Journal of Dental Rehabilitation and Applied Science
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v.27
no.2
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pp.125-140
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2011
The remnant of temporary cement on the intaglio surface of cast restoration may have a negative effect on the retentive strength of permanent cement. This study was to evaluate the effect of temporary cement cleaning methods on the retentive strength of cementation type implant prostheses. Prefabricated implant abutments - height 5.5mm, diameter 4.5mm, 6 degree axial wall taper with chamfer margins were used. Forty copings-abutment specimens were divided into four groups(each n=10) according to the cleaning methods for temporary cement(Temp-$Bond^{(R)}$) as follows : no temporary cementation(the control group), orange solvent, ultrasonic cleaning, air borne-particle abrasion. After the application of temporary cement and the separation, the cleaning procedure was performed according to the protocol of each group. The specimens were cemented with $Premier^{(R)}$ Implant $Cement^{TM}$. After the permanent cementation, the specimens were subjected to thermocycling and pulled out from the specimens with a universal testing machine at a cross-head speed of 0.5mm/min. After the retentive strength test, all the specimens were cleaned using ultrasonic cleaning, abraded with air borne-particles, and steam-cleaned. Likewise, the specimens were temporarily cemented(Temp-$Bond^{(R)}$ NE), cleaned according to the protocol of each group, cemented with $Premier^{(R)}$ Implant $Cement^{TM}$ and subjected to thermocycling and measurement of their retentive strength. The mean of group with orange solvent were significantly lower than those of other groups(p<0.05). There was no significance between group with ultrasonic cleaning and group with air borne-particle abrasion. Group with ultrasonic cleaning and group with air-particle abrasion were no significance at control group. There was no significance between group cemented with Temp-$Bond^{(R)}$ and group cemented with Temp-$Bond^{(R)}$ NE. Within the limitation of this study, it can be concluded that the temporary cement cleaning method with only orange solvent may have a negative effect on the retentive strength of permanent cement. Ultrasonic cleaning and air borne-particle abrasion methods are recommended for the temporary cement cleaning method on cementation type implant prostheses.
The interactions of 11 kinds of primary and secondary alkylammonium ions with cyclic (12C4, 15C5, 18C6, DT18C6 and DA18C6) and acyclic$(Q_2O_5)$ polyethers were investigated by NMR titration and conductometry. All of the alkylammonium ions under investigation form the relatively stable 1 : 1 complexes with crown ethers and acyclic polyether by H-bond. The interactions of alkylammonium ions with analogeous hosts having different size were in the order of 18C6 > 15C5 > 12C4, and the strengthes of donor atoms toward the alkylammonium ions were in the order of N > O > S. 18C6 forms more favorable interactions with primary alkylammonium ions than secondary alkylammonium ions, otherwise DA18C6 shows the opposite behaviors. The stability constants for complexations of 18C6 with the alkylammonium ions were determined conductometrically in methanol at 25$^{\circ}C$. The major factors affecting the stability of complexes were the type of alkylammonium ions, the length of alkyl-chain and the steric hindrance due to the structure of alkyl groups on complexation.
The reaction rates of para-substituted benzoyl chlorides ($p-CH_3$, p-H, $p-NO_2$) with pyridine have been measured employing the conductometry method in acetonitrile. The pseudo first-order and second-order rate constants were determined at various pressures and temperatures. The activation parameters (${\Delta}V{\ddagger},\;{\Delta}{\beta}{\ddagger},\;{\Delta}H{\ddagger},\;{\Delta}S{\ddagger},\;{\Delta}G{\ddagger}$) and the Hammett ${\rho}$-values are determined from the values of rate constant. The values of ${\Delta}V{\ddagger},\;{\Delta}{\beta}{\ddagger}\;and\;{\Delta}S{\ddagger}$ are all negative. The Hammett ${\rho}$-values are positive for the substrate (${\rho}_Y$) over the given pressure range. The results of kinetic studies, for the pressure and substituent changes, show that these reactions are proceeded by a typical $SN_2$reaction mechanism and its bond formation is favored with elevating pressure.
