• Title/Summary/Keyword: 접촉비저항

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A study on ohmic contact to p-type GaN

  • ;;;;;Yuldashev
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2000.02a
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    • pp.114-114
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    • 2000
  • III-nitride 게 물질들은 blue와 UV 영역의 LED, LD와 같은 광소자뿐만 아니라 HBT, FET와 같은 전자소자로도 널리 응용되고 있다. 이와 같은 물질을 이용한 소자를 제작할 경우 낮은 저항의 ohmic contact은 필수적이다. p-GaN의 ohmic contact은 아직까지 많은 문제점을 내포하고 있다. 그 중의 하나는 높은 doping 농도(>1018cm-3)의 p-GaN 박막을 성장하기가 어렵다는 것이며, 또 하나는 낮은 접촉 비저항을 얻기 위해선 7.5eV 이상의 큰 재가 function을 지닌 금속을 선택해야 한다. 그러나 5.5eV 이상의 재가 function을 갖는 금속은 존재하지 않는다. 위와 같은 문제점들은 p-GaN의 접촉 비저항이 10-2$\Omega$cm2이상의 높은 값을 갖게 만들고 있으며 이에 대한 해결방안으로는 고온의 열처리를 통하여 p-GaN와 금속사이에서 화학적 반응을 일으킴으로써 표면근처에서 캐리어농도를 증가시키고, 캐리어 수송의 형태가 tunneling 형태로 일어날 수 있도록 하는 tunneling current mechaism을 이용하는 것이다. 이에 본 연구에서는 MOCVD로 성장된 p-GaN 박막을 Mg의 activation을 증가시키기 위해 N2 분위기에서 4분간 80$0^{\circ}C$에서 RTA로 annealing을 하였으며, ohmic 접촉을 위한 금속으로 높은 재가 function과 좋은 adhesion 그리고 낮은 자체저항을 가지고 있는 Ni/ZSi/Ni/Au를 ohmic metal로 하여 contact한 후에 $700^{\circ}C$에서 1분간 rapid thermal annealing (RTA) 처리를 했다. contact resistance를 계산하기 위해 circular-TLM method를 이용하여 I-V 특성을 조사하였고, interface interaction을 알아보기 위해 SEM과 EDX, 그리고 XRD로 분석하였다. 또한 추가적으로 Si 계열의 compound metal인 PdSi와 PtSi에 대한 I-V 특성도 조사하여 비교하여 보았다.

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Pd/Ge/Ti/pt Ohmic contact to InGaAs for Heterojunction Bipolar Transistors(HBTs) (이종접합 쌍극자 트랜지스터(HBT)의 에미터 접촉층으로 사용되는 InGaAs에 대한 Pd/Ge/Ti/Pt의 오믹 접촉 특성)

  • 김일호;장경욱;박성호(주)가인테크
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.10 no.2
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    • pp.219-224
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    • 2001
  • Pd/Ge/Ti/Pt ohmic contact to n-type InCaAs was investigated. Minimum specific contact resistivity of $3.7\times10^{-6}\; \Omega\textrm{cm}^2$ was achieved by rapid thermal annealing at $400^{\circ}C$ for 10 seconds. This was related to the formation of Pd-Ge compounds and the in-diffusion of Ge atoms to InGaAs surface. However, the specific contact resistivity increased slightly to $low-10^5\; \Omega\textrm{cm}^2$ in the case of longer annealing time. Superior ohmic contact and non-spiking planar interface between ohmic materials and InGaAs were maintained after annealing at high temperature. Therefore, this thermally stable ohmic contact system is a promising candidate for compound semiconductor devices.

