• 한국재료학회:학술대회논문집
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• 한국재료학회 2009년도 춘계학술발표대회
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• pp.26.2-26.2
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• 2009

이 논문은 반응성 $BCl_3$ 플라즈마로 GaAs의 건식 식각을 진행한 후 그 결과에 대하여 연구 분석 한 것이다. 이 때 사용한 식각 공정 변수는 $BCl_3$ 플라즈마에서의 가스유량, 공정 압력과 RIE 척 파워의 변화이다. 먼저 공정 압력을 75 mTorr 고정시킨 후 $BCl_3$ 유량을 변화 (2.5~10 sccm)해서 실험하였다. 또한 BCl3의 유량을 5 sccm으로 고정시킨 후 공정압력을 변화(47~180 mTorr)해서 식각 실험을 실시하였다. 마지막으로 47 mTorr와 100 mTorr 의 각각의 공정압력에서 RF 척 파워를 변화시켜 (50~200 W) 실험하였다. GaAs 플라즈마 식각이 끝난 후 표면단차 측정기 (Surface profiler)를 사용하여 표면의 단차와 거칠기를 분석하였다. 그 후 그 결과를 이용하여 식각율 (Etch rate), 식각 표면 거칠기 (RMS roughness), 식각 선택비 (Selectivity) 등의 식각 특성평가를 하였다. 또한 식각 공정 중에 샘플 척에 발생하는 자기 바이어스와 $BCl_3$ 플라즈마 가스를 광학 발광 분석기 (Optical Emission Spectroscopy)를 이용하여 플라즈마의 상태를 실시간으로 분석하였다. 이 실험 결과에 따르면 공정 압력의 증가는 샘플 척의 자기 바이어스의 값을 감소시켰다. $BCl_3$ 압력 변화에 의한 GaAs의 식각 결과를 정리하면 5 sccm의 $BCl_3$ 가스유량과 RF 척 파워를 100 W로 고정시켰을 때 식각율은 47 mTorr에서 가장 높았으며, 그 값은 $0.42{\mu}m/min$ 이었다. GaAs의 식각 속도는 공정압력이 증가할수록 감소하였으며 180 mTorr에서는 식각율이 $0.03{\mu}m/min$로 거의 식각되지 않았다. 또한 공정압력을 75 mTorr, RF 척 파워를 100 W로 고정시키고, $BCl_3$ 가스유량을 2.5 sccm에서 10 sccm까지 변화시켰을 때, 10 sccm 의 $BCl_3$ 가스유량에서 가장 높은 식각율인 $0.87{\mu}m/min$이 측정되었다. 압력에 따른 GaAs의 식각 후 표면 거칠기는 최대 2 nm 정도로 비교적 매끈하였으며, 거의 식각되지 않은 180mTorr의 조건에서는 약 1 nm로 낮아졌다. 본 실험 조건에서 GaAs의 감광제에 대한 식각 선택비는 최대 약 3:1 이내였다.

• 한국표면공학회지
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• 제36권4호
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• pp.334-338
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• 2003

$BCl_3$고밀도 평판형 유도결합 플라즈마(High Density Planar Inductively Coupled Plasma)를 이용하여 AlGaAs와 InGaP의 건식식각에 대하여 연구하였다. 본 실험에서는 ICP 소스파워(0∼500 W), RIE 척 파워(0-150 W), 공정압력(5∼15 mTorr)의 변화에 따른 AlGaAs와 InGaP의 식각률, 식각단면 그리고 표면 거칠기 등을 분석 하였다. 또, 공정 중 OES(Optical Emission Spectroscopy)를 이용하여 in-situ로 플라즈마를 관찰하였다. $BCl_3$ 유도결합 플라즈마를 이용한 AlGaAs의 식각결과는 우수한 수직측벽도와(>87$^{\circ}$) 깨끗하고 평탄한 표면(RMS roughness = 0.57 nm)을 얻을 수 있었다. 반면, InGaP의 경우에는 식각 후 표면이 다소 거칠어진 것을 확인할 수 있었다. 모든 공정조건에서 AlGaAs의 식각률이 InGaP보다 더 높았다. 이는 $BCl_3$ 유도결합 플라즈마를 이용하여 InGaP을 식각하는 동안 $InCl_{x}$ 라는 휘발성이 낮은 식각부산물이 형성되어 나타난 결과이다. ICP 소스파워와 RIE 척파워가 증가하면 AlGaAs와 InGaP모두 식각률이 증가하였지만, 공정압력의 증가는 식각률의 감소를 가져왔다. 그리고 OES peak세기는 공정압력과 ICP 소스파워의 변화에 따라서는 크게 변화하였지만 RIE 척파워에 따라서는 거의 영향을 받지 않았다.

