• 제목/요약/키워드: KOH 용액

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염기성용액으로 첨착시킨 활성탄의 물성분석 및 $H_2S$ 흡착특성 ($H_2S$ Adsorption Characteristics and Property Analyses of Activated Carbon Adsorbent Impregnated with Basic Solutions)

  • 이석기;임창선;박영성
    • 대한환경공학회지
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    • 제32권11호
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    • pp.1011-1016
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    • 2010
  • 본 연구에서는 NaOH, KOH, $(CH_2CH_2OH)_2NH$ 등의 염기성용액으로 첨착(함침)시킨 활성탄의 물리.화학적 특성을 분석하고 H2S 흡착특성을 고찰하였다. 실험변수로는 흡착온도($25{\sim}45^{\circ}C$), 흡착질인 황화수소 가스농도(18.23 mg/L) 등이 적용되었다. 첨착시약으로 사용된 NaOH, KOH 용액의 농도는 1~5 M, $(CH_2CH_2OH)_2NH$ 용액의 농도는 0.1~1 M 범위내에서 적용되었다. 실험결과, 첨착액의 농도가 증가할수록 KOH로 함침시킨 활성탄의 BET 표면적은 $1,050\;m^2/g$에서 $750\;m^2/g$로 감소하였고, NaOH로 함침시킨 활성탄의 표면산도는 0.541 meq/g-AC에서 0 meq/g-AC으로 감소한 반면, pH는 9.54에서 10.94로 증가하는 것으로 밝혀졌다. 또한 첨착활성탄의 $H_2S$ 평형흡착능은 디에탄올아민으로 첨착시킨 경우에 가장 높았으며, 평형흡착능은 흡착온도에 비례함을 보였다. 흡착온도가 $45^{\circ}C$일 때 비첨착활성탄에 비해 2.0~3.3배 높은 수준의 H2S 평형흡착능을 보여 주었다.

흑목이 버섯 다당류의 탈색에 사용된 활성탄으로부터 흑갈색 색소의 용매 침출 특성 (Solvent Leaching Characteristics of Dark Brownish Pigment from Activated Charcoal used in Decolorization of Crude Polysaccharide from Auricularia auricula)

  • 김현민;허원;이신영
    • 산업식품공학
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    • 제13권4호
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    • pp.262-268
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    • 2009
  • 흑목이 버섯의 자실체로부터 열수추출에 의해 얻은 조다당 분획물은 흑갈색 색소를 함유하였으므로 활성탄에 의한 탈색공정이 검토된 바 있다. 하지만 활성탄에 흡착된 색소 성분의 회수 및 활성탄의 재사용이 필요하였으므로 용매추출법을 이용한 용출 실험을 실시하였다. 증류수, 중성용매(3종) 및 알칼리 용매(4종) 등 8종 용매에 의한 1단 침출 실험 결과, 색소성분의 용해성은 1 M KOH 용액이 가장 우수하였다. 이러한 최적 용매인 1M KOH 용액을 이용하여 용액의 부피 및 시간에 따른 용출효과를 조사한 결과, 용액의 부피는 활성탄 1 g당 45 mL에서 최적의 용출량을 보였으며, 10분 이내에 빠르게 용출평형에 도달하였고, 용출공정의 용출속도는 2차 속도식으로 나타낼 수 있었다. 또, 25$^{\circ}C$에서 1 M KOH 용액에 의한 다단침출의 실험 결과, 7단계 침출에서 최종 용출효율은 88.9%이었다. 그러나 온도가 증가할수록 용출효율이 급격히 높아져 95$^{\circ}C$에서는 단일용출만으로 82.6%의 용출효율을 보였다. 한편, 용출후의 재사용된 활성탄의 흡착효율(75.3%)은 신선한 활성탄 (78.5%)과 거의 비슷하였고, 다당 정제율도 거의 비슷하여 (1.21-1.25배) 재생 가능함을 보였다. 따라서, 흑목이 버섯의 흑갈색 성분의 탈색 후 흡착된 활성탄으로부터 용매추출을 이용한 효율적인 색소성분의 회수 및 활성탄 재생 공정의 가능성이 확인되었다.

IPA-KOH 혼합액에 의한 습식 이방성식각 연구 (Anisotropic wet etching by IPA-KOH solutions)

  • 천인호;조남인;김창교
    • 한국산학기술학회:학술대회논문집
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    • 한국산학기술학회 2000년도 추계학술대회
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    • pp.185-193
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    • 2000
  • 이방성 습식 식각을 이용하여 멤브레인을 제작하기 위하여 KOH-IPA의 식각액을 사용하여 단결정 실리콘 기판을 이방성으로 식각을 하고, 각 용액에 대한 식각 특성을 관찰하였다. 식각률은 식각액의 온도와 농도에 의존하며, 패턴 형성 방향과 식각액의 농도에 따라 식각 형태가 다르게 나타났다. 패턴은 Primary Flat에 45°로 기울여 형성되었으며 20wt·% KOH 80℃ 이상에서는 U-groove, 그 이하의 온도와 농도에서는 V-groove 식각 형태를 관찰할 수 있었다. 각 면에 대한 식각률 차이에 의해서 생기는 Hillock은 온도와 농도가 높아짐에 따라 줄어들었고, 재식각을 퉁하여 현저하게 줄어듦을 알 수 있었다.

