• Title/Summary/Keyword: OLED(Organic Light Emitting Diode)

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In 분포에 따른 a-IGZO TFT의 안정성 평가

  • Gang, Ji-Yeon;Lee, Tae-Il;Lee, Min-Jeong;Myeong, Jae-Min
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2011.05a
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    • pp.60.1-60.1
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    • 2011
  • 비정질 indium-gallium-zinc-oxide (a-IGZO)는 thin film transistor (TFT)에 적용되는 대표적인 active layer로써 높은 이동도를 갖고, 도핑 농도의 제어가 용이하며 낮은 온도에서도 대면적에 증착할 수 있는 특성을 가지고 있다. 특히 저온에서 대면적 증착이 가능한 장점을 갖고 있어 LCD 분야뿐만 아니라 다양한 분야에서 상용화하려는 연구가 시도되고 있다. a-IGZO를 구성하는 물질 중에 이동도에 중요한 역할을 미치는 In은 대표적인 투명전극물질인 indium-tin oxide (ITO)에서 고전류 구동에 의한 확산이 널리 알려져 이에 대한 증명과 개선을 위한 연구가 진행되고 있다. 보고된 결과에 따르면 device에 지속적인 구동 전압을 가했을 때 In이 유기층로 확산되어 organic light emitting diode(OLED)의 성능을 저하시키는 것으로 알려져 있다. 따라서, a-IGZO에서도 고전류 구동에 의한 indium의 이동이 필수불가결하다고 판단된다. 본 연구에서는 a-IGZO TFT에 고전압 구동을 반복적으로 시행함으로써 발생하는 전기적 특성의 변화를 확인하였고, 동일한 소자의 전극과 채널 사이의 계면에서 In 분포를 energy dispersive spectrometer (EDS)로 관찰하여 In 분포와 전기적 특성 간의 상관관계에 대해 연구하였다.

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Characteristics of Defects in SiOx Thin films on Ethylene Terephthalate by High-temperature E-beam Deposition (고온 전자빔 증착에 의한 Ethylene Terephthalate상의 SiOx 박막의 특성 평가)

  • Han Jin-Woo;Kim Young-Hwan;Kim Jong-Hwan;Seo Dae-Shlk;Moon Dae-Gyu
    • Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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    • v.19 no.1
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    • pp.71-74
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    • 2006
  • In this paper, we investigated the characterization of silicon oxide(SiOx) thin film on Ethylene Terephthalate(PET) substrates by e-beam deposition for transparent barrier application. The temperature of chamber increases from $30^{\circ}C$ to $110^{\circ}C$, the roughness increase while the Water vapor transmission rate (WVTR) decreases. Under these conditions, the WVTR for PET can be reduced from a level of $0.57 g/m^2/day$ (bare subtrate) to $0.05 g/m^2/day$ after application of a 200-nm-thick $SiO_2$ coating at 110 C. A more efficient way to improve permeation of PET was carried out by using a double side coating of a 5-${\mu}m$-thick parylene film. It was found that the WVTR can be reduced to a level of $-0.2 g/m^2/day$. The double side parylene coating on PET could contribute to the lower stress of oxide film, which greatly improves the WVTR data. These results indicates that the $SiO_2$ /Parylene/PET barrier coatings have high potential for flexible organic light-emitting diode(OLED) applications.

Modeling and Identification of Web Tension Control System with Dancer Roll (댄서롤이 장착된 웹 장력 제어시스템의 모델링 및 규명)

  • Lee, Sang-Hwa;Lee, Jeh-Won;Lee, Hyuk-Jin
    • Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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    • v.26 no.11
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    • pp.70-76
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    • 2009
  • Web tension control system recently have been applied to OLED(Organic Light-Emitting Diode), RFID of flexible material, e-Paper and PLED(Polymeric LED) and various web control algorithms have being developed for higher productivity and product quality These system need an accuracy model to design and implement controller. In this paper, the web tension control system with dancer roll is mathematically modeled. Mathematical model consists of 8 subsystems and each subsystems can be described as impedance structure which connected by velocity and tension. Mathematical model is different from the estimated model at high frequency range because of structure dynamics which is ignored on mathematical model. The estimated model is derived using ARMAX model. The controller is designed using the estimated model. The step response of the estimated model are compared with that of physical model for a validation of estimated model. The experimental results show a good match between them.

