON FOR A PROTON ACCELERATOR

  • Ko, Seung-Kook;Lee, Bo-Young;Lee, Kang-Ok;Hong, Jin-Seok;Jeon, Jae-Ha;Chung, Bo-Hyun;Noh, Seung-Jeong;Chung, Kie-Hyung
    • Nuclear Engineering and Technology
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    • 제38권8호
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    • pp.779-784
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    • 2006
  • The design, manufacturing process, and first operating test of a high power RF source for a proton accelerator are described. A klystron amplifier system has been developed for operation at 700 MHz, 1 MW and is composed of a triode type electron gun, six cavities, an RF output window, a beam collector, and an electromagnet. The prototype klystron was constructed and tested at a reduced duty to produce the designed output RF power.

150 kJ Compact Capacitive Pulsed Power System for an Electrothermal Chemical Gun

  • Lee, Byung-Ha;Kim, Jin-Sung;Kim, Seong-Ho;Lee, Young-Hyun;Yang, Kyung-Seung
    • Journal of Electrical Engineering and Technology
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    • 제7권6호
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    • pp.971-976
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    • 2012
  • A 150 kJ compact capacitive pulsed power system (CCPPS) capable of delivering electrical energy into an electrothermal chemical (ETC) gun on a vehicle has been studied. The CCPPS provides pulsed electrical energy into a capillary plasma injector which generates plasma of tens of thousands $^{\circ}K$ in temperature and has a nonlinear resistance depending on the current. The design requirements of the CCPPS are as follows: the maximum power of 250 MW, the pulse width of about 0.6 ms, the volume of no more than 0.5 cubic meter, the efficiency of energy transfer over 80 % and the repetition rate of 4~5 times per minute. The constructed CCPPS is composed of four 37.5 kJ capacitor bank modules in parallel to make a trapezoid pulse shape and to satisfy the design requirements. Each module is designed to achieve high reliability, safety, efficiency and energy density to endure severe operating conditions. The results of the performance test on the CCPPS using a 120 mm ETC gun are described.

이온 플레이팅용 장수명 플라즈마 건 장치의 개발 (Development of a Plasma Gun System for Ion Plating with Long Lifetime)

  • 최영욱
    • 전기학회논문지
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    • 제57권1호
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    • pp.78-81
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    • 2008
  • A hollow cathode which has extremely stable discharge characteristic has been developed. This is composed of the two separated lanthanum hexaboride(LaB6) of a disk type in the tube as the electron emitters. The way of design is of great advantage to extend the surface discharge area of the LaB6, which is also useful for optimal fixing of the LaB6. The hollow cathode is capable of producing 30 kW(100 V, 300 A) of power continuously. Because the generated plasma beam with the high temperature(above $3000^{\circ}C$) from the hollow cathode passes through the center hole of the two intermediate electrodes, it is designed with the high temperature material of the tungsten and the suitable structure of the water cooling. The combinations of the hollow cathode and the two intermediate electrodes are practically useful for the ion plating plasma beam source.

Formation of Crystalline Copper Thin Films by a Sputtering-assisted Magnetic Field System at Room Temperature

  • Kim, Hyun Sung
    • Applied Science and Convergence Technology
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    • 제27권1호
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    • pp.1-4
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    • 2018
  • A sputtering-assisted magnetic field system was successfully developed for depositing crystalline Cu thin films at room temperature. This system employs a plasma source and an ion-beam gun with two magnetic field generators, which is covered with sputtering target and the ion-beam gun, simultaneously serving as sputtering plasma and a magnetic field generator. The formation of crystalline Cu thin films at room temperature was dominated by magnetic fields, which was revealed by preliminary experiments. This system can be employed for producing crystalline metal thin films at room temperature.

D-Gun과 Plasma에 의한 금속과 세라믹의 코팅기술과 기계공업에서의 이용

  • 강석춘
    • 기계저널
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    • 제32권7호
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    • pp.604-612
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    • 1992
  • D-Gun과 plasma 코팅이라고 하는 코팅(도금) 기술은 1950년대 미국 유니온 카바이드사에 의해 세계 최초로 개발되어 실용화된 이래 전세계의 산업전반에 걸쳐 꾸준히 그 응용분야가 확대되어 왔으며, 오늘날에는 점보 제트 여객기의 엔진으로부터 석유화학설비, 제철제강설비, 섬유기계, 인쇄기계, 제지기계, 식품기계, 발전설비, 자동화부품, 전자제품 등에 이르기까지 각종 산업기계 및 제품 생산에 응용되고 있다. 특히 최근에는 이들 산업기계가 고속화, 고성능화, 고품질화됨에 따라 그 구성부품도 필연적으로 고성능의 내구성 등이 요구되어 세라믹 등 특수 코팅의 필요성이 절실히 요구되고 있다.

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Study on a Coaxial Plasma Gun (III)

  • Bak, Hae-Ill;In, Sang-Ryul;Chung, Kie-Hyung;Lee, Un-Chul
    • Nuclear Engineering and Technology
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    • 제12권3호
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    • pp.163-170
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    • 1980
  • 4KJ의 에너지 뱅크(16.5KV, 35nH)를 사용하여 Mather형의 플라즈마총을 1 torr이하의 낮은 기체압력에서 동작시키면서 플라즈마의 효율적인 집속조건을 구하였다. 중수소기체의 충전압력이 0.18torr, 저장에너지가 3.8KJ일때 방전전류의 최고치는 180KA이었고 플라즈마의 축방향 평균속도는 약 $7cm/\mu\textrm{s}$이었다. 이것은 snowplow모델에 의해 계산된 속도보다 작은 값인데 이는 절연재 표면을 통한 전류의 손실에 기인하는 것으로 생각된다. H. Bruzzone의 플라즈마 집속장치(1KJ, 16KV, $4.2\mu\textrm{s}$)에 비해 본 실험에서는 기체압력이 낮은 역역에서 플라즈마 접속이 일어났다. 이는 이 실험에서 사용한 플라즈마총의 크기가 저장에너지에 비해 크고 또 잔여기체의 함량이 비교적 높기 때문이다. 집속된 플라즈마로 부터 방출되는 중성자는 Long counter를 사용해서 계측했다.

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