Bi2O3를 첨가한 8M KOH용액에서 다결정 Ag전극의 전기화학적 거동 (Electrochemical Behaviors of Polycrystalline Silver Electrodes in 8M KOH Solutions Containing Bi2O3)

  • 허태욱;공영경;정원섭
    • 전기화학회지
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    • 제8권1호
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    • pp.17-23
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    • 2005
  • $Bi_2O_3$를 첨가한 8M KOH용액에서 다결정 Ag전극의 전기화학적인 거동과 생성된 산화물들의 미세조직 변화를 분석하였다. $Bi_2O_3$를 첨가한 8M KOH용액에서 Ag 산화물뿐만 아니라 새로운 Ag-Bi-O화합물들이 생성되는 것을 알 수 있었다. Ag(I) 산화물 생성 전위 영역에서는 $Ag_2O$ 이외에, Ag-Bi-O 화합물이 핵 생성과 3D성장 과정에 의해서 생성되고, Ag(II)산화물 생성 전위 영역에서는 AgO뿐만 아니라 새로운 Ag-Bi-O화합물들이 핵 생성과 3D성장 과정에 의해서 생성되었다. Ag(I) 산화물 생성 전위에서 두 가지 형상의 Ag(I) 산화물이 생성되는 것을 SEM 조직에 의해 관찰하였다.

알칼리 수산화물에서 핵연료피복관용 Zr합금의 부식거동

  • 정용환
    • 한국원자력학회:학술대회논문집
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    • 한국원자력학회 1995년도 추계학술발표회논문집(2)
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    • pp.759-764
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    • 1995
  • 여러 가지 Zr합금의 부식거동을 LiOH, NaOH, KOH, RbOH, CsOH 용액조건에서 autoclave를 이용하여 조사하였다. 용액내의 알칼리 농도는 0.3mmol 4.3mmol 31.5mmo1를 선택하였는데, 이는 Li의 경우에 2.2ppm 30ppm, 220ppm에 해당되는 농도이다. Zr합금은 ZrSn-TRM(천이원소)과 ZrSnNb-TRM(천이원소)의 두 종류의 합금을 사용하였다. 알칼리 분위기에서 Zr함금의 부식을 지배하는 이온은 양이 온인 것으로 밝혀졌으며, 양이온의 반경이 Zr합금의 천이전 영역에서의 부식을 지배하는 것으로 나타났다. Nb첨가 합금은 Zircaloy형 합금보다 내식성이 떨어진다. LiOH가 부식을 가장 가속시키는 알칼리로 밝혀졌으며 CsOH나 KOH는 거의 Zr합금의 부식을 가속시키지 않는다. 따라서 CsOH나 KOH는 PWR에 적응 가능한 대체 알칼리로서 가능성을 보였다.

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기판 세정공정 변화에 따른 실리콘 웨이퍼/비정질 실리콘 박막 나노계면 및 이종접합 태양전지 소자 특성 연구

  • 오준호;이정철;김동석;김가현
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.423.1-423.1
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    • 2014
  • 본 발표에서는 실리콘 이종접합 태양전지에서 중요한 실리콘 웨이퍼 표면/계면 제어에 대하여 발표한다. 다시 말하여, 실리콘 웨이퍼 기판 세정공정 변화에 따른 실리콘 웨이퍼 표면의 소수전하수명(minority carrier lifetime, MCLT) 및 태양전지 소자특성 변화에 대하여 연구하였다. 구체적으로, 실리콘 웨이퍼 클리닝 최초단계로써 KOH damage etching 공정을 도입할 때, 이후 클리닝 공정을 통일하여 적용한 웨이퍼 표면의 MCLT 및 상기 웨이퍼를 이용하여 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)을 통하여 제작한 태양전지 소자 효율은 KOH etching 시간이 10분일 때 최대치에 도달한 후 감소하였다. 또한, RCA1, RCA2, Piranha로 이루어진 웨이퍼 클리닝 단계의 사이에, 또는 맨 마지막에 묽힌 불산용액(DHF, 5 %) 처리를 하여 표면 산화막 제거 및 수소종단처리를 하여 기판의 passivation 특성을 향상시키고자 할 때, 불산용액 처리 순서에 따른 웨이퍼 표면의 MCLT 및 태양전지 소자 효율을 비교하였다. 그 결과, 묽은불산용액을 클리닝 단계 사이에 적용하였을 때의 MCLT 및 태양전지 소자의 특성이 더 우수하였다.

