Fluoride (F) is an important element for the mineralization of body tissues. The purpose of this study was to administer fluoride prenatally to rats to evaluate its beneficial concentration for rat bone using microstructural analysis, to analyze its effect on the bone structure, and to evaluate the effect of its transfer through rat placenta. Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) and nuclear magnetic resonance spectrometry (NMR) were performed. The $^{19}F$ NMR and $^{31}P$ NMR signals suggested the existence of fluoride ions in the apatite lattice because the signals were caused by the fluoride ions that were coupled to the phosphate atoms and were affected in the phosphate phases other than the element phases in the apatite. Consequently, if it was not affected too much, the desirable concentration of prenatal fluoride treatment could have a helpful effect on the bone crystal structure through placental fluoride transfer.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.114.1-114.1
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2014
Copper is considered to be the most promising substrate for the growth of high-quality and large area graphene by chemical vapor deposition (CVD), in particular, on the (111) facet. Because the interactions between graphene and Cu substrates influence the orientation, quality, and properties of the synthesized graphene, we studied the interactions using angle-resolved photoemission spectroscopy. The evolution of both the Shockley surface state of the Cu(111) and the p band of the graphene was measured from the initial stage of CVD growth to the formation of a monolayer. Graphene growth was initiated along the Cu(111) lattice, where the Dirac band crossed the Fermi energy ($E_F$) at the K point without hybridization with the d-band of Cu. Then two rotated domains were additionally grown as the area covered with graphene became wider. The Dirac energy was about 0.4 eV and the energy of the Shockley surface state of Cu(111) shifted toward the $E_F$) by 0.15 eV upon graphene formation. These results indicate weak interactions between graphene and Cu, and that the electron transfer is limited to that between the Shockley surface state of Cu(111) and the p band of graphene. This weak interaction and slight lattice mismatch between graphene and Cu resulted in the growth of rotated graphene domains ($9.6^{\circ}$ and $8.4^{\circ}$), which showed no significant differences in the Dirac band with respect to different orientations. These rotated graphene domains resulted in grain boundaries which would hinder a large-sized single monolayer growth on Cu substrates.
The nonstoichiometric ordering of Mg and Nb cations in undoped and La-doped lead magnesium niobate solid solutions has been investigated by means of high-resolution transmission electron microscopy and computer image simulation. High-resolution lattice images were obtained under various microscope imaging conditions and objective apertures. Computer image simulations were performed for a wide range of sample thickness, defocusing value, and long-range order parameter. The simulated images revealed that the lattice images of the ordered regions were predominantly dependent on the long-range order parameter. From the comparisons of the experimental and simulated images for the ordered regions, the long-range order parameter approximately ranged 0.2 to 0 7. It was also found that the ordered structure has a $(NH_4)_3-FeF_6$ structure, which consists of alternating Mg- and Nb-preferred sublattices along the (111) directions.
Let L be a subspace lattice on a Hilbert space H and X and Y be operators acting on a Hilbert space H. Let P be the projection onto $\frac\;{R(X)}$, where RX is the range of X. If PE = EP for each $E\;\in\;L$, then there exists an operator A in AlgL such that AX = Y if and only if $$sup\{{\parallel}E^{\bot}Yf{\parallel}/{\parallel}E^{\bot}Xf{\parallel}\;:\;f{\in}H,\; E{\in}L}=K\;<\;\infty$$ Moreover, if the necessary condition holds, then we may choose an operator A such that AX = Y and ${\parallel}A{\parallel} = K.$ Let x and y be vectors in H and let $P_x$ be the projection onto the singlely generated space by x. If $P_xE = EP_x$ for each $E\inL$, then the assertion that there exists an operator A in AlgL such that Ax = y is equivalent to the condition $$K_0\;:\;=\;sup\{{\parallel}E^{\bot}y{\parallel}/{\parallel}E^{\bot}x\;:\;E{\in}L}=<\;\infty$$ Moreover, we may choose an operator A such that ${\parallel}A{\parallel} = K_0$ whose norm is $K_0$ under this case.