• 한국콘텐츠학회논문지
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• 제13권7호
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• pp.214-227
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• 2013

본 연구는 Koren, DeChillo와 Friesen(1992)이 장애아동 부모의 임파워먼트를 측정하기 위하여 개발한 가족임파워먼트척도(Family Empowerment Scale: FES)의 심리측정적 성격을 파악하고, 단축형 FES를 개발하는 것을 목적으로 설계되었다. 본 연구를 위해 전국장애인부모연대 소속 회원들을 대상으로 수집된 자료가 활용되었다. FES 원척도의 경우 내적일관성신뢰도는 높은 수준이었으나 확인적 요인분석 결과는 이 척도의 이론적 요인구조를 지지하지 않았으며 수정보완의 필요성을 제기하였다. 기술분석, 상관관계분석 등 기초적인 분석을 통해 척도 문항의 특성 및 원척도의 제한점을 파악하였다. 이론적 근거와 확인적 요인 분석 결과에 기초하여 단축형 척도에 포함될 문항을 선별하였으며 최종적으로 15개 문항으로 구성된 척도가 완성되었다. 이 단축형 척도는 내적일관성 신뢰도는 물론이고 대부분의 모형적합도 지수에서 '양호'이상의 기준을 충족하였다. 본 연구는 확인적 요인분석을 통해 FES의 요인구조를 파악한 첫 번째 연구로서 의의를 가질 뿐 아니라 구성개념 타당도와 내적일관성 신뢰도가 좋은 단축형 FES를 개발함으로써 척도 콘텐츠 개발 및 발전에 긍정적인 기여를 할 수 있을 것으로 기대된다.

• 한국생산제조학회지
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• 제8권5호
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• pp.90-95
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• 1999

Chucking for workpieces is very important for productivity and efficiency in lathe operations. In point of productivity top jaws of the chuck should be changed as quickly as possible in order to reduce idle times wherever workpieces are regripped. A quick change power chuck which can change top jaws quickly by using a jaw change handle without any assembly/disassembly processes of screws is analyzed for this study. strength and stiffness of top jaws by centrifugal force are considered for the design. Structural analysis for the chuck is executed and the finite element method is introduced using MSC/NASTRAN software. Also, the performance of the chuck is evaluated by experiments.

• 한국표면공학회지
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• 제36권5호
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• pp.418-422
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• 2003

