Cu(hfac)$_2$,(Cu(II) hexafluoroacetylacetonate)를 프리커서로 하는 구리 화학증착에 대해 자유에너지 최소화법으로 열역학적 평형조성 계산을 수행하였다. Cu(hfac)$_2$-Ar계의 경우Cu(hfac)$_2$ 프리커서 자체의 열분해로부터 모든 공정조건에서 증착박막내로의 탄소 출입이 관찰되었다. Cu(hfac)$_2$-H$_2$,계에서는 Cu(hfac)$_2$-Ar계보다 낮은 온도에서 구리박막이 증착되며, H$_2$입력비 및 반응온도의 증가에 따라 응축상의 석출형태는 C(s)+CuF(s)로부터 C(s)+CuF(s)+Cu(s), C(s)+Cu(s), Cu(s), C(s)의 순으로 변화되는 것으로 나타났다.
Kirkendall void는 전해도금 Cu/Sn-Ag 솔더 접합부에서 형성되었으며 Cu 도금욕에 함유되는 첨가제에 의존한다. 첨가제로 사용된 SPS의 함량의 증가와 함께 $150^{\circ}C$에서 열처리 후 많은 양의 Kirkendall void가 $Cu/Cu_3Sn$ 계면에 존재하였다. AES 분석은 void 표면에 S가 편석되어 있음을 보여주었다. $Cu/Cu_3Sn$ 계면을 따라 파괴된 시편에서 Cu, Sn, S peak만 검출되었고 AES 깊이 프로파일에서 S는 급격하게 감소하였다. $Cu/Cu_3Sn$ 계면에서 S 편석은 계면에너지를 낮추고 Kirkendall void 핵생성을 위한 에너지장벽을 감소시킨다. 낙하충격시험은 SPS를 사용하여 도금된 Cu의 경우 Kirkendall void가 형성된 $Cu/Cu_3Sn$ 계면에서 파괴가 진행되고 급격하게 신뢰성이 감소됨을 보였다.
전자빔 증착 장비를 이용하여 SrS:Cu,X TFEL 소자를 제작한 후, 발광 특성을 분석하였다. 형광체 모체는 SrS 분말을 사용하였고 발광 중심체로는 Cu, $CuF_2,\;Cu_2S$ 또는 CuCl 등의 미분말을 사용하였다. SrS:Cu,X TFEL 소자의 발광 특성은 부활성제에 따라 매우 많은 변화를 나타내었다. SrS:$Cu_2$ TFEL 소자의 휘도($L_{40}$)와 효율 (${\eta}_{20}$)은 각각 1443 cd/$m^2$와 2.44 lm/w를 나타내었고, 녹색 빛의 발광 효율은 ZnS:Tb TFEL 소자보다 높아 새로운 녹색 형광체로의 활용이 기대되었다. SrS:CuCl TFEL 소자의 휘도($L_{40}$)와 효율(${\eta}_{20}$)은 각각 262 cd/$m^2$와 0.26 lm/w를 나타내었고 청색 빛을 방출하여 새로운 청색 형광체로의 활용 가능성을 확인하였다.
PbS, CuS and (Pb,Cu)S thin films were chemically deposited on glass from alkaline baths containing lead acetate, copper chloride, thiourea and triethanolamine. The deposition, optical, resistivity and thermal electric properties of these films were studied. PbS thin films showed a hexagonal structure and CuS thin films showed amorphous. The crystalline of (Pb,Cu)S thin films was obtained by heat treatment at 200$\^{C}$ and the deposition ratio of Pb to Cu showed 7:3. The energy gap of PbS, CuS and (Pb,Cu)S thin films were 1.7, 2.1 and 2.4 eV, respectively. Sheet resistance of PbS thin films was less affected on thermal annealing, but hose of (Pb,Cu)S and CuS thin films were more reduced about 3 orders of magnitude. All of those thin films indicated p type semiconductor in temperature ranging 30$\^{C}$ to 150$\^{C}$.
(PbS)$_{1-x}$ -(CuS)$_{x}$ thin films(x=0, 0.5, 1) were grown on glass substrates by using a chemical bath deposition method. The molecular ratio of Pb to Cu for the PbS-CuS thin films(x=0.5) was measured about 7:3 by using EDX and XRF. The resistivity of non-annealed (PbS)$_{1-x}$ -(CuS)$_{x}$ thin films was about 10 $\Omega$ . cm. However, after annealing, the resistivity of PbS showed a little change, while PbS-CuS and CuS significantly decreased in the range of 0.002 to 0.005$\Omega$.cm. PbS was p-type and CuS was n-type.-type.
XPS를 이용하여 공기 중에 노출된 TiN박막과 상온 증착된 Cu사이의 계면에서의 화학적 반응과 전자 구조적인 변화를 조사하였다. Ti(2p), O(1s), N(1s), Cu(2p) core-level과 Cu LMM Auger line의 spectrum을 보면, Cu의 증착두께가 증가하여도 peak의 위치 뿐만 아니라 line shape이 전혀 변화하지 않는다. 그리고 XPS에 의한 valence bands를 보아도 전 혀 변화가 없다. 이것은 공기 중에 노출된 TiN박막과 Cu사이의 계면에서 Cu화합물의 어떠 한 형태도 존재하지 않을 뿐만 아니라 전자 구조적인 면에서도 전혀 변화가 없음을 의미한 다. 계면에서 Cu가 화학적 반응을 일으키지 않는 것은 계면접합력을 나쁘게 하는 요인이 된 다. 우리는 계면에서의 화학 반응 또는 전자구조의 변화에 대한 연구를 통하여 Cu와 TiN박 막의 계면접합력을 이해할 수 있었다.
