• 제목/요약/키워드: High Quality Factor Series Resonance

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A High Gain and High Harmonic Rejection LNA Using High Q Series Resonance Technique for SDR Receiver

  • Kim, Byungjoon;Kim, Duksoo;Nam, Sangwook
    • Journal of electromagnetic engineering and science
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    • 제14권2호
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    • pp.47-53
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    • 2014
  • This paper presents a high gain and high harmonic rejection low-noise amplifier (LNA) for software-defined radio receiver. This LNA exploits the high quality factor (Q) series resonance technique. High Q series resonance can amplify the in-band signal voltage and attenuate the out-band signals. This is achieved by a source impedance transformation. This technique does not consume power and can easily support multiband operation. The chip is fabricated in a $0.13-{\mu}m$ CMOS. It supports four bands (640, 710, 830, and 1,070MHz). The measured forward gain ($S_{21}$) is between 12.1 and 17.4 dB and the noise figure is between 2.7 and 3.3 dB. The IIP3 measures between -5.7 and -10.8 dBm, and the third harmonic rejection ratios are more than 30 dB. The LNA consumes 9.6 mW from a 1.2-V supply.

Effects of Multi-layer Bragg Reflectors on ZnO-based FBAR Devices

  • Lee, Jae-Young;Mai, Lihn;Pham, Van-Su;Yoon, Gi-Wan
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2007년도 춘계종합학술대회
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    • pp.441-444
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    • 2007
  • In this paper, the resonance characteristics of ZnO-based film bulk acoustic resonator (FBAR) devices with high-quality multi-layer reflectors are proposed. The ultrathin Cr film $(300\;\AA-thick)$ between $SiO_2$ film and W film is formed by a sputtering-deposition in order to enhance the adherence at their interfaces. The resonance frequency was observed to vary with the number of the reflectors. This seems to be attributed to the change in the effective thickness of the ZnO film. Also, increasing the number of layers has led to a significant improvement of the series/parallel quality factor.

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Fabrication Techniques and Their Resonance Characteristics of FBAR Devices

  • Yoon, Gi-Wan;Song, Hae-Il;Lee, Jae-Young;Mai, Linh;Kabir, S. M. Humayun
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2007년도 추계종합학술대회
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    • pp.204-207
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    • 2007
  • Film bulk acoustic wave resonator (FBAR) technology has attracted a great attention as a promising technology to fabricate the next-generation RF filters mainly because the FBAR technology can be integrated with current Si processing. The RF filters are basically composed of several FBAR devices connected in parallel and in series, and their characteristics depend highly on the FBAR device characteristics. Thus, it is important to design high quality FBAR devices by device or process optimization. This kind of effort may enhance the FBAR device characteristics, eventually leading to FBAR filters of high performance. In this paper, we describe the methods to more effectively improve the resonance characteristics of the FBAR devices.

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Design of a Highly Efficient Broadband Class-E Power Amplifier with a Low Q Series Resonance

  • Ninh, Dang-Duy;Nam, Ha-Van;Kim, Hyoungjun;Seo, Chulhun
    • Journal of electromagnetic engineering and science
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    • 제16권3호
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    • pp.143-149
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    • 2016
  • This work presents a method used for designing a broadband class-E power amplifier that combines the two techniques of a nonlinear shunt capacitance and a low quality factor of a series resonator. The nonlinear shunt capacitance theory accurately extracts the value of class-E components. In addition, the quality factor of the series resonator was considered to obtain a wide bandwidth for the power amplifiers. The purpose of using this method was to produce a simple topology and a high efficiency, which are two outstanding features of a class-E power amplifier. The experimental results show that a design was created using from a 130 to 180 MHz frequency with a bandwidth of 32% and a peak measured power added efficiency of 84.8%. This prototype uses an MRF282SR1 MOSFET transistor at a 3-W output power level. Furthermore, a summary of the experimental results compared with other high-efficiency articles is provided to validate the advantages of this method.

FBAR 소자의 제작기법 및 공진특성 (Fabrication Techniques & Resonance Characteristics of FBAR Devices)

  • 윤기완;송해일;이재영;마이린;휴메이윤 카비르
    • 한국정보통신학회논문지
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    • 제11권11호
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    • pp.2090-2094
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    • 2007
  • 박막음향공진기(FBAR) 기술은 현재의 실리콘 공정기술과 높은 집적화 가능성으로 인하여 차세대 RF 필터를 제작할 수 있는 매우 희망적인 기술로 최근에 큰 관심을 불러 일으켜 왔다. RF 필터는 기본적으로 여러 개의 FBAR 소자들을 직렬과 병렬로 연결된 형태로 구성되므로 그 필터의 특성은 각각의 FBAR 소자의 특성에 크게 의존하게 된다. 따라서 우수한 품질의 FBAR 소자를 제작하기 위해서는 우선적으로 소자 및 공정의 최적화 설계가 중요한다. 이러한 최적화 설계는 FBAR 소자 특성을 크게 향상 시킬 수 있게 되고, 궁극적으로 우수한 성능을 가진 FBAR 필터의 구현으로 이어지게 된다. 본 논문에서는, 이러한 FBAR 소자의 공진특성을 더욱 효과적으로 향상시킬 수 있는 방법들에 관한 연구결과를 고찰하고 논의한다.

광대역 특성을 갖는 집중 소자를 이용한 고출력 증폭기용 마이크로파 바이어스-티의 설계 (Design of a Microwave Bias-Tee Using Lumped Elements with a Wideband Characteristic for a High Power Amplifier)

  • 오현석;정해창;염경환
    • 한국전자파학회논문지
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    • 제22권7호
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    • pp.683-693
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    • 2011
  • 본 논문에서는 고출력 증폭기의 바이어스를 위한 대전류 마이크로파 광대역 바이어스-티의 설계를 보였다. DC 블록용 커패시터는 큰 어드미턴스를 가지도록 커패시터의 병렬합을 이용하고, DC 공급 및 RF 초크용 인덕터는 광대역의 큰 임피던스를 가지는 인덕터의 직렬합을 이용하여 설계하였다. DC 블록이나 RF 초크에 사용되는 인덕터나 커패시터는 자기 공진 주파수(SRF: Self Resonance Frequency)를 가지고 있어 사용 대역이 제약된다. 이를 해결하기 위해 RF 초크에서는 저항을 추가하여 공진 주파수에서 품질 계수를 조정함으로써 해결하였다. 그리고 DC 블록에서는 별도의 품질 계수 조정없이 병렬합만으로 가능하였다. 이 결과를 이용하여 1608 칩 형태의 집중 소자들을 표면 실장 기법(surface mount)으로 PCB 패턴에 조립하여 바이어스-티를 제작하였다. 제작된 바이어스-티는 10 MHz~10 GHz에서 측정된 반사 손실이 10 dB 이하를 가지며, 입력 임피던스는 광대역에서 50 ohm 근처의 값을 만족하는 것을 확인하였다.