평판형 유도결합 플라즈마 식각장비(inductively coupled plasma etcher)를 이용하여 각종 공정조건들에 따른 GaAs의 식각특성을 연구하였다. 공정변수들은 ICP 소스파워(0-500 W), RIE 척파워(0-150 W), 가스 종류($BCl_3$, $BCl_3$/Ar, $BCl_3$/Ne) 및 가스혼합비였다. $BCl_3$ 가스만을 이용하여 GaAs를 식각한 경우보다 25%의 Ar이나 Ne같은 불활성 기체를 혼합한 $15BCl_3$/5Ar, $15BCl_3$/5Ne 가스를 이용한 경우의 식각률이 더 우수한 것을 확인하였다. 그리고 50% 이하의 Ar이 혼합된 $BCl_3$/Ar의 경우는 높은 식각률 (＞4,000 $\AA$/min)과 평탄한 표면(RMS roughness : ＜2 nm)을 얻을 수 있었지만 지나친 양(＞50%)의 Ar의 혼합은 오히려 표면을 거칠게 하거나 식각률을 떨어뜨리는 결과를 가져왔다. 그리고 20 sccm $BCl_3$, 100 W RIE 척파워, 300 W ICP 소스파워, 공정압력이 7.5 mTorr인 조건에서의 GaAs의 식각결과는 아주 우수한 특성(식각률: ∼ 4,000, $\AA$/min, 우수한 수직측벽도: ＞$87^{\circ}$, 평탄한 표면: RMS roughness : ∼0.6 nm)을 나타내었다.

• 한국재료학회:학술대회논문집
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• 한국재료학회 2009년도 춘계학술발표대회
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• pp.39.1-39.1
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• 2009

본 실험은 연성과 광 투명도가 뛰어난 아크릴 (PMMA) 과 폴리카보네이트 (Polycabonate) 기판의 축전 결합형 플라즈마 (CCP) 건식 식각 연구에 관한 것이다. 특히 식각 반응기 내부의 압력 변화에 따른 두 기판의 건식 식각 특성 분석에 초점을 맞추었다. 실험에 사용된 기판은 두께 1mm의 아크릴 (PMMA) 과 폴리카보네이트 (Polycabonate)를 $1.5\times1.5\;cm^2$로 절단하여 Photo-lithography 공정을 통하여 감광제 (Photo-resist)로 패턴하였다. 식각 반응기 내부에 패턴 된 아크릴(PMMA) 과 폴리카보네이트 (Polycabonate)를 넣은 후 반응기 내부 진공 상태로 만들었다. 그 후 5 sccm $O_2$ 가스를 유량조절기 (Mass flow controller)를 통하여 식각 반응기 내부로 유입하여 실험을 하였다. 이때 식각 공정 변수는 식각 반응기 내부 압력과 샘플 척 파워이다. 특성평가 항목은 식각 후 기판 (Substrate)의 식각율 (Etch rate), 식각 선택비 (Selectivity) 그리고 기판 표면 거칠기 (RMS roughness)이다. 실험 결과는 표면 단차 분석기(Surface profiler)를 이용하여 기판 (Substrate)의 표면을 분석 하였다. 또한 OES (Optical Emission Spectroscopy) 를 이용하여 식각 중 내부 플라즈마의 상태를 분석하였다. 본 실험 결과에 따르면 5 sccm $O_2$ 가스와 100 W 척 파워를 고정한 후 반응기 내부의 압력을 25 mTorr에서 180 mTorr까지 변화시켜 실험한 결과 40 mTorr의 반응기 내부 압력에서 실험 자료 중 가장 높은 식각율로 아크릴 (PMMA)은 $0.46\;{\mu}m/min$, 폴리카보네이트 (Polycabonate)는 $0.28\;{\mu}m/min$의 결과를 얻었다. 또한 이 자료를 바탕으로 5 sccm $O_2$ 가스와 반응기 내부 압력을 40 mTorr로 고정시키고 RIE 척 파워를 25 W에서 150 W로 증가시켰을 때 아크릴 (PMMA)의 식각율은 $0.15\;{\mu}m/min$에서 $0.72\;{\mu}m/min$까지 증가하였고, 폴리카보네이트 (Polycabonate) 의 식각율은 $0.1\;{\mu}m/min$에서 $0.36\;{\mu}m/min$까지 증가하였다.

