• 대한화학회지
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• 제36권2호
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• pp.243-247
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• 1992

가스센서로 많이 쓰이고 있는 $SnO_2$는 분해하기 어렵기 때문에 이의 분해 방법에 대하여 집중적으로 연구했으며, 특히 미량 원소의 분석시에 방해영향이 없는 전처리 방법을 연구하였다. 또한 $SnO_2$에서 촉매로 첨가된 귀금속 중 Pd를 선정하여 이의 정량시 방해를 일으키는 요소에 대하여 연구하고, ICP-AES로 Pd를 정량하는 방법을 확립시켰다.

• 분석과학
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• 제9권1호
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• pp.20-25
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• 1996

암석 및 토양 등의 지질시료에 미량으로 존재하는 우라늄과 토륨을 파장분산형 X-선 형광분석법을 사용하여 정량하였다. X-선관의 target 물질로 사용되는 Rh의 산란선을 내부 표준물질로 사용하였다. 토륨의 경우는 50초, 그리고 우라늄의 경우는 400초 동안 측정하였을 때, 우라늄과 토륨의 X-선 형광분석결과는 중성자방사화분석 및 유도결합플라즈마 원자방출분광분석의 결과와 큰 차이를 보이지 않았으며 10% 이내의 정밀도와 15% 이내의 정확도를 보여 주었다.

• 방사성폐기물학회지
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• 제2권4호
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• pp.231-238
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• 2004

원자력 발전소에서 발생하는 고체 방사성 폐기물인 이온교환수지, 제올라이트, 활성탄 및 슬러지 에 포함된 성분 원소 분석을 위한 산분해 조건을 확립하였다. 방사성 폐기물의 분해 에는 흔합산을 이용한 밀폐형 극초단파 산분해법을 사용하였으며, 제안한 방법에 따른 산분해 후의 용액은 맑고 색이 없는 투명한 상태임을 확인할 수 있었다. 또한, 산분해 과정을 거친 각각의 용액 시료는 ICP-AES와 AAS를 사용하여 분석하였고, 모의 방사성 폐기물에 첨가한 5종의 금속 원소들은 $94{\%}$ 이상의 높은 회수율을 보여주었다. 화학적 특성을 고려하여 제안된 산분해 조건에 의해 용액화된 중${\cdot}$저준위 방사성 폐기물의 성분 원소 분석은 최적의 유리화 기술 개발을 위한 기초 자료로 유용하게 사용될 수 있을 것으로 판단된다.

• 분석과학
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• 제24권6호
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• pp.443-450
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• 2011

ICP-AES와 AAS를 이용하여 세라믹, 금속 및 플라스틱 소재에 함유된 니켈을 정량하기 위한 조건을 연구하였다. 니켈 정량을 위해 산분해하여 조제된 시험 용액을 직접 ICP-AES 또는 AAS로 분석할 때 철이나 크로뮴 등의 원소가 방해하므로, 니켈을 dimethylglyoxime으로 착화시키고 $CHCl_3$로 추출하여 방해원소로부터 분리한 후 $CHCl_3$을 제거하고 염산으로 용해하여 측정하였다. 니켈에 대한 측정 회수율이 우수하였고, 방해를 일으키는 매질원소를 효율적으로 제거할 수 있어 본 방법은 인증표준물질(BAM-376 및 PACS-2)에 대한 용매추출시험에서 matrix의 영향을 받지 않고 니겔을 정량할 수 있었다.

• 마이크로전자및패키징학회지
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• 제21권2호
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• pp.31-35
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• 2014

The thickness dependent electrical, structural, and optical properties of ZnO films grown by atomic layer deposition (ALD) at various growth temperatures were investigated. In order to deposit ZnO films, diethylzinc and deionized water were used as metal precursor and reactant, respectively. ALD process window was found at the growth temperature range from $150^{\circ}C$ to $250^{\circ}C$ with a growth rate of about $1.7{\AA}/cycle$. The electrical properties were studied by using van der Pauw method with Hall effect measurement. The structural and optical properties of ZnO films were analyzed by using X-ray diffraction, field emission scanning electron microscopy, and UV-visible spectrometry as a function of thickness values of ZnO films, which were selected by the lowest electrical resistivity. Finally, the figure of merit of ZnO films could be estimated as a function of the film thickness. As a result, this investigation of thickness dependent electrical, structural, and optical properties of ZnO films can provide proper information when applying to optoelectronic devices, such as organic light-emitting diodes and solar cells.