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화강석 잔사의 응집 특성 (Coagulation characteristics of Granite Particle)

  • 홍영호;조석형;전용진
    • 한국산학기술학회:학술대회논문집
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    • 한국산학기술학회 2001년도 추계산학기술 심포지엄 및 학술대회 발표논문집
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    • pp.161-162
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    • 2001
  • 본 연구는 화강석 가공공정에서 발생하는 폐잔사틀 자원으로 활용하기 위하여 화강석 폐잔사의 응집 특성에 관하여 실시한 연구이다. 이를 위하여 Al₂(SO₄)₃와 FeCl₃ 그리고 KOH, Al(OH)₃, 그리고 K₂CO₃를 사용하여 만든 용액(SK용액)을 사용하여 산성 분위기와 알칼리성 분위기에서 응집특성에 관하여 실험하였다. 응집 특성은 탁도 제거와 충전밀도를 사용하여 분석하였다.

쌀 알칼리붕괴반응의 품종간 변이와 호화온도 및 수분흡수율과의 관계 (Varietal Variation of Alkali Digestion Value and Its Relationship with Gelatinization Temperature and Water Absorption Rate of Milled Rice Grain)

  • 김광호;오세만
    • 한국작물학회지
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    • 제37권1호
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    • pp.28-36
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    • 1992
  • 쌀알의 알칼리붕괴도와 호화온도 및 수분흡수율간의 관계를 밝히기 위하여 50품종의 쌀을 이용하여 4농도의 알칼리용액에서 쌀알의 붕괴반응을 조사하였으며 알칼리붕괴반응에 근거하여 선발한 24품종에 대하여는 알칼리용액에서의 침지시간에 따른 쌀알의 붕괴정도, 가열온도 및 시간에 따른 쌀알의 완전호화율 그리고 21$^{\circ}C$ 및 77$^{\circ}C$의 물에 쌀을 침지했을 때의 흡수율 등을 조사하였다. 1. 자포니카형 및 통일형품종들의 알칼리붕괴도의 차이는 KOH 1.2%농도에서 가장 확실히 나타났지만 각 품종의 알칼리붕괴반응을 정확히 알기위해서는 KOH 1.2% 및 1.4%에서 쌀알의 붕괴도를 검정하는 것이 좋았다. 2. 4개수준의 알칼리농도에서 조사한 붕괴도에 근거하여 공시품종을 3품종군으로 나눌 수 있었는데 알칼리용액에 쌀알을 침지한 후 경과시간에 따른 붕괴반응에도 품종간 차이가 있었다. 3. 알칼리 붕괴반응이 크게 다른 품종군간에는 가열온도 및 시간에 따른 호화립비율의 차이가 분명하여 알칼리붕괴도가 낮은 품종의 쌀이 높은 쌀에 비하여 완전호화에 필요한 온도가 높았고 호화소요시간도 길었으나 동일한 품종군내에서도 품종간 차이가 있었다. 4. 알칼리붕괴도가 아주 낮았던 품종군의 쌀은 알칼리붕괴도가 중간 또는 높은 품종군에 비하여 상온(21$^{\circ}C$) 및 가열(77$^{\circ}C$)흡수율이 아주 낮았고 알칼리붕괴도가 중간인 품종군은 높은 품종군에 비하여 상온에서의 초기 수분흡수속도가 느렸다.

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알카리 금속을 배재한 단결정 실리콘 태양전지의 텍스쳐링 공정 (Alkali metal free texturing for mono-crystalline silicon solar cell)

  • 김태윤;김회창;김범호
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 한국신재생에너지학회 2010년도 추계학술대회 초록집
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    • pp.48.1-48.1
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    • 2010
  • 단결정 실리콘 태양전지 제조 공정이 진행되는 과정에서 각종 오염물에 의해 표면이 오염된다. 태양전지의 효율 개선을 위한 표면 texturing 공정은 주로 wet etch을 주로 사용한다. Wet etch 공정 시 주로 사용되는 KOH 용액은 texturing 후 실리콘 웨이퍼 표면에 K+ 이온을 남기고 이는 태양전지 표면에서의 불순물로 작용하여 효율을 저하시키는 요인이 된다. 이를 제거하기 위해 불산 및 오존에 의한 세정 공정이 추가로 필요로 하게 된다. 이러한 공정을 최소화 하며 잔존하는 알칼리 금속도 제거하기 위해, etchant로 알카리 용액이 아닌 ethylenediamine을 사용하여 texturing 후 KOH 용액과 비교해 보았다.

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