To investigate the effect of AIN c-axis orientation on the resonance performance of film bulk acoustic wave resonators, solidly mounted resonators with crybtallographically different AIN piezoelectric films were prepared by changing only the bottom electrode surface conditions. As increasing the degree of c-axis texturing, the effective electromechanical coupling coefficient ($\kappa$$\_$eff/)$^2$ in resonators increased gradually. The least 4 degree of full width at half maximum in an AIN(002) rocking curve, which corresponds to $\kappa$$^2$$\_$eff/ of above 5%, was measured to be necessary for band pass filter applications in wireless communication system. The longitudinal acoustic wave velocity of AIN films varied with the degree of c-axis texturing. The velocity of highly c-axis textured AIN film was extracted to be about 10200 n/s by mathematical analysis using Matlab.
Stable zirconia sol was prepared from zirconium butoxide Zr(OC4O9)4 as a precursor and ethylacetoacetate(EAcAc) or diethylene glycol(DEG) as a chelating agent under ambient agent under ambient atmosphere by Sol-Gel process. The sythesized sol was coated on 304 stainless steel substrate by dip coating, thereafter zirconia film could be obtained by heat-treatment at $600^{\circ}C$. The characteristics of coating film were determined by FT-IR, XRD, and ellipsometion peak represented Zr-O-Zr bonding of tetragonal phase was shown at 470cm-1. Crystallization of zirconia gel and film from amorphous state to tetragonal phase started at 40$0^{\circ}C$, and then transformed into monoclinic phase around $700^{\circ}C$. Zirconia film coated on 304 stainless steel substrate showed relatively low porosity of 16% when it was coated with 0.4M zirconia sol and thereafter heat-treated at 80$0^{\circ}C$ and the film was densified continuously up to 90$0^{\circ}C$. The zirconia film of 10 nm thick acted as a protective layer against oxidation up to $700^{\circ}C$.
Photo-imageable thick-film lithography technology was developed for the fabrication of embedded passives such as inductors and capacitors. In this study, photo-imageable dielectric and conductor pastes have apoted a negative type. Sodalime glass wafer, alumina substrate and zero-shrinkage LTCC green tapes were used as substrates. In result, The lithographic patterns were designed as lines and spaces for conductor material, or via-holes for ceramic, LTCC, materials. The scattering and reflection of UV-beam on the substrate had negative effects on fine patterning. The patterning performance was varied with the exposing and developing process conditions, and also varied with the substrate materials. Fine resolution of less then $50/50{\mu}m$ in line and space was obtained, which is difficult in screen printing method.
Porous thick film of alumina which is fabricated by freeze tape casting using a camphene-camphor-acrylate vehicle. Alumina slurry is mixed above the melting point of the camphene-camphor solvent. Upon cooling, the camphene-camphor crystallizes from the solution as particle-free dendrites, with the $Al_2O_3$ powder and acrylate liquid in the interdendritic spaces. Subsequently, the acrylate liquid is solidified by photopolymerization to offer mechanical properties for handling. The microstructure of the porous alumina film is characterized for systems with different cooling rate around the melting temperature of camphor-camphene. The structure of the dendritic porosity is compared as a function of ratio of camphene-camphor solvent and acrylate content, and $Al_2O_3$ powder volume fraction in acrylate in terms of the dendrite arm width.
Transparent Ag nanowire conducting thin films with high surface hardness were fabricated by bar coating method. When coating speed was changed from 35 mm/sec to 50 mm/sec, the transmittance of coated glass increased from 65.3% to 80.8% in visible light range and the surface resistance was changed from $10.1{\Omega}/sq$ to $23.3{\Omega}/sq$. The surface hardness and adhesion of thin film were 5H and 5B.
Anti-reflective (AR) thin film was fabricated on a glass substrate by sol-gel method. The coating solution was synthesized with TEOS (tetraethlyorthosilicate) and poly ethylene glycol (PEG, 4.0 wt%). As the withdrawal speed of coating was changed from 0.1 mm/sec to 0.3 mm/sec, the thickness and refractive index of prepared thin films were changed. The reflectance and transmittance of coating glass fabricated by the withdrawal speed of 0.1 mm/sec were 0.62% and 95.0% in visible light range. The refractive index and thickness of single layer thin film were n= 1.29 and ca. 99.0 nm.
Ti based nanocomposite films including V, Si and Nb (Ti-Me-N, Me=V, Si and Nb) were fabricated by hybrid physical vapor deposition (PVD) method consisting of unbalanced magnetron (UBM) sputtering and arc ion plating (AIP). The pure Ti target was used for arc ion plating and other metal targets (V, Si and Nb) were used for sputtering process at a gas mixture of Ar/$N_2$ atmosphere. Mostly all of the films were grown with textured TiN (111) plane except the Si doped Ti-Si-N film which has strong (200) peak. The microhardness of each film was measured using the nanoindentation method. The minimum value of removal rate ($0.5{\times}10^{-15}\;m^2/N$) was found at Nb doped Ti-Nb-N film which was composed of Ti-N and Nb-N nanoparticles with small amount of amorphous phases.
The a-axis and c-axis prefer oriented SBT thin films could be deposited on Pt(111)/Ti/$SiO_2$$650^{\circ}C$). The c-axis preferred orientation of SBT film can be obtained by Sr deficiency and high compressive stress. However, the a-axis-oriented grains can be formed under stoichiometric Sr content and nearly stress-free state.
플라즈마 디스플레이는 후막기술을 이용하여 화면의 크기를 늘리는 것이 쉽기 때문에 고선명 TV의 가장 유력한 후보이다. 본 연구에서는 플라즈마 디스플레이용 유전체의 조건을 만족하는 lead borosilicate 유리를 이용한 투명 유전체 재료를 개발하였다. 또한 이 유리를 이용하여 페이스트를 제조하였다. 페이스트는 스크린 프린팅에 적합한 요변성을 나타내었고, 입자 크기가 작아질수록 더욱 강한 요변성을 나타내었다. 열처리 후 후막의 파단면을 전자현미경으로 관찰하였다. 후막의 기공은 서로 다른 크기의 평균입경을 갖는 powder를 사용함으로써 제거 될 수 있었다. 소성된 후막은 좋은 융착 특성을 나타내었다.
Energy harvesting from the vibration through the piezoelectric effect has been studied for powering the small wireless sensor nodes. As piezoelectric uni-morph cantilever structure can transfer low vibration to large displacement, this structure was commonly deployed to harvest electric energy from vibrations. Through our previous results, when stress was applied on the cantilever, stress was concentrated on the certain point of the ceramic of the cantilever. In this study, for miniaturing the energy harvester, we investigated how the size of ceramics and the stress distribution in ceramic affects energy harvester characteristics. Even though the area of ceramic was 28.6 % decreased from $10{\times}35{\times}0.5mm^3$ to $10{\times}25{\times}0.5mm^3$, both samples showed almost same maximum power of 0.45 mW and the electro-mechanical coupling factor ($K_{31}$) of 14 % as well. This result indicated that should be preferentially considered to generate high power with small size energy harvester.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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