The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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v.52
no.3
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pp.109-115
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2003
Diamond-like carbon (DLC) films are deposited at room temperature using a filtered cathodic vacuum arc (FCVA) technique. The influence of negative bias voltage (applied to the substrate from 0 to -250V) on the $sp^3$ hybridized carbon fraction is examined by Raman spectroscopy and x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) for C 1s core peak. For the first time, depth profile of C 1s, Si 2p, and O 1s XPS peaks for the deposited DLC film are obtained. DLC film is modeled as a multilayered structure. composing of surface, bulk, and interface. In addition, the x-ray reflectivity (XRR) is proposed as a method for estimating the density, surface roughness, and thickness of each layer constituting the DLC film. The estimated thickness of DLC film is in good agreement with the result obtained from the transmission electron microscope (TEM) measurement.
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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v.52
no.8
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pp.325-329
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2003
Effects of thermal treatment on the structural properties of diamond-like carbon (DU) films were examined. The DLC films were deposited by using a modified filtered cathodic vacuum arc (FCVA) deposition system and by varying the negative substrate bias voltage, deposition time, and nitrogen flow rate. Thermal treatment on DLC films was performed using a rapid thermal annealing (RTA) process at $600^{\circ}C$ for 2min. Raman spectroscopy, x-ray photoemission spectroscopy (XPS), atomic force microscope (AFM), and surface profiler were used to characterize the I$_{D}$I$_{G}$ intensity ratio, sp$^3$ hybrid carbon fraction, internal stress, and surface roughness. It was found for all the deposited DLC films that the RTA-treatment results in the release of internal compressive stress, while at the same time it leds to the decrease of sp$^3$ fraction and the increase of I$_{D}$I$_{G}$ intensity ratio. It was also suggested that the thermal treatment effect on the structural property of DLC films strongly depends on the diamond-like nature (i.e., sp$^3$ fraction) of as-deposited film.ed film.
DLC films are deposited by using a modified FCVA system. Carbon amorphous network, surface roughness, internal compressive stress, resistivity, and Hall mobility are studied as a function of nitrogen flow rate (0 $\sim$ 10 sccm). As the nitrogen content is increased in the carbon network, the size of $sp^2$ clusters is increased, the internal compressive stress is decreased, and the resistivity is remarkably decreased. The RMS values of the surface roughness are measured to be in the range of 0.2$\sim$0.5nm. The Hall mobility of DLC film with 3 sccm of nitrogen added is 3.22 $cm^2/V{\cdot}$s.
Park, Chang-Kyun;Chang, Seok-Mo;Uhm, Hyun-Seok;Seo, Soo-Hyung;Park, Jin-Seok
Proceedings of the KIEE Conference
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2001.11a
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pp.16-19
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2001
DLC films are deposited using a modified FCVA system. Carbon amorphous networks, chemical bonding states, $sp^3$ fraction, interfaces, and structures are studied as a function of substrate voltage ($0{\sim}-250V$). The $sp^3$ content in the films is evaluated by analyzing the XPS spectra(C1s). The structural properties of the surface, bulk, and interfacial layers in DLC/Si systems are quantitatively analyzed by employing XRR method. As the substrate voltage is increased, the $sp^3$ fraction is decreased by means of XPS and Raman spectroscopy. In addition, the structural properties (interfacial layer, contamination layer, and sp3 fraction) derived from XPS depth profile are relatively correlated with the XRR results.
Diamond-like carbon(DLC) thin films are produced by using a filtered cathodic vacuum arc(FCVA) deposition system. Different magnetic components, namely steering, focusing, and filtering plasma-optic systems, are used to achieve a stable arc plasma and to prevent the macroparticles from incorporating into the deposited films. Effects of magnetic fields on plasma behavior and film deposition are examined. The carbon ion energy is found to be varied by applying a negative (accelerating) substrate bias voltage. The deposition rate of DLC films is dependent upon magnetic field as well as substrate bias voltage and at a nominal deposition condition is about $2{\AA}/s$. The structural properties of DLC films, such as internal stress, relative fraction of tetrahedral($sp^3$) bonds, and surface roughness have also been characterized as a function of substrate bias voltages and partial gas($N_2$) pressures.
PARK, Chang-Kyun;UHM, Hyun-Seok;SEO, Soo-Hyung;PARK, Jin-Seok
Proceedings of the KIEE Conference
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2000.07c
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pp.1717-1719
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2000
DLC films are deposited by using an FCVA deposition system with a mirror-type magnetic field configuration. Permanent magnets and: magnetic yokes around the cathode have been observed to enhance the mobility of arc spots on the cathode and the stability of arc plasma, Effects of reactor pressures and substrate biases on structural properties of DLC films deposited are investigated. The results show that the highest $sp^{3}/sp^{2}$ fraction is obtained when the films are deposited at a pressure of $3{\times}10^4$ Torr and a bias voltage of - 50 V. The variation of the structural properties due to thermal stress up to 500$^{\circ}C$ is also examined.