• 문화기술의 융합
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• 제9권5호
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• pp.375-383
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• 2023

본 연구의 목적은 영유아교사의 임파워먼트 관련 국내 학술지 논문의 연구동향을 분석하는 것이다. 이를 위해 2005~2022년 영유아교사의 임파워먼트를 주제로 국내 KCI 등재지에 게재된 논문 87편을 분석대상으로 선정하고, 게재연도와 연구방법 및 연구주제에 따라 분석했다. 연구결과를 살펴보면 첫째, 국내의 영유아교사 임파워먼트 학술지 연구는 2005년에 처음 게재된 후 2022년까지 매해 지속적으로 수행되었다. 둘째, 연구방법 측면에서 살펴보면 연구유형은 '양적연구', 자료수집방법은 '질문지법', 자료분석방법은 '영향(경로)분석'이 우세했다. 이와 함께 연구대상으로는 '유아반교사'와 '어린이집'이 더 많은 분포를 보였으며, 측정도구로는 'Short와 Rinehart의 척도'가 가장 많이 사용되었다. 셋째, 연구주제 분석 결과 '임파워먼트의 영향력 연구'가 가장 많이 나타났다. 이러한 결과를 바탕으로 영유아교사의 임파워먼트 관련 연구에 대한 후속연구를 제언했다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2002년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.540-545
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• 2002

The tight integration of the part design and process planning is very effective to high quality product development and cost effective manufacturing. Moreover, the integration in the early design stage, that is, the integration of the conceptual design and the conceptual process planning may take a big impact with the forecasting the alternative of the design and manufacturing. In this paper, the real field parts are studied about the relations among the Feature, Function, and Manufacturing Process taking the style of reverse engineering method, to found the base of the systematic computer system for the integrated product design and manufacturing process planning.

• 한국생산제조학회지
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• 제8권3호
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• pp.107-113
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• 1999

The purpose of this study is to analyze multi-size power chuck which can chuck work pieces having various sizes automatically and be used suitably to an exclusive product line in the field of automotive industry. Gripping force, accuracy, and stiffness about the chuck are especially considered for the analysis. MSC/NASTRAN software is used for FEM analysis. Also, the effects of centrifugal force which occurs when chuck body rotates and compressive stresses which occur at contacting area in between chuck body and collet are estimated.

• 시큐리티연구
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• 제31호
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• pp.25-45
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• 2012

시큐리티 요원이 인지하는 자신의 역할에 대한 불확실성이 시큐리티 산업의 경영성과에 직접적인 영향을 미친다는 선행연구 결과를 토대로 시큐리티 요원이 가지는 권한의 정도를 선행적으로 규명할 필요가 있다. 그러나 이를 측정할 수 있는 심리적 임파워먼트 척도에 대한 적합성이 현재까지 시큐리티 요원을 대상으로 규명되지 않았기 때문에 정보의 타당성이 불분명하다고 볼 수 있다. 따라서 본 연구에서는 시큐리티 요원의 심리적 임파워먼트 척도를 문항의 적합성, 문항의 신뢰도, 문항의 난이도, 웅답반응 범주의 적절성 관점에서의 문항 적합도를 규명하였으며 다음과 같이 요약할 수 있다. 첫째, 심리적 임파워먼트 척도의 자기결정론 요인에서 문항 11번(내 업무수행 방식에 있어서 나 스스로 결정할 수 있다)은 적합하지 않은 문항으로 나타나 향후 시큐리티 요원을 대상으로 심리적 임파워먼트를 규명할 시에는 문항 11번을 삭제하는 것이 타당하다. 둘째, 심리적 임파워먼트 척도의 문항신뢰도가 높아 다른 시큐리티 요원을 대상으로 자료를 수집하여도 결과의 일관성을 보인다. 셋째, 문항 12번(업무수행하는데 있어 독립적이며 간섭없이 일할 기회가 많다)을 응답하는데 어렵게 느끼는 반면 문항 1번(부서에 대한 나의 영향력은 크다)이 가장 쉽게 인지하고 있으며, 심리적 임파워먼트 척도의 문항난이도는 골고루 분포되어 있다. 넷째, 심리적 임파워먼트 척도의 5점 반응범주는 시큐리티 요원에게 적합한 것으로 규명되었다.