Formation of dielectric carbon nitride thin films using a pulsed laser ablation combined with high voltage discharge plasma (펄스 레이저 애블레이션이 결합된 고전압 방전 플라즈마 장치를 이용한 유전성 질화탄소 박막의 합성)
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- Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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- 2003.07a
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- pp.208-211
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- 2003