일반적인 유리용융과 열처리법을 이용하여 많은 양의 금속구리 미립자가 분산된 Zinc Phosphate 유리를 제조하였다. 금속산화물로는 Cu$_2$O를, 환원제로는 SnO를 사용하였다. XRD와 전자회절로부터 열처리에 의해 금속구리의 결정상이 석출됨을 알 수 있었고, TEM에 의해 석출상의 크기는 수~20nm 정도임을 알 수 있었다. 또한 570nm에서의 광흡수 피크로부터도 금속구리의 석출을 확인할 수 있었다. 석출입자의 크기와 흡광은 석출을 위한 열처리 온도와 시간이 증가함에 따라 증가하였다. XPS 스펙트럼으로는 구리의 산화상태 중 Cu$^{2+}$ 이온의 상태만을 분명히 할 수 있었다. 매질유리의 BO/NBO의 비는 열처리 전후 크게 변화가 없었으며, 열처리 후 Cu$^{2+}$ 이온이 다소 감소되는 경향을 보였다.
The ionic conductivity in glassy systems were calculated as functions of temperature and ion concentration using Monte-Carol method considering interaction between neighbouring ion-site occupancies, {{{{ rho }}'s. Also the vacancy availability factor, V, the effective jump frequency factor, W, and the charge correlation factor, fc, have been investigated. The Arrhenius plot could be obtained from the ln {{{{ sigma }}T vs. 1/T* plots and was in exellent agreement with the experimental observations. The effects of the various types of potential well on the ionic conductivity have been considered. The activation energy Eg for ion motion in the glass was 1.3│ε│from the ln {{{{ sigma }}T vs. 1/T* plots.
The batches having excess SiO2 to tetrasilicic mica KMg2.5 (Si4O10)F2 were melted at 1450℃. The fabricated samples were heat-treated for the nucleation and the crystallization. The crystallized samples were investigated on several properties. The tetrasilicic mica composition with excess 10 wt% SiO2 was successful both in glassifying and in crystallizing. The optimum temperatures for the nucleation and the crystallization were 680℃ and 1000-1100℃, respectively. The mica and the cristobalite crystallines were identified after heat-treatment. The properties of the samples processed appropriately were as follows, bulk density 2.64g/㎤, thermal expansion coefficient ∼80×10-7/℃, Vicker's hardness ∼105 Kgf/㎟, bending strength ∼666Kgf/㎟, dielectric constant ∼11.1, tan δ 2.5%, volume resistivity 2.35×107∼1.3×1011{{{{ OMEGA }}cm, surface roughness 6.984㎛.
Porous low reflective coating films of SiO2.ZrO2 system were prepared from the mixed alkoxide solutions of Zr(O-nC3H7)4 and partially prehydrolyzed TEOS by the sol-gel method using the dip-coating technique. In the case of 90SiO2.10ZrO2 porous coating films with HCl and H2O content was 0.3 mole and 4 mole, 378 m2/g of the specific surface area, 0.254 cm3/g of total pore volume, 30-50$\AA$ of average pore diameter. The transmittance of 90SiO2.10ZrO2 porous coated films was 95.38% at the wavelength of 550 nm, compared with the parent glass, the transmittance was increased with 4.38%.
$VO_2$ thin films have been prepared on borosilicate glass substrate using alkoxide method to characterize the effects of fabricating factors on thermochromic performance. The gel films formed by spin coating were converted to $V_2O_5$ phase during oxidizing heat-tratment and the $VO_2$ phase were formed by reducing heat-treatement. The thermochromic switching properties of $VO_2$ thin films are strongly affected by the crystal phase and microstructure and those could be controlled by reducing heat-treatment conditions. The ther-mochromic switching characteristics of $VO_2$ thin films synthesized were measured at IR (2.5$\mu\textrm{m}$) as the transition temperature of $63^{\circ}C$ the transition width of $3.6^{\circ}C$and the maximum and minimum transmittance of 84% and 14% respectively.
The effects of slag prticle size, $Na_2SO_4$ addition and sulphide in slag to the foam formation was investigated. This investigation showed that the slag particle size and the amount of $Na_2O$ had produced effects on the size of the foam, foam distribution and firing temperatures. In addition to that the amount of sulphide loss during the firing was controlling factor for the foam formation. The smaller slag particles and higher firing temperatures increased the loss of sulphide in the slag. The addition of $Na_2SO_4$ in the slag batch was likely to inhibit the foam formation. The larger slag particles resutled in the larger foam size and tended to be increasing the batch firing temperature. The main constituents of slag formed glass consisted of wallstonite and glassy phase. It is believed that the controlling the slag particle size and the amount of $Na_2SO_4$ in the slag batch will probably be main factors in foam formation.
Pyrophyllite, which has low impurities, was used in the synthesis of mullite to decrease the glass phase, which can be formed from impurities such as alkali and alkali earth elemetns present in raw materials. But, as pyrophyllite has less alumina content than other aluminosilicate materials such as kaolin, more alumina sources were needed in the synthesis of mullite. In other to investigate the effect of particle size of alumina sources on the mullitization of pyrophyllite, aluminum hydrate gel and activated alumina were used. When activated alumina, which has large particle size, was added to pyrophyllite, mullitization was not fully accomplished regardless of temprature. In the case of aluminum hydrate gel, which has small particle size, the maximum yield of mullite was about 90.3% at 1700$^{\circ}C$, and grain size of mullite was larter than the case of activated alumina was added.
To improve the thermal resistance of a porous borosilicate lining block, we prepared and applied polysiloxane-fumed silica-ethanol slurry on top of the block and fired the coating layer using a torch for 5 minutes at $800^{\circ}C$. We conducted magnified characterizations using a microscope and XRD analysis to observe phase transformations, and TGA-DTA analysis to determine the thermal resistance. Thermal characterizations showed improved heat resistance with relatively high polysiloxane content slurry. Cross-sectional optical microscope observation showed less melting near the surface and decreased pore formation area with higher polysiloxane content slurry. XRD analysis revealed that the block and coating layer were amorphous phases. TGA-DTA analysis showed an endothermic reaction at around $550^{\circ}C$ as the polysiloxane in the coating layer reacted to form SiOC. Therefore, coating polysiloxane on a borosilicate block contributes to preventing the melting of the block at temperatures above $800^{\circ}C$.
Proceedings of the Korea Association of Crystal Growth Conference
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1998.09a
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pp.103-111
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1998
Au fine particle dispersed TiO2 film was prepared on silica glass substrate by sol-gel dip and firing process. The films were fabricated from the system of titanium tetraisoproxie-EtOh-HCl_H2O-hydrogen tetrachloroaurate(III) tetrahydrate. The conditions for the formation of the clear solution and dissolving high concentration of Au compound were examined. And a photoreduction process was adopted to control the size of gold metal particles. Phase evolution of matrix TiO2 and variation of Au particle with UV irradiation were investigated by XRDA, SEM, TEM and UV-visible spectrophotometer. And the effect of CPCl(Cetylpyridinium chloride monohydrate) as a dispersion agent was evaluated.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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