Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using $C_2F_6$ and $BCl_3-based$ gas Plasmas
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- 한국재료학회:학술대회논문집
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- 한국재료학회 2006년도 춘계학술발표대회 및 제10회 신소재 심포지엄 논문개요집
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- pp.27.2-27.2
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- 2006