• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
• /
• 2010.02a
• /
• pp.370-370
• /
• 2010

최근 자연모사를 통한 초저마찰 연구가 활발히 진행되고 있으며 리소그라피, 레이져 가공법 등의 다양한 방법을 통해 표면구조 제어가 시도되고 있다. 본 연구에서는 자장여과 아크 플라즈마 이온 소스를 이용한 WC-Co 및 SCM 415 금속소재의 표면구조 형상제어를 통해 저마찰 특성을 시도하였다. 자장여과 아크 소스는 90도 꺽힘형이며 5개의 자장 코일을 통해 아크 음극에서 발생된 고밀도($10^{13}\;cm^{-3}$ 이상) 플라즈마를 표면처리 대상 기판까지 확산시켰다. 공정 압력은 알곤가스 1 mTorr, 아크 방전 전류는 25 A, 플라즈마 수송 덕트 전압은 10 V이다. 기판 전압은 비대칭 펄스 (-80 %/+5 %)로 -600 V에서 -800 V까지 인가되었으며 -600 V 비대칭 펄스 인가시기판으로 입사하는 알곤 이온 전류 밀도는 약 $4.5\;mA/cm^2$ 이다. WC-Co 시편의 경우 -600 V 전압 인가시, 이온빔 처리 전 46.4 nm(${\pm}12.7\;nm$)의 조도를 갖는 시편이 5분, 10분, 20분동안 이온빔 처리함에 따라 72.8 nm(${\pm}3\;nm$), 108.2 nm(${\pm}5.9\;nm$), 257.8 nm(${\pm}24.4\;nm$)의 조도를 나타내었다. SCM415 시편의 경우 -800 V 인가시, 이온빔 처리 전 20.4 nm(${\pm}2.9\;nm$)의 조도를 갖는 시편이 20분동안 이온빔 처리함에 따라 275.1 nm(${\pm}43\;nm$)의 조도를 나타내었다. 또한 주사전자현미경을 통한 표면 형상 관찰 결과, 이온빔 식각을 통해 생성된 거친 표면에 $3-5\;{\mu}m$ 직경의 돌기들이 산발적으로 생성됨을 확인했다. 마찰계수 측정 결과 SCM415 시편의 경우, 이온빔 처리전 마찰계수 0.65에서 조도 275.1 nm 시편의 경우 0.48로 감소하였다. 본 연구를 통해 이온빔 식각을 이용한 금속표면 제어 및 저마찰 특성 향상의 가능성을 확인하였다.

• Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
• /
• v.12 no.11
• /
• pp.2022-2030
• /
• 2008

System such as FA and breakup TC is applied by real time and need to manage. This paper studies data processing skill that can divide TC and data of much quantity with collection by real time. Modularize to several system, and use of computer communication network that interlink computers that can achieve control function of each systems to network is spreading. Develop that can take advantage of Ideonet communication method and transmit signal of channel because do multiplex all. Do data that have semi-conductor equipment or many input of LCD equipment and output node multiplex, and several units real time Ideonet communication that control is available use that all input of point of contact and output module develop.

• The Journal of The Korea Institute of Intelligent Transport Systems
• /
• v.18 no.3
• /
• pp.84-94
• /
• 2019

This paper developed the VSL control algorithms for various traffic conditions in tunnels. Various algorithms determining control speed, buffer speed, and display time were suggested in order to apply three gantry locations. The algorithms were evaluated by constructing simulation environments using python and VISSIM Com-Interface. Results show that speed difference between congested flow and normal flow was 50 km/h without algorithm application, but the difference was reduced to 20 km/h with algorithm application. In addition, the length of congested region in the exit section of the tunnel was also reduced from 800m to 300m with algorithm application. It is expected that the traffic accidents in tunnels may be reduced since the average and standard deviation of the speed are greatly reduced after applying the algorithms suggested.

• Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
• /
• 2021.10a
• /
• pp.194-198
• /
• 2021

LoRa is a physical layer technology that is designed to provide a reliable long-range communication with introducing CSS and with introducing a loco parentis tree network. Since a leaf can utilize multiple parents at the same time with a single transmission, PDR increases logarithmically as the number of gateways increases. Because of the ALOHA-like MAC of LoRa, however, the PDR degrades even under the loco parentis tree topology similarly to the single-gateway environment. Our proposed method is aimed to achieve SDMA approach to reuse the same frequency in different areas. For that purpose, it elaborately controls each TxPower of the senders for each message in concurrent transmission to survive the collision at each different gateway. The gain from this so-called capture effect increases the capacity of resource-hungry LPWAN. Compared to a typical collision-free controlled-access scheme, our method outperforms by 10-35% from the perspective of the total count of the consumed time slots. Also, due to the power control mechanism in our method, the energy consumption reduced by 20-40%.

• The Journal of Korean Institute of Communications and Information Sciences
• /
• v.30 no.9A
• /
• pp.737-748
• /
• 2005

Two flexible admission control schemes for integrated voice and stream-type data services are proposed in DS-CDMA systems. Most Previous studies on admission control have focused on integration of short, bursty Packet-type data services and conventional voice services. However, stream-type data services with a relatively long service holding time are expected to be a considerable portion of data traffic in future generation cellular systems. Scheme I is a basic scheme that accommodates both voice and data services with full bandwidth. However, voice services are given priority over data services using the duration difference between the holding times for these services. Scheme ll uses a different method to efficiently give priority to voice services over stream-type data services. An additional interference margin for voice services is provided by suppressing interference from stream-type data services according to voice access requests and a varying interference status. Performance of the two schemes is evaluated by developing Markovian models. Numerical results show that the voice capacity is highly sensitive to the service holding time of data services while the performance measures of data services are not highly sensitive. Scheme H is a significant improvement over Scheme I for accommodating voice and stream-type data services

• Journal of Korean Society of Forest Science
• /
• v.100 no.2
• /
• pp.165-171
• /
• 2011

This study was conducted to investigate the effect on pine wilt disease by health-thinning, thinning and sapling tending in red pine forest (Pinus densiflora). As a part of developing forestry control methods for pine wilt disease control. In case of putting in pine sawyer (Monochamus alternatus) with pine wood nematode (Bursaphelenchus xylophilus), the specimen trees in health-thinning, thinning and control treatment were withered more than 50%, although there were not statistically significant differences in treatments. In treatment site, thinning slashes had influenced on the spread of pine wilt disease (experiment 1). In thinning stand of sapling pine, site with thinning slashes had highest mortality (> 90%). There were approximately 10% mortality in the site of carried thinning slashes from case and the site of non-thinning with released M. alternatus (experiment 2). The larvae had not appeared in young tree stump with health-thinning and thinning at April, the current emergence year of M. alternatus, but there were larvae in sapling tree stump with thinning at May, the current emergence year of M. alternatus. In case of stands with infected young and sapling tree by pine wilt disease, there is no effects of on pine wilt disease control by health-thinning, thinning, saplings tending at April and May, the current emergence year of M. alternatus, and leaved thinning slashes had influenced on the spread of pine wilt disease as habitation of M. alternatus.

• Journal of Hydrogen and New Energy
• /
• v.16 no.1
• /
• pp.1-8
• /
• 2005

Transition of momentum-controlling hydrogen jet to buoyant jet is experimentally investigated in order to develop a prediction model for the moving trajectory of hydrogen leaked from hydrogen devices. In the experiments, room-temperature helium, that has a similar density to the hydrogen leaked from high pressure tank, is horizontally injected through a 4mm tube and its moving trajectory is visualized by the shadowgraph method. The moving trajectories are found to be parabolic, thereby exhibiting increasing influence of the buoyancy. In analyzing the experimental results, the vertical movement is assumed to be controlled by the buoyancy while the horizontal movement is controlled by the air entrainment caused by the initial momentum. The resealing based on this assumption yields a single curve fitting to the all experimental results.