GaN기반 LED 응용을 AZO, Ni/AZO 및 NiOx/AZO의 전기적.광학적 특성

  • Ju, Dong-Hyeok;Lee, Hui-Gwan;Yu, Jae-Su
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.08a
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    • pp.249-249
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    • 2011
  • 투명전도성산화물(transparent conducting oxides, TCOs) 박막은 전기 전도성과 광투과성이 우수하여 유기발광다이오드(organic light-emitting diode, OLED), 태양전지(solar cell), 발광다이오드(LED) 등의 광전자 소자에 널리 응용되고 있다. 특히 LED에서 p-GaN층에서 전류가 층안에서 충분하게 확산되지 않기 때문에, TCO는 균일하게 전류를 흘려보내기 위해서 전류확산층(current spreading layer)으로 사용된다. 그 중 널리 쓰이는 산화인듐주석(indium tin oxide, ITO)은 고가의 indium가격과 인체에 유해한 독성 등이 문제점으로 지적되고 있다. 따라서 indium의 함량을 저감하거나 함유하지 않은 새로운 조성의 친환경적 대체 TCO 개발에 대한 연구가 많이 진행되고 있다. 이러한 반도체 재료 중 하나인 AZO (Al-doped zinc oxide, Al2O3 : 2wt.%)는 3.3 eV의 넓은 에너지 밴드갭을 가지며, 가시광선 및 근적외선 파장영역에서 높은 투과율을 나타낸다. 따라서 본 연구에서는 GaN기반 LED 응용을 위한 전류확산층으로 ITO 대신 AZO의 특성을 연구하였다. 박막 증착율이 높고, 제작과정의 조정이 용이한 RF magnetron 스퍼터를 이용하여 glass기판 위에 AZO, Ni/AZO, NiOx/AZO를 증착하였다. 이어서 $N_2$ 분위기에서 다양한 온도 조건에서 열처리(rapid thermal annealing, RTA)하여 전기적 광학적 특성에 대하여 비교 분석하였다.

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Characteristics and Gas Barrier Properties of Mg-Zn-F Films in Various Ratio of $MgF_2$ to Zn

  • Lee, Sung-Youp;Kim, Do-Eok;Shin, Byong-Wook;Kang, Byoung-Ho;Hong, Seok-Min;Kang, Shin-Won;Lee, Hyeong-Rag
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 2009.10a
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    • pp.899-901
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    • 2009
  • The magnesium fluoride ($MgF_2$) has very higher optical transmission than oxide or nitride material applied for gas barrier, so we manufactured Mg-Zn-F films with Mg-Zn-F target mixed in the various ratio of $MgF_2$ to Zn and characterized films' properties. Zn is used to increase packing density of barrier film. Thickness and optical transmission of Mg-Zn-F are 200 nm and over 90 %, respectively. The result of water vapor transmission rate at 38, RH 90 ~ 100% of the Mg-Zn-F film deposited with 4 : 6 ($MgF_2$ : Zn) ratio target reached below $1{\times}10^{-3}g$/($m^2{\cdot}day$), measuring limit of instrument.

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Hole pattern 형성에 따른 금속/PET sheet의 인장 시 저항변화

  • Choe, Yeong-Jun;Gwon, Na-Hyeon;Jo, Yeong-Rae
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2009.05a
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    • pp.37.1-37.1
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    • 2009
  • 최근 휘어짐이 가능한 flexible display의 개발이 활발히 진행됨에 따라 OLED(organic light emitting diode)의 발전 가능성은 커지고 있다. 하지만 cathode 재료인 Cr, Al등은 tensile 또는 bending에 취약하다. 따라서 본 연구에서는, 인장시험용 아령모형의 PET($125\;{\mu}m$) 필름에 Al, Cr, Cr+Al을 각각 코팅하고 부분적으로 hole을 patterning함으로써 인장 시 미소크랙의 발생을 감소시켜 전기저항(R) 변화를 최소화하는 패턴형상을 design하고 세 가지 금속의 전기저항 변화를 통해 좀 더 우수한 flexible display용 금속을 찾는데 그 목적이 있다. 전극에 형성된 미세패턴의 영향과 패턴 된 hole size에 따른 전기저항의 변화를 알아보기 위해 hole size는 $50\;{\mu}m$, $30\;{\mu}m$, $10\;{\mu}m$로 제작하였고 각각의 금속막에 patterning하였다. 제작된 시편을 인장시험 장치에 설치 후 2mm/min의 속도로 인장응력을 가하면서 Load의 증가에 따른 금속막의 전기저항($\bigtriangleup$R)을 동시동작으로 측정하였다. 실험결과 인장시험 시 저항변화는 Cr이 짧은 시간에 가장 급격하게 변하였으며 다음으로 Cr+Al, Al순 이였다. 또한, hole size의 크기에 따른 전기저항의 변화는 $50\;{\mu}m$ size의 hole을 pattern한 시편이 가장 안정한 저항 변화를 보였다.

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Water Vapor Permeability of SiO2 Oxidative Thin Film by CVD (CVD로 제작된 SiO2 산화막의 투습특성)

  • Lee, Boong-Joo;Shin, Hyun-Yong
    • The Journal of the Korea institute of electronic communication sciences
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    • v.5 no.1
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    • pp.81-87
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    • 2010
  • In this paper, we have fabricated $SiO_2$ oxidation thin films by HDP-CVD(high density plasma-chemical vapor deposition) method for passivation layer or barrier layer of OLED(organic light emitting diode). We have control and estimate the deposition rate and relative index characteristics with process parameters and get optimized conditions. They are gas flow rate($SiH_4:O_2$=30:60[sccm]), 70 [mm] distance from source to substrate and no-bias. The WVTR(water vapor transmission rate) is 2.2 [$g/m^2$_day]. Therefore fabricated thin film can not be applied as passivation layer or barrier layer of OLED.