Given vectors x and y in a Hilbert space, an interpolating operator is a bounded operator T such that Tx = y. An interpolating operator for n vectors satisfies the equation $Tx_i\;=\;y_i,\;for\;i\;=\;1,\;2,\;\cdots,\;n$. In this paper the following is proved: Let H be a Hilbert space and L be a commutative subspace lattice on H. Let H and y be vectors in H. Let $M_x\;=\;\{{\sum{n}{i=1}}\;{\alpha}_iE_ix\;:\;n\;{\in}\;N,\;{\alpha}_i\;{\in}\;{\mathbb{C}}\;and\;E_i\;{\in}\;L\}\;and\;M_y\;=\;\{{\sum{n}{i=1}}\;{\alpha}_iE_iy\;:\;n\;{\in}\;N,\;{\alpha}_i\;{\in}\;{\mathbb{C}}\;and\;E_i\;{\in}\;L\}. Then the following are equivalent. (1) There exists an operator A in AlgL such that Ax = y, Af = 0 for all f in ${\overline{M_x}}^{\bot}$, AE = EA for all $E\;{\in}\;L\;and\;A^{*}\;=\;A$. (2) $sup\;\{\frac{{\parallel}{{\Sigma}_{i=1}}^{n}\;{\alpha}_iE_iy{\parallel}}{{\parallel}{{\Sigma}_{i=1}}^{n}\;{\alpha}_iE_iy{\parallel}}\;:\;n\;{\in}\;N,\;{\alpha}_i\;{\in}\;{\mathbb{C}}\;and\;E_i\;{\in}\;L\}\;<\;{\infty},\;{\overline{M_u}}\;{\subset}{\overline{M_x}}$ and < Ex, y >=< Ey, x > for all E in L.
Given vectors x and y in a Hilbert space $\cal{H}$, an interpolating operator is a bounded operator T such that Tx = y. An interpolating operator for n vectors satisfies the equations $Tx_i=y_i$, for i = 1, 2, ${\cdots}$, n. In this paper the following is proved : Let $\cal{L}$ be a subspace lattice on a Hilbert space $\cal{H}$. Let x and y be vectors in $\cal{H}$ and let $P_x$ be the projection onto sp(x). If $P_xE=EP_x$ for each $E{\in}\cal{L}$, then the following are equivalent. (1) There exists an operator A in Alg$\cal{L}$ such that Ax = y, Af = 0 for all f in $sp(x)^{\perp}$ and $A=A^*$. (2) sup $sup\;\{\frac{{\parallel}E^{\perp}y{\parallel}}{{\parallel}E^{\perp}x{\parallel}}\;:\;E\;{\in}\;{\cal{L}}\}$ < ${\infty}$, $y\;{\in}\;sp(x)$ and < x, y >=< y, x >.
For the execution of RIETAN program adopting Rietveld Analysis Method, the sample superconductor is made according to the solid state synthesis method at 920.deg. C for 24hrs, and was examined for the optimization of parameters needed to analyze Rietveld method with the input of the measured pattern data after measuring the pattern resulted from the X-ray diffraction. It was proven that the lattice constant of the superconductor which was consisted of Pmmm orthorhombic crystal structure in the analyzed space group correspond to the presented theoretical lattice constant a=3.8887(8).angs., b=3.8238(4).angs., c=11.7079.angs.. Therefore, it was examined and confin-ned that the R factor, which was compensated after analyzing the structure of superconductor resulted from this experimented data with the computer simulation, was refined to $R_{wp}$=8.83[%], $R_{P}$=6.47[%], $R_{I}$=10.08[%], $R_{F}$=7.19[%], $R_{E}$=3.76[%]. On the basis of these experimental data, the significant parameter such as the scale factor(S) and the zero point shift(Z) and FWHM value(U,V,W) were optimized as follows; S=2.0827E-3, Z=0.2146, U=4.2761E-2, V=1.7983E-2, and W=2.6768E-2.2.2.2.2.2.