Crystals of salicylaldehyde-4-morpholinothiosemicarbazone, $C_{12}H_{15}O_2N_3S$, are orthorhombic with space group Pna21. Unit-cell dimensions are a = 11.85(5), b = 15.45(5) c = 7.18(3)${\AA}$ with z = 4. Three-dimensional intensity data were collected from the multiple-film equi-inclination Weissenberg photographs taken with $CuK{\alpha}$ radiation. The intensities were estimated visually. The structure was solved by Patterson and Fourier methods and refined by the block-diagonal least-squares methods until the final R value becomes 0.11 for the 1064 observed independent reflections. The morpholine ring has a chair form. The rest atoms of salicylaldehyde-4-morpholinothiosemicarbazone molecule excluding morpholine ring and sulfur atom approximately lie on a plane. The hydroxyl group of the salicylaldehyde and the nitrogen atom of the thiosemicarbazone form an intramolecular hydrogen bond, $O-H{\cdot}{\cdot}{\cdot}N$, of 2.67${\AA}$. The short intermolecular distances all appear to be normal van der Waals contacts.
Objectives: This study was conducted to compare the microleakage and characteristics of the resin-tooth tissue interface between self-etch and etch-and-rinse adhesive systems after 48 hours and 3 months. Materials and Methods: 40 extracted premolar teeth were randomly divided into 2 groups: 1-step self-etch adhesive system - OptibondTM All-In-One, and 2-step etch-and-rinse adhesive system - AdperTM Single Bond 2. Both groups were subjected to 500 thermocycles (5℃-55℃) before scanning electron microscope (SEM) analysis or microleakage trial at 48-hour and 3-month time periods. Results: SEM images showed the hybrid layer thickness, diameter, and length of resin tags of the self-etch adhesive (0.42 ± 0.14 ㎛; 1.49 ± 0.45 ㎛; 16.35 ± 14.26 ㎛) were smaller than those of the etch-and-rinse adhesive (4.39 ± 1.52 ㎛; 3.49 ± 1 ㎛; 52.81 ± 35.81 ㎛). In dentin, the microleakage scores of the 2 adhesives were not different in both time periods (48 hours/3 months). However, the microleakage score of etch-and-rinse adhesive increased significantly after 3 months (0.8 ± 0.63 and 1.9 ± 0.88, p < 0.05). Conclusions: The self-etch adhesive exhibited better long-term sealing ability in dentin when compared to that of the etch-and-rinse adhesive. The greater hybrid layer thickness and dimensions of resin tags did not guarantee reliable, long-lasting sealing in the bonding area.
The reaction of methyl radical with iodine molecule on an attractive potential energy surface is studied by classical trajectory procedures. The reaction occurs over a wide range of impact parameters with the majority of reactive events occurring in the backward rebound region on a subpicosecond scale. A small fraction of reactive events take place in the forward hemisphere on a longer time scale. The ensemble average of reaction times is 0.36 ps. The occurrence of reactive events is strongly favored when the incident radical and the target molecule align in the neighborhood of collinear geometry. Since the rotational velocity of I2 is slow, the preferential occurrence of reactive events at the collinear configuration of $CH_3{\ldots}I{\ldots}$I leads to the reaction exhibiting an anisotropic dependence on the orientation of $I_2$. During the collision, there is a rapid flow of energy from the $H_3C{\ldots}$I interaction to the I-I bond. The $CH_3I$ translation and $H_3C$-I vibration share nearly all the energy released in the reaction, and the distribution of the vibrational energy is statistical. The reaction probability is $\cong$0.4 at the $CH_3$ and I2 temperatures maintained at 1000 K and 300 K, respectively. The probability is weakly dependent on the $CH_3\;and\;I_2$ temperatures between 300 K and 1500 K.