Analysis of the Output Characteristics of IGZO TFT with Double Gate Structure (더블 게이트 구조 적용에 따른 IGZO TFT 특성 분석)

  • Kim, Ji Won;Park, Kee Chan;Kim, Yong Sang;Jeon, Jae Hong
    • Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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    • v.33 no.4
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    • pp.281-285
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    • 2020
  • Oxide semiconductor devices have become increasingly important because of their high mobility and good uniformity. The channel length of oxide semiconductor thin film transistors (TFTs) also shrinks as the display resolution increases. It is well known that reducing the channel length of a TFT is detrimental to the current saturation because of drain-induced barrier lowering, as well as the movement of the pinch-off point. In an organic light-emitting diode (OLED), the lack of current saturation in the driving TFT creates a major problem in the control of OLED current. To obtain improved current saturation in short channels, we fabricated indium gallium zinc oxide (IGZO) TFTs with single gate and double gate structures, and evaluated the electrical characteristics of both devices. For the double gate structure, we connected the bottom gate electrode to the source electrode, so that the electric potential of the bottom gate was fixed to that of the source. We denote the double gate structure with the bottom gate fixed at the source potential as the BGFP (bottom gate with fixed potential) structure. For the BGFP TFT, the current saturation, as determined by the output characteristics, is better than that of the conventional single gate TFT. This is because the change in the source side potential barrier by the drain field has been suppressed.

T-OLED의 반사전극으로 사용하기 위한 Ag 박막 표면의 UV에 의한 산화 및 KPFM을 이용한 표면 전위 측정

  • Kim, Seong-Jun;Kim, Su-In;Kim, Dong-Uk;Kim, Ju-Yeon;Lee, Eun-Hyeok;Sin, Dong-Hun;Lee, Chang-U
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.08a
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    • pp.182.1-182.1
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    • 2013
  • Silver (Ag)는 높은 반사율을 가지고 있어 Top-Emission Organic Light Emitting Diode (T-OLED)의 반사전극으로 사용하기 적합하지만 일함수가 낮은 단점 (4.3 eV)을 가지고 있다. 이런 낮은 일함수를 증가시키기 위하여 Ag 박막 표면을 산화시켜 일함수를 증가시키기 위한 연구가 진행중에 있으며, 이 연구에서는 UV로 $O_3$을 발생시켜 Ag 박막 표면을 산화시키기 위한 연구를 진행하였다. 특히, Ag 박막 표면의 일함수 변화를 측정하기 위하여 SPM (Scanning Probe Microscopy)의 KPFM (Kelvin Probe Force Microscopy) mode를 적용하여 nano 영역에서의 일함수 변화를 surface potential로 측정하여 UV 표면 산화에 의한 표면 일함수 형상을 확인하였다. Ag 박막은 rf magnetron sputter를 사용하여, Si 기판위에 300nm 두께로 증착시켰다. 이후 $O_3$ 발생되는 UV 램프로 Ag 박막 표면 30초 간격으로 최대 5분간 산화시켰으며, 이후 KPFM mode를 사용하여 산화 시간에 따른 Ag 박막 표면의 potential 변화를 측정하였다. 0~3분간 산화된 Ag 박막 표면의 potential은 약 6 mV로 일정하였으나 3분 이후 최대 110 mV까지 급격하게 변화하는 것을 확인할 수 있었다. Ag 박막 표면의 RMS roughness는 UV 산화처리 전0.7 nm였으나, potential이 급격하게 증가하는 시점인 3분 이후 2.83 nm로 약 400% 이상 증가하였다. 이를 통해 $O_3$ 발생 UV 램프로 산화된 Ag 박막의 표면 물성은 처리 시간에 따라 급격히 변하는 것을 확인하였다.

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Improvement of Permeation of Solvent-free Multi-Layer Encapsulation of thin films on Ethylene Terephthalate(PET) (고분자 기판위에 유기 용매를 사용하지 않은 다층 박막 Encapsulation 기술 개발)

  • Kang, Hee-Jin;Han, Jin-Woo;Kim, Jong-Yeon;Moon, Hyun-Chan;Choi, Sung-Ho;Park, Kwang-Bum;Kim, Tae-Ha;Kim, Hwi-Woon;Seo, Dae-Shik
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2006.04a
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    • pp.56-57
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    • 2006
  • In this paper, the inorganic multi-layer thin film encapsulation was newly adopted to protect the organic layer from moisture and oxygen. Using the electron beam, Sputter, inorganic multi-layer thin-film encapsulation was deposited onto the Ethylene Terephthalate(PET) and their interface properties between inorganic and organic layer were investigated. In this investigation, the SiON SiO2 and parylene layer showed the most suitable properties. Under these conditions, the WVTR for PET can be reduced from a level of $0.57\;g/m^2/day$ (bare subtrate) to 1*10-5 g/$m^2$/day after application of a SiON and SiO2 layer. These results indicates that the PET/SiO2/SiON/Parylene barrier coatings have high potential for flexible organic light-emitting diode(OLED) applications.

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