A complete solid solution (SrLaAl1-xNixO4) between insulating SrLaAlO4 and metallic SrLaNi(Ⅲ)O4 oxides were prepared under high oxygen pressure (1.5 kbar, 800 ℃). They have tetragonal K2NiF4-type structure in all the solid solution range. Compared with lattice parameters of the same solid solution prepared under normal condition (1 bar, 1200 ℃), large decrease in the c-parameter was induced by high pressure treatment while no noticeable variation of the a-parameter was observed. Although marked changes of structural parameters, magnetic susceptibilities, and electron paramagnetic resonance spectra were consistently occurred before and after x=0.5, overall behaviors were essentially the same with those of solid solution prepared under normal condition. Such a phenomenon is explained by assuming the formation of partially filled narrow σ*x2-y2 band for x>0.5. Lattice contraction along the c-axis by high pressure treatment seems not to broaden this band. Particularly, the continuous absorption characteristic of a high free carrier concentration for x>0.5 and the absence of Ni-O in-plane stretching mode in the infrared absorption spectra supports this picture. However, the conductivities increasing with temperature for all solid solution suggest that some localization character, of probably Anderson type, remains for x>0.5.
Proceedings of the Korea Society for Energy Engineering kosee Conference
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1998.05a
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pp.221-228
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1998
2차원 노심핵설계 코드 HELIOS를 이용하여 $^{7}$ LiF-BeF$_2$-ThF$_4$-$^{233}$ UF$_4$ 용융염 핵연료와 흑연(Graphite) 감속재로 구성된 AMBIDEXTER(Advanced Molten-salt Break-even Inherently-safe Dual-mission EXperimental and TEst Reactor) 원자로의 육각주형 로심격자에 대해 핵적 자활성 요건의 설계해석을 수행하였다. AMBIDEXTER 원자로는 액체 핵연료의 유동성을 이용한 온라인 핵연료 정화ㆍ처리ㆍ재생의 연속공정을 도입하여 노내의 잔류 핵분열 생성물질의 포화양을 최소로 유지시키고 중성자 경제성을 극대화하므로 높은 전환율을 얻는 설계이다. 핵연료 내에 잔류하는 핵분열생성물질의 포화농도에 대응하는 연소도를 등가연소도로 정의할 때, 열출력 250MW$_{th}$ AMBIDEXTER 원자로의 등가연소도 374MWD/TeH.E.의 평형 로심 모델에 대해 핵적 자활성을 지배하는 주요 핵설계 인자로서 용융염 핵연료의 $^{233}$ U Mole 분율, 흑연-대-용융염의 체적비, 노심격자 간격 및 출력 밀도의 변화에 따른 임계도 및 전환율을 평가하였다. 그 결과, $^{233}$ U Mole 분율과 혹연-대-용융염 체적비를 좌표축으로 하는 2차원상공간에서 핵적 자활성 요건 상태함수는 각 노심격자간격에 대해 완만한 선형 함수로 표현할 수 있음을 확인하였다.
Kim, Do-Young;Park, Joong-Hyun;Ahn, Byung-Jae;Yoo, Jin-Su;Yi, Jun-Sin
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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2002.08a
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pp.526-529
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2002
Various fluoride films on a glass substrate were prepared and characterized in order to determine the best seed layer for a microcrystalline silicon (${\mu}c$-Si) film growth. Among the various group-IIA-fluoride systems, the $CaF_2$films on glass substrates illustrated (220) preferential orientation and a lattice mismatch of less than 0.7% with Si. $CaF_2$ films exhibited a dielectric constant between $4.1{\sim}5.2$ and an interface trap density ($D_{it}$ as low as $1.8{\times}10^{11}\;cm^{-2}eV^1$. Using the $CaF_2$/glass structure, we were able to achieve an improved ${\mu}c$-Si film at a process temperature of 300 $^{\circ}C$. We have achieved the ${\mu}c$-Si films with a crystalline volume fraction of 65%, a grain size of 700 ${\AA}$, and an activation energy of 0.49 eV.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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