Shear tests were performed on four ends of full scale U-type beams which were designed by optimum process for the depth with a live load of 4903Pa. The ratio of width to depth of full scale 10.5 m-span, composite U-type beams with topping concrete was greater than 2. Following conclusions were obtained from the evaluation on the shear performance of these precast prestressed beams. 1) Those composite U-type beams performed homogeneously up to the failure load, and conformed to ACI Strength design methods in shear and flexural behaviors. 2) The anchorage requirements on development length of strand In the ACI Provisions preyed to be a standard to determine a failure pattern within the limited test results of the shallow U-type beams. 3) Those all shear crackings developed from the end of the beams did not lead to anchorage failure. However, initiated strand slip may leads the bond failure by increasing the size of diagonal shear crackings. 4) The flexural mild reinforcement around the vertical center of beam section was effective for developments of a ductile failure.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.185.2-185.2
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2014
We have studied the atomic and electronic structure of graphene nanoribbons (GNRs) on a hexagonal boron nitride (h-BN) sheet with intercalated atoms using first-principles calculations. The h-BN sheet is an insulator with the band gap about 6 eV and then it may a good candidate as a supporting dielectric substrate for graphene-based nanodevices. Especially, the h-BN sheet has the similar bond structure as graphene with a slightly longer lattice constant. For the computation, we use the Vienna ab initio simulation package (VASP). The generalized gradient approximation (GGA) in the form of the PBE-type parameterization is employed. The ions are described via the projector augmented wave potentials, and the cutoff energy for the plane-wave basis is set to 400 eV. To include weak van der Waals (vdW) interactions, we adopt the Grimme's DFT-D2 vdW correction based on a semi-empirical GGA-type theory. Our calculations reveal that the localized states appear at the zigzag edge of the GNR on the h-BN sheet due to the flat band of the zigzag edge at the Fermi level and the localized states rapidly decay into the bulk. The open-edged graphene with a large corrugation allows some space between graphene and h-BN sheet. Therefore, atoms or molecules can be intercalated between them. We have considered various types of atoms for intercalation. The atoms are initially placed at the edge of the GNR or inserted in between GNR and h-BN sheet to find the effect of intercalated atoms on the atomic and electronic structure of graphene. We find that the impurity atoms at the edge of GNR are more stable than in between GNR and h-BN sheet for all cases considered. The nickel atom has the lowest energy difference of ~0.2 eV, which means that it is relatively easy to intercalate the Ni atom in this structure. Finally, the magnetic properties of intercalated atoms between GNR and h-BN sheet are investigated.
We investigate the effects of interfacial dielectric layers (IDLs) on the electrical properties of top-gate In-Ga-Zn-oxide (IGZO) thin film transistors (TFTs) fabricated at low temperatures below $200^{\circ}C$, using a target composition of In:Ga:Zn = 2:1:2 (atomic ratio). Using four types of TFT structures combined with such dielectric materials as $Si_3N_4$ and $Al_2O_3$, the electrical properties are analyzed. After post-annealing at $200^{\circ}C$ for 1 hour in an $O_2$ ambient, the sub-threshold swing is improved in all TFT types, which indicates a reduction of the interfacial trap sites. During negative-bias stress tests on TFTs with a $Si_3N_4$ IDL, the degradation sources are closely related to unstable bond states, such as Si-based broken bonds and hydrogen-based bonds. From constant-current stress tests of $I_d$ = 3 ${\mu}A$, an IGZO-TFT with heat-treated $Si_3N_4$ IDL shows a good stability performance, which is attributed to the compensation effect of the original charge-injection and electron-trapping behavior.
Three fully dehydrated fully Rb+-exchanged zeolite A single crystals have been prepared by the reduction of all Na+ ions in dehydrated Na12-A by rubidium vapor at various experimental conditions (220 $\leq$ T $\leq$ 33$0^{\circ}C$, 2 $\leq$ t $\leq$24 hours, and 0.1 $\leq$ PRb $\leq$ 1.1 Torr). Their structures were determined by single-crystal X-ray diffraction methods in the space group {{{{ RHO }}m3m (a=12.245(3) A) at 22(1)$^{\circ}C$. In these structures 12.6(2) to 13.5(2) Rb species are found per unit cell, more than the 12 Rb+ ions needed to balance the anionic charge of the zeolite framework, indication that the sorption of Rb0 has occurred. In each structure, three Rb+ ions per unit cell are located at the centers of 8-rings. Beyond that, the fractional occupancies observed are simply explained by two unit cell arrangments. In one, two Rb+ ions are in the sodalite unit near opposite 6-rings, six are in the large cavity near 6-ring, and one is in the large cavity near a 4-ring. In the other, three Rb species in the sodalite cavity (forming a triangle 3.7 A on an edge) each bond (3.4 A) through a 6-ring to an Rb species in the large cavity to give an (Rb6)4+ cluster of symmetry 3m (C3V). Five additional Rb+ ions fill the remaining large-cavity 6-ring sites.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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