Kim, Young-Do;Chang, Seok-Mo;Park, Chang-Kyun;Uhm, Hyun-Seok;Park, Jin-Seok
Proceedings of the KIEE Conference
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2002.07c
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pp.1536-1538
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2002
Effects at thermal treatment on the structural and electrical properties at DLC films have been studied. The DLC films were deposited by using a modified FCVA system as a function at negative substrate bias voltage, deposition time, and nitrogen flow rate. The thermal treatment on DLC films could be achieved by performing the RTA process at $600^{\circ}C$, 2min. Structural investigation on the thermal treatment effect was evaluated by inspecting the Raman spectroscopy, XPS, AFM, and internal compressive stress. In addition, the electrical properties of DLC films were evaluated by using the high current source and Lab-View data acquisition system. As the result at RTA treatment, $sp^3/sp^2$ ratio and internal compressive stress of the DLC films were decreased tram 5% to 22% and from 1GPa to 3GPa, and the $I_D/I_G$ intensity ratios was increased from 0.19 to 0.35. It was also found that the variation of internal stress of DLC films strongly agree with the variation of $sp^3/sp^2$ fraction and $I_D/I_G$ intensity ratio.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.54
no.2
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pp.53-61
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2021
The properties of tetrahedral amorphous Carbon (ta-C) film can be determined by multiple parameters and comprehensive effects of those parameters during a deposition process with filtered cathodic vacuum arc (FCVA). In this study, Taguchi method was adopted to design the optimized FCVA deposition process of ta-C for improving deposition efficiency and mechanical properties of the deposited ta-C thin film. The influence and contribution of variables, such as arc current, substrate bias voltage, frequency, and duty cycle, on the properties of ta-C were investigated in terms of deposition efficiency and mechanical properties. It was revealed that the deposition rate was linearly increased following the increasing arc current (around 10 nm/min @ 60 A and 17 nm/min @ 100A). The hardness and ID/IG showed a correlation with substrate bias voltage (over 30 GPa @ 50 V and under 30 GPa @ 250 V). The scratch tests were conducted to specify the effect of each parameter on the resistance to plastic deformation of films. The analysis on variances showed that the arc current and substrate bias voltage were the most effective controlling parameters influencing properties of ta-C films. The optimized parameters were extracted for the target applications in various industrial fields.
Kim, Won-Seok;Kim, Songkil;Jang, Young-Jun;Kim, Jongkuk
Tribology and Lubricants
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v.38
no.3
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pp.101-108
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2022
The structure and properties of tetrahedral amorphous carbon (ta-C) coatings depend on the main process parameters and bending angles of the magnetic field filter used in the filtered cathodic vacuum arc (FCVA). During the process, it is possible to effectively control the plasma flux of carbon ions incident on the substrate by controlling the arc discharge current, thereby influencing the mechanical properties of the coating film. Furthermore, we can control the size and amount of large particles mixed during carbon film formation while conforming with the bending angle of the mechanical filter mounted on the FCVA; therefore, it also influences the mechanical properties. In this study, we consider tribological characteristics for filtered bending angles of 45° and 90° as a function of arc discharge currents of 60 and 100 A, respectively. Experiment results indicate that the frictional behavior of the ta-C coating film is independent of the bending angle of the filter. However, its sliding wear behavior significantly changes according to the bending angle of the FCVA filter, unlike the effect of the discharge current. Further, upon changing the bending angle from 45° to 90°, abrasive wear gets accelerated, thereby changing the size and mixing amount of macro particles inside the coating film.
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.20
no.12
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pp.27-36
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2019
The demand for a low dispersion lens with a small refractive index and a high refractive index is increasing, and accordingly, there is an increasing need for a releasable protective film with high heat resistance and abrasion resistance. On the other hand, the optical industry has not yet established a clear standard for the manufacturing process and quality standards for mold-releasing protective films used in aspheric glass lens molding. Optical lens manufacturers treat this technology as proprietary information. In this study, an experiment was conducted regarding the optimization of ion etching, magnetron, and arc current at each source and filter part, and bias voltage in FCVA (filtered cathode vacuum arc)-based Ta-C thin film coatings. This study found that compared to iridium-rhenium alloy thin film sputtering products, the coating conditions were improved by approximately 50%, 20%, and 40% in terms of thickness, hardness, and adhesive strength of the film, respectively. The thin-film coating process proposed in this study is expected to contribute significantly to the development and utilization of glass lenses, which will help enhance the minimum mechanical properties and quality of the mold-release thin film layer required for glass mold surface forming technology.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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