Polycrystalline CuInSeS12T thin were prepared by depositing Cu/In layer, which was sequentially sputtered varying the Cu/(Cu+In) mole ratio, on glass substrate and selenizing with selenium metal vapor in a nitrogen atmosphere. Compositional and structural, characterization was carried out by X-ray diffraction (XRD), wavelength-dispersive spectroscopy(WDS), and scanning electron microscope(SEM). Electrical characterization was carried out by the measurements of Hall effect, electrical resistivity. Large indium loss occurs in early stage of the selenization process. The selenized films which had mole ratios larger than 0.28 have chalcopyrite CuInSeS12T phase and these that had less mole ratios have sphalerite phase. The selenized films containing CuS1xTSe phase have Cu-rich CuInSeS12T phase and these that did not contain CuS1xTSe have In-rich CuInSeS12T phase. By optimizing the sputtering conditions,it is possible to fabricate CuInSeS12T thin films which have little secondary phases and an appropriate hole concentration (10S015T ~ 10S016TcmS0-3T) for solar cells.
We have grown famatinite $Cu_3SbS_4$ films by using sulfurization of Cu/Sb stack film. Sulfurization at $500^{\circ}C$ produced famatinite $Cu_3SbS_4$ phase, while $400^{\circ}C$ and $450^{\circ}C$ sulfurization exhibited unreacted and mixed phases. The fabricated $Cu_3SbS_4$ film showed S-deficiency, and secondary phase of $Cu_{12}Sb_4S_{13}$. The secondary phase was confirmed by X-ray diffraction, Raman spectroscopy, photoluminescence and external quantum efficiency measurements. We have also fabricated solar cell in substrate type structure, ITO/ZnO/(Zn,Sn)O/$Cu_3SbS_4$/Mo/glass, where $Cu_3SbS_4$ was used as a absorber layer and (Zn,Sn)O was employed as a Cd-free buffer. Our best cell showed power conversion efficiency of 0.198%. Characterization results of $Cu_3SbS_4$ absorber indicates deep defect (due to S-deficiency) and low shunt resistance (due to $Cu_{12}Sb_4S_{13}$ phase). Thus in order to improve the cell efficiency, it is required to grow high quality $Cu_3SbS_4$ film with no S-deficiency and no secondary phase.
Single phase $CuInS_2$ thin film with the highest diffraction peak (112) at diffraction angle $(2\theta)$ of $27.7^{\circ}$ and the second highest diffraction peak (220) at diffraction angle $(2\theta)$ of $46.25^{\circ}$ was well made with chalcopyrite structure at substrate temperature of $70^{\circ}C$, annealing temperature of $250^{\circ}C$, annealing time of 60 min. The $CuInS_2$ thin film had the greatest grain size of $1.2{\mu}m$ and Cu/In composition ratio of 1.03. Lattice constant of a and c of that $CuInS_2$ thin film was 5.60 A and 11.12 A respectively. Single phase $CuInS_2$ thin films were accepted from Cu/In composition ratio of 0.84 to 1.3. P-type $CuInS_2$ thin films were appeared at over Cu/In composition ratio of 0.99. Under Cu/In composition ratio of 0.96, conduction types of $CuInS_2$ thin films were n-type. Also, fundamental absorption wavelength, the absorption coefficient and optical energy band gap of p-type $CuInS_2$ thin film with Cu/In composition ratio of 1.3 was 837 nm, $3.0{\times}104cm^{-1}$ and 1.48 eV respectively. When Cu/In composition ratio was 0.84, fundamental absorption wavelength, the absorption coefficient and optical energy band gap of n-type $CuInS_2$ thin film was 821 nm, $6.0{\times}10^4cm^{-1}$ and 1.51 eV respectively.
Single phase CuInS$_2$ thin film with the highest diffraction peak (112) at diffraction angle (2$\theta$) of 27.7$^{\circ}$ and the second highest diffraction peak (220) at diffraction angle (2$\theta$) of 46.25$^{\circ}$ was well made with chalcopyrite structure at substrate temperature of 70 $^{\circ}C$, annealing temperature of 25$0^{\circ}C$, annealing time of 60 min. The CuInS$_2$ thin film had the greatest grain size of 1.2 ${\mu}{\textrm}{m}$ and Cu/In composition ratio of 1.03. Lattice constant of a and c of that CuInS$_2$ thin film was 5.60 $\AA$ and 11.12 $\AA$ respectively. Single phase CuInS$_2$ thin films were accepted from Cu/In composition ratio of 0.84 to 1.3. P-type CuInS$_2$ thin films were appeared at over Cu/In composition ratio of 0.99. Under Cu/In composition ratio of 0.96, conduction types of CuInS$_2$ thin films were n-type. Also, fundamental absorption wavelength, the absorption coefficient and optical energy band gap of p-type CuInS$_2$ thin film with Cu/In composition ratio of 1.3 was 837 nm, 3.0x10 $^4$$cm^{-1}$ / and 1.48 eV respectively. When CuAn composition ratio was 0.84, fundamental absorption wavelength, the absorption coefficient and optical energy band gap of n-type CuInS$_2$ thin film was 821 nm, 6.0x10$^4$$cm^{-1}$ / and 1.51 eV respectively.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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