We have prepared alumina (Al2O3) doped zinc oxide (AZO) films by DC magnetron sputtering (MS) technique and obtained higher self surface texturing at a high target angle (f). We have characterized the films and applied it as a front electrode of a single junction amorphous silicon solar cell. At a lower f the deposited films show higher values of optical gap (Eg), charge carriers mobility & concentration, crystallite grain size and wider wavelength range of transmission. At higher target angle the sheet resistance, surface roughness, haze factor etc for the films increase. For f=72.5o the haze factor for diffused transmission becomes 6.46% at 540 nm wavelength. At f=72.5o the material shows a reduction in crystallinity and evolution of a hemispherical-type sub-micron surface textures. A Monte Carlo method (MCM) of simulation of the AZO film deposition shows that such an enhanced self-surface texturing of the films at higher f is possible.
Transparent conductive oxides (TCOs) play an important role in thin-film solar cells in terms of low cost and performance improvement. Al-doped ZnO (AZO) is a very promising material for thin-film solar cellfabrication because of the wide availability of its constituent raw materials and its low cost. In this study, AZO films were prepared by low pressurechemical vapor deposition (LPCVD) using trimethylaluminum (TMA), diethylzinc(DEZ), and water vapor. In order to improve the absorbance of light, atypical surface texturing method is wet etching of front electrode using chemical solution. Alternatively, LPCVD can create a rough surface during deposition. This "self-texturing" is a very useful technique, which can eliminate additional chemical texturing process. The introduction of a TMA doping source has a strong influence on resistivity and the diffusion of light in a wide wavelength range.The haze factor of AZO up to a value of 43 % at 600 nm was achieved without an additional surface texturing process by simple TMA doping. The use of AZO TCO resulted in energy conversion efficiencies of 7.7 % when it was applied to thep-i-n a-Si:H thin film solar cell, which was comparable to commercially available fluorine doped tin oxide ($SnO_2$:F).
Dye-sensitized Solar Cell (DSC) is a new type of solar cell by using photocatalytic properties of $TiO_2$. The electric potential distribution in DSCs has played a major role in the operation of such cells. $TiO_2$ thin films were deposited on the ITO substrate by Nd:YAG Pulsed Laser Deposition(PLD) at room temperature and post-deposition annealing at $500^{\circ}C$ in flowing $O_2$ atmosphere for 1hour. The structural properties of $TiO_2$ thin films have investigated by X-ray diffraction(XRD). We manufactured DSC unit cells then I-V and efficiency were tested by solar simulator.
The transparent conductive oxide(TCO) has been used in necessity as front electrode for increasing efficiency of LED. In our paper, aluminium-doped zinc oxide films(AZO), which has transparent conducting were prepared with RF magnetron sputtering system on glass substrate(corning 1737) and annealed at $400^{\circ}C$ for 2 hr in vacuum ambient and $600^{\circ}C$ for 2hr with $O_2$ ambient respectively. The smooth AZO films were etched in diluted HCL(0.5 %) to examine the surface properties, which in ambient post-annealing process. We confirmed that the electric, structural and optical properties of textured AZO thin films, which implemented using the methods of XRD, FWHM, AFM and Hall measurement. The properties of textured AZO thin films especially depended on the ambient post-annealing process. We presumed that the change of transmittances as R G B LED and the ambient post-annealing process will be increasing the efficiency of LED.
Crystalline silicon solar cell is a semiconductor device that converts light into electrical energy. Screen printing is commonly used to form the front/back electrodes in silicon solar cell. Screen printing method is convenient but usually shows high resistance and low aspect ratio, which cause the efficiency decrease in crystalline silicon solar cell. Recently the plating method is applied in c-Si solar cell to reduce the resistance and improve the aspect ratio. In this paper, we investigated the effect of additional electroless Ag plating into screen-printed c-Si solar cell and compared their electrical properties. All wafers used in this experiment were textured, doped, and anti-reflection coated. The electrode formation was performed with screen-printing, followed by the firing step. Aften then we carried out electroless Ag plating by changing the plating time in the range of 20 sec~5 min and light intensity. The light I-V curve and optical microscope were measured with the completed solar cell. As a result, the conversion efficiency of solar cells was increased mainly due to the decreased series resistance.