• 한국윤활학회:학술대회논문집
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• 한국윤활학회 2002년도 proceedings of the second asia international conference on tribology
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• pp.135-136
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• 2002

Molybdenum Nitrided (MoNx) films were deposited by DC planar magnetron sputtering. Silicon wafers and real nitrided stainless steel piston rings are employed as substrates. 12 different combinations of nitrogen and argon partial pressure, from 1:7 to 7:1, were applied to deposit MoNx films. X-ray diffraction (XRD) was used to determine the phase structures of films. When nitrogen vs. argon partial pressure is 1:7, the film is mainly $Mo_2N$ phase. With increase of nitrogen partial pressure, MoN phase emerges, but $Mo_2N$ phase still exists. Composition analysis with atomic emission spectrometry (AES) also agreed with this. The films have very high nanohardness (max 2400Hv) and good adhesion to the substrates.

• 한국재료학회:학술대회논문집
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• 한국재료학회 2003년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
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• pp.163-163
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• 2003

TiN barrier막 위에 metal organic chemical deposition(MOCVD)법으로 RuO$_2$ 를 증착시 TiN막 표면을 세정처리하지 않을 경우 RuO$_2$의 핵생성이 어렵고, 그로 인해 RuO$_2$ 연속막이 형성되기 힘들다. 그러므로 RuO$_2$의 핵생성을 향상시키기 위해 TiN막에 대한 전처리 세정이 필수적이다. TiN막의 전처리 세정방법으로 ECR plasma 세정법을 사용하였으며, $O_2$ plasma와 H$_2$ plasma 그리고 Ai plasma를 이용해 각각의 exposure time을 변화시키며 전처리 세정을 실시하였다. H$_2$ plasma와Ar plasma의 exposure time이 증가됨에 따라 RuO$_2$의 핵생성이 향상되었다. 본 연구에서는 scanning electron microscopy(SEM), Auger electron emission spectrometry(AES), Atomic Force Microscope(AFM), X-ray diffraction (XRD) 등의 분석을 통해 TiN막 표면에 대한 ECR plasma 전처리 세정 이 RuO$_2$의 핵생성과 연속막 성장에 미치는 효과에 대해 조사하였다.

• 한국대기환경학회지
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• 제16권2호
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• pp.191-198
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• 2000

For a characterization of the pretreated waste automotive catalyst the following analysis techniques were applied : EA(Elemental Analysis) BET(Brunaure-Emmett-Teller) and ICP-AES(Inductively Coupled Plasma-Atomic Emission Spectrometry). The combustion activity of waste automotive catalyst was investigated for methanol acetaldehyde and toluene as model VOCs in a fixed bed reactor. carbon deposit amount was decreased with increasing catalyst showed a good catalytic activity for VOCs combustion at 40$0^{\circ}C$. Catalytic activity for methanol acetaldehyde and toluence combustion was very excellent and decreased with mileage. The catalytic activity of a waste automotive catalyst for methanol combustion increased after acid treatment. The acid effect of catalytic activity was summarized as follows: HNO3>HCI>H2SO4>CH3COOH. The waste automotive catalyst regenerated by the pretreatment method might have a excellent catalytic activity for VOCs combustion.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
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• 제26권9호
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• pp.1415-1420
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• 2005

The spectral interferences of OH from aqueous solvents in ICP-AES have been studied and eliminated using a cryogenic argon trap. The prominent lines of Bi I 306.772 nm, Al I 309.271 nm, and V II 310.230 nm, which are very seriously overlapped with the OH band, were examined. With an extended torch and high tangential flow of 20 L/min, water vapor from air entrainment was prevented. The combination of a condenser and argon cryogenic trap was able to eliminated most of water vapor carried by the argon sample gas. Removal of OH spectral interference could extend the linearity of the calibration curve 5-10 times on the lower concentration for ICP-AES. Interference Equivalent Concentration (IEC) has been reduced to 5.6, 5.9, and 12.4 times for Bi, Al and V, respectively.

• KSBB Journal
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• 제18권2호
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• pp.90-93
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• 2003

쌍화탕의 재료로 사용되는 9가지 한약재에 함유된 6가지 인체에 유해한 중금속 함유량은 생강과 당귀의 경우 식약청 기준치인 30ppm의 1.47배와 1.24배 이었고 기타 한약재는 기준치와 거의 동등하거나5% 이내에서 초과하였다. 가장 간단한 수치법인 물세 척 만으로 중금속이 20-38% 제거되었고 따라서 모든 실험 대상 약재 에 대하여 중금속 함량을 식약청 기준치보다 낮출 수 있었다.