We developed a new photoresist which was composed of polyaniline, uv-curing agent, N-methyl-2- pyrrolidine (NMP) and N-Butyl alcohol (BuOH) as solution. The photoresist is characterized by the capability of being developed in water. We successfully patterned pentacene thin film, which was vulnerable to organic solvent and thus could not be patterned by the conventional photolithography process, with the water soluble photoresist and the minimum feature size was found to be 2um.
We report an optical second harmonic generation measurement that allows direct probing of dynamical carrier motion in organic field effect transistors. Carrier injection and transport process are discriminated. The mobility and contact resistance of pentacene FETs are determined from the visualized diffusion-like carrier motion.
Displacement current $(I_{dis})$ and drain-to-source current $(I_{DS})$ are evaluated using the simultaneous measurements of source $(I_S)$ and drain $(I_D)$ currents during the application of a constant drain voltage and a triangular-wave gate voltage $(V_{GS})$ to top-contact pentacene thin-film transistors.
Transparent electronics has been one of the key terminologies forecasting the ubiquitous technology era. Several researchers have thus extensively developed transparent oxide-based thin-film transistors (TFTs) on glass and plastic substrates although in general high voltage operating devices have been mainly studied considering transparent display drivers. However, low voltage operating oxide TFTs with transparent electrodes are very necessary if we are aiming at logic circuit applications, for which transparent complementary or one-type channel inverters are required. The most effective and low power consuming inverter should be a form of complementary p-channel and n-channel transistors but real application of those complementary TFT inverters also requires electrical- and even photo-stabilities. Since p-type oxide TFTs have not been developed yet, we previously adopted organic pentacene TFTs for the p-channel while ZnO TFTs were chosen for n-channel on sputter-deposited $AlO_x$ film. As a result, decent inverting behavior was achieved but some electrical gate instability was unavoidable at the ZnO/$AlO_x$ channel interface. Here, considering such gate instability issues we have designed a unique transparent complementary TFT (CTFTs) inverter structure with top n-ZnO channel and bottom p-pentacene channel based on 12 nm-thin nano-oxide/self assembled monolayer laminated dielectric, which has a large dielectric strength comparable to that of thin film amorphous $Al_2O_3$. Our transparent CTFT inverter well operate under 3 V, demonstrating a maximum voltage gain of ~20, good electrical and even photoelectric stabilities. The device transmittance was over 60 % and this type of transparent inverter has never been reported, to the best of our limited knowledge.
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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v.44
no.11
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pp.15-19
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2007
This paper reports the effects of Ar ion beam surface treatment on a $SiO_2$ dielectric layer in organic thin film transistors. We compared the electrical properties of pentacene-based OTFTs, treated by $O_2$ plasma or Ar ion beam treatments and characterized the states of the surface of the dielectric by using atomic force microscopy and X-ray photoelectron spectroscopy. For the sample which received $O_2$ plasma treatment, the mobility increased significantly but the on/off current ratio was found very low. The Ar ion beam-treated sample showed a very high on/off current ratio as well as a moderately improved mobility. XPS data taken from the dielectric surfaces after each of treatments exhibit that the ratio of between Si-O bonds and O-Si-O bonds was much higher in the $O_2$ plasma treated surface than in the Ar ion beam treated surface. We believe that our surface treatment using an inert gas, Ar, carried out an effective surface cleaning while keeping surface damage very low, and also the improved device performances was achieved as a consequence of improved surface condition.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2010.08a
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pp.176-176
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2010
One of the critical issues for applications of flexible organic thin film transistors (OTFTs) for flexible electronic systems is the electrical stabilities of the OTFT devices, including variation of the current on/off ratio (Ion/Ioff), leakage current, threshold voltage, and hysteresis under repetitive mechanical deformation. In particular, repetitive mechanical deformation accelerates the degradation of device performance at the ambient environment. In this work, electrical stability of the pentacene organic thin film transistors (OTFTs) employing multi-stack hybrid encapsulation layers was investigated under mechanical cyclic bending. Flexible bottom-gated pentacene-based OTFTs fabricated on flexible polyimide substrate with poly-4-vinyl phenol (PVP) dielectric as a gate dielectric were encapsulated by the plasma-deposited organic layer and atomic-layer-deposited inorganic layer. For cyclic bending experiment of flexible OTFTs, the devices were cyclically bent up to 105 times with 5mm bending radius. In the most of the devices after 105 times of bending cycles, the off-current of the OTFT with no encapsulation layers was quickly increased due to increases in the conductivity of the pentacene caused by doping effects from $O_2$ and $H_2O$ in the atmosphere, which leads to decrease in the Ion/Ioff and increase in the hysteresis. With encapsulation layers, however, the electrical stabilities of the OTFTs were improved significantly. In particular, the OTFTs with multi-stack hybrid encapsulation layer showed the best electrical stabilities up to the bending cycles of $10^5$ times compared to the devices with single organic encapsulation layer. Changes in electrical properties of cyclically bent OTFTs with encapsulation layers will be discussed in detail.
Bottom contact pentacene organic thin-film transistors are fabricated at three different substrate temperatures, $70^{\circ}C$, $80^{\circ}C$ and $90^{\circ}C$. The maximum effective mobility was obtained at $80^{\circ}C$. The contact resistance was extracted by applying two different methods, TLM method and channel-resistance method, and the value shows the minimum at $80^{\circ}C$, which is thought to be the important reason for the best performance.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2008.06a
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pp.182-183
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2008
We fabricated a pentacene thin film transistor with Poly-vinylalcohol (PVA) as a dielectric. And we used Poly(9-vinylcarbazole) (PVK) as a buffer layer to improve the electrical characteristics. PVK is a material used often host material for OLED device, as it has good film forming properties, large HOMO-LUMO(highest occupied molecular orbital-lowest unoccupied molecular orbital) bandgap. The performance of a OTFT device with PVA gate dielectric was improved by using the PVK. Field effect mobility, threshold voltage, and on-off current ratio of device with PVK layer were about 0.6 $cm^2$/Vs, -17V, and $5\times10^5$, respectively.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.114-114
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2011
We report a high-performance and air-stable flexible and invisible semiconductor which can be substitute for the n-type organic semiconductors. N-type organic-inorganic nanohybrid superlattices were developed for active semiconducting channel layers of thin film transistors at low temperature of $150^{\circ}C$ by using molecular layer deposition with atomic layer deposition. In these nanohybrid superlattices, self-assembled organic layers (SAOLs) offer structural flexibility, whereas ZnO inorganic layers provide the potential for semiconducting properties, and thermal and mechanical stability. The prepared SAOLs-ZnO nanohybrid thin films exhibited good flexibility, transparent in the visible range, and excellent field effect mobility (> 7cm2/$V{\cdot}s$) under low voltage operation (from -1 to 3V). The nanohybrid semiconductor is also compatible with pentacene in p-n junction diodes.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2009.11a
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pp.42-42
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2009
To make up for the disadvantages of PVA gate, we blend PVP(20% wt) with PVA(5% wt) as a gate material. The best ratio for the mixture was 5:5, PVP-PVA blended gate used MIM structure showed better performance in leakage current and capacitance. PVP-PVA blended gate was fabricated by spin-coating process and pentacene was used as an organic TFT channel layer by thermal evaporation. Overall OTFT performance has also increased as PVP-PVA blended gate has relatively lower leakage current and higher capacitance than pure PVA gate has.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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