한국정보디스플레이학회 2003년도 International Meeting on Information Display
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pp.734-738
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2003
The addressing time should be reduced by modifying cell and/or driving method in order to replace the dual scan system by single scan and increase the luminance in large ac plasma display panel(PDP). In this paper, the relationships between of discharge cell structure and addressing time in ac PDP are investigated. It is found out that the addressing time was decreased with decreasing gap of ITO electrode and thickness of transparence dielectric layer on the front glass. The decrease rates were 4% per $10{\mu}m$ and 4% per $5{\mu}m$, respectively. Also in cases of decreasing height of barrier rip and thickness of white dielectric layer on the rear glass, addressing times were at the rate of 4% per $10{\mu}m$ and 4% per $2{\mu}m$, respectively.
The effect of diffusing substrate and pillow lenses on the outcoupling efficiency of organic light-emitting diodes (OLEDs) was studied by optical simulation based on the point-dipole model. The diffusing substrate included Mie scatterers by which the condition of total internal reflection could be broken. The finite-difference time-domain method was used to obtain the intensity distribution on the transparent electrode of an OLED, which was used as a light source to carry out a ray-tracing simulation of the OLED and the diffusing substrate. It was found that the outcoupling efficiency of the OLED was sensitive to the thickness of organic layers and could be increased by 21.0% by adopting a diffusing substrate in which Mie scatterers whose radius was $2.0{\mu}m$ were included at the density of $10^7mm^{-3}$ and by 65.5% by forming one pillow lens with the radius of 2 mm on the front surface of the glass substrate. This study revealed that the outcoupling efficiency could be improved by adopting diffusing substrate and pillow lenses along with the optimization of the thickness of each layer in the OLED.
Indium tin oxide (ITO) has a lot of variations of its properties because it is basically in an amorphous state. Therefore, the differences in composition ratio of ITO can result in alteration of electrical properties. Normally, ITO is considered as transparent conductive oxide (TCO), possessing excellent properties for the optical and electrical devices. Quantitatively, TCO has transparency over 80 percent within the range of 380nm to 780nm, which is visible light although its specific resistance is less than $10-3{\Omega}/cm$. Thus, the solar cell is the best example for which ITO has perfectly matching profile. In addition, when ITO is used as transparent conductive electrode, this material essentially has to have a proper work function with contact materials. For instance, heterojunction with intrinsic thin layer (HIT) solar cell could have both front ITO and backside ITO. Because each side of ITO films has different type of contact materials, p-type amorphous silicon and n-type amorphous silicon, work function of ITO has to be modified to transport carrier with low built-in potential and Schottky barrier, and approximately requires variation from 3 eV to 5 eV. In this study, we examine the change of work function for different sputtering conditions using ultraviolet photoelectron spectroscopy (UPS). Structure of ITO films was investigated by spectroscopic ellipsometry (SE) and scanning electron microscopy (SEM). Optical transmittance of the films was evaluated by using an ultraviolet-visible (UV-Vis) spectrophotometer
ZnO:Al thin film can be used as a transparent conducting oxide(TCO) which has low electric resistivity and high optical transmittance for the front electrode of amorphous silicon solar cells and display devices. This study of electrical, crystallographic and optical properties of Al doped ZnO thin films prepared by Facing Targets Sputtering(FTS), where strong internal magnets were contained in target holders to confine the plasma between the targets, is described. Optimal transmittance and resistivity was obtained by controlling flow rate of $O_2$ gas and substrate temperature. When the $O_2$ gas rate of 0.3 and substrate temperature $200^{\circ}C$, ZnO:Al thin film had strongly oriented c-axis and lower resistivity( < $10^{-4}{\Omega}-cm$ ).
Luminescence characteristics of Ag-doped ZnO as the quantum dot materials to increasing the efficiency on dye-sensitized solar cells (DSC) have been studied. Ag doped ZnO powder was produced by the self-sustaining combustion process using ultrasonic spraying heating method. Luminescence wavelength region of the ZnO by Ag doping was shifted to longer wavelength. Tn the case of the Ag doped ZnO powder, broad luminescence spectrum centered on 600nm was observed. On the other hand, we compared PL data of RTA treated ZnO:Ag film at various temperatures because the front electrode of solar cell was in need of the sintering process. In XRD and PL data for RTA treated film at the 500$^{\circ}C$ showed good property. And, it was found that the grain size wasn't growing but only optical property was changed. According to the result of XRD, PL, absorption, emission spectrum and DV-X${\alpha}$ used in theoretical calculation, it is considered to be possible to use Ag doped ZnO as quantum dot material for improving DSC efficiency.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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