• 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
• /
• 2010.06a
• /
• pp.59.2-59.2
• /
• 2010

결정형 태양 전지의 보급화를 위하여 고순도 실리콘을 저렴하게 제조할 수 있는 기술 개발이 필요하다. 본 연구에서는 고순도 실리콘을 경제적으로 제조하기 위하여 대역 정제에 의한 일방향성 응고법을 이용한 정련 연구를 진행하였으며, 응고 속도와 고 액상의 온도 구배가 정련도에 미치는 영향을 분석 하였다. 본 실험에 사용된 일방향 응고장치는 실리콘 용탕이 장입된 도가니 하부의 열 교환기를 통한 냉각에 의해 용탕 하부에서 상부 방향으로의 일방향성 응고가 진행되며, 응고 진행시 용탕의 흔들림에 의한 정련능의 감소를 방지하기 위해 가열 영역이 이동하는 Stober 공정을 채택하였다. 가열 영역은 실리콘 용융을 위한 상부 가열 영역과 응고 진행시 응고부의 온도 제어를 위한 하부 가열 영역으로 구성되어 있으며, 두 가열 영역의 온도 제어를 통해 응고중인 실리콘의 고 액상의 온도 구배를 조절하였다. 일방향 응고에 의한 정련법에서 고 액상의 온도 구배가 증가할수록 2차 수지상의 발달이 감소하고, 주상정의 수지상 형태를 유지하게 되어 고 액 공존영역에서 액상 영역으로의 확산이 원활하게 이루어져 분배계수를 이용한 정련도가 좋아지게 되며, ICP 분석을 통해 온도 구배의 증가에 따라 정련능이 증가하는 양상을 확인 할 수 있었다. 고 액상의 온도 구배의 조절을 통한 공정 시간 대비 정련도의 향상을 통해 결정형 태양전지의 생산성의 증가를 통한 저가화를 이룰 수 있을 것이다.

• Journal of IKEEE
• /
• v.15 no.1
• /
• pp.23-28
• /
• 2011

This paper describes design and implementation of a spread spectrum clock generator(SSCG). The proposed architecture generates the spread spectrum clock controlling a input voltage signal for VCDL(Voltage Controlled Delay Line). Spread charge pump is controlled by the SSC modulation logic block provides a control signal to VCDL through LPF in DLL. By using this architecture, chip area and power consumption can be reduced because it is not necessary additional circuit to control modulation rate. This circuit has been designed and fabricated using the UMC 0.25um CMOS technology. The chip occupies an area of 290${\times}$120um^2.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
• /
• 2016.02a
• /
• pp.302.2-302.2
• /
• 2016

알루미늄 산화막 스퍼터링 공정 중 타겟이 반응성이 있는 산소와 결합하여 산화되는 타겟 오염은 증착 효율의 감소[1]와 방전기 내 아크 발생을 촉진[2]하여 이를 억제하는 방법이 연구되어 왔다. 본 연구에서는 알루미늄 산화막 증착 공정 중 타겟 오염 현상이 기판에 증착된 알루미늄 산화막 특성이 미치는 영향을 분석하였다. 실험에는 알루미늄 타겟이 설치된 6 인치 웨이퍼용 직류 마그네트론 스퍼터링 장치를 활용하였다. 위 장치에서 공정 변수 제어를 통해 타겟 오염 현상의 진행 속도를 제어하였다. 공정 중 타겟 오염 현상을 타겟 표면 알루미나 형성에 따른 전압 강하로 관찰하였고 타겟 오염에 의한 플라즈마 변화를 원자방출분광법을 통해 관찰하였다. 이 때 기판에 증착 된 알루미나 박막의 화학적 결합 특성을 XPS depth로 측정하였으며, 알루미나 박막의 두께를 TEM을 통해 측정하였다. 측정 결과 타겟 오염 발생에 의해 공정 중 인가 전압 감소와 타겟 오염에 소모된 산소 신호의 감소가 타겟 오염 정도에 따라 변동되었다. 또한 공정 중 타겟 오염 정도가 클수록 기판에 증착한 막과 실리콘 웨이퍼 사이에 산소와 실로콘 웨이퍼의 화합물인 산화규소 계면의 형성 증가됨을 확인했다. 위 현상은 타겟 오염 과정 중 발생하는 방전기 내 산소 분압 변화와 막 증착 속도 변화가 산소의 실리콘 웨이퍼로의 확산에 영향을 준 것으로 해석되었다. 위 결과를 통해 스퍼터링 공정 중 타겟 오염 현상이 기판에 증착 된 알루미나 막 및 계면에 미치는 영향을 확인하였다.