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Influence of Carbon Content on Rolling Contact Fatigue of High Frequency Induction-Hardened Medium Carbon Steels (고주파 유도경화처리한 중탄소강의 회전접촉 피로거동에 미치는 탄소함량의 영향)

  • Choe, Byeong-Yeong;Lee, Dong-Min
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.7 no.9
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    • pp.744-749
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    • 1997
  • 본 연구에서는 고주파 유도경화처리한 중탄소강의 회전접촉 피로거동을 0.44wt.%C강과 0.55wt.%C강을 사용하여 조사하였다. 회전접촉 피로시험은 Polymet RCF-1 시험기에서 탄성유체 윤활 조건으로 회전속도 8,000rpm, 최대 Hertz응력 492kg/m$m^2$을 가하면서 실시하였다. 미세한 lath마르텐사이트가 고주파 유도경화한 0.44wt.%C강과 0.55wt.%C강의 표면경화층에 형성되었고 소량의 페라이트가 일부 형성되었으며 0.44wt.%C강과 0.55wt.%C에 비해 비교적 큰 페라이트가 나타났다. 회전접촉 피로시험 후 표면경도가 거의 유지되는 표면경화층에서 회전접촉 피로시험전에 비해 경도가 상승하였다. 이 경도증가량의 최대치($\Delta$ Hv$_{max}$)와 피로수명과의 관계를 조사한 결과 0.55wt.%C강이 0.44wt.%C강에 비해 회전접촉 피로중에 일어나는 소변형에 대한 높은 저항성에 주로 기인하여 $\Delta$ Hv$_{max}$값은 낮게 나타나고 피로수명은 높게 나타났다.

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Characteristics of the Ni/Cu Plating Electrode for Crystalline Silicon Solar Cell

  • Lee, Yeong-Min;Kim, Dae-Seong;Park, Jeong-Eun;Park, Jun-Seok;Lee, Min-Ji;Im, Dong-Geon
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2016.02a
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    • pp.414.1-414.1
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    • 2016
  • 스크린 프린팅법을 이용한 태양전지의 전극은 주로 고가의 은을 사용하기에 태양전지의 저가화에 한계를 가지고 있다. 고효율 결정질 실리콘 태양전지의 원가절감의 문제 해결방안으로 박형 웨이퍼 연구개발이 많은 관심을 받고 있다. 본 연구에서는 은 전극을 대체 할 수 있는 니켈/구리 전극을 사용하였고, 박형 웨이퍼에서도 전극 공정이 가능한 도금법을 사용하여 전극을 형성 하였다. 니켈 전극형성은 광유도 도금법(Light-Induced Plating), 구리 전극형성은 광유도전해도금법(Light-Induced Electro Plating)을 이용하여 실험을 진행 하였다. 니켈 광유도 도금 공정시 공정시간 3 ~ 9분까지 가변하였다. 니켈실리사이드 형성 위해 열처리 공정을 $300{\sim}450^{\circ}C$까지 가변하였고 유지시간 30초 ~ 3분까지 가변하여 실험을 진행하였다. 니켈 도금 수용액의 pH 6 ~ 7.5까지 가변하여 실험하였다. 구리 광유도 전해도금 공정 전류밀도를 $1.6mA/cm^2{\sim}6.4mA/cm^2$까지 가변하여 실험을 진행 후, 전류밀도 $3.2mA/cm^2$로 시간 5 ~ 7분까지 가변하여 실험 하였다. 니켈 도금 공정 시간 5분, 니켈실리사이드 형성 열처리 온도 $350^{\circ}C$, 유지시간 1분에서 DIV(Dark I-V) 분석결과 가장 적은 누설전류를 확인하였다. 니켈 도금액 pH 6.5에서 니켈입자 및 구리입자의 균일성이 좋은 최적의 조건임을 확인하였다. 구리 도금 공정 전류밀도 $3.2mA/cm^2$, 시간 5분에서 TLM(Transmission Line Method) 측정결과 접촉 저항 $0.39{\Omega}$과 접촉 비저항 $12.3{\mu}{\Omega}{\cdot}cm^2$의 저항을 확인하였다. 도금법을 이용하여 전극을 형성함으로써 접촉저항 및 접촉 비저항이 낮고 전극 품질이 향상됨으로서 셀의 전류밀도 $42.49mA/cm^2$를 얻을 수 있었다.

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Application of Geophysical Survey for Detecting the Skarn Ore Deposit (스카른광체를 탐지하기 위한 물리탐사 적용)

  • Park, Chung-Hwa;Jung, Yeon-Ho;Lee, Yong-Dong;Park, Jong-Oh
    • The Journal of Engineering Geology
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    • v.20 no.1
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    • pp.71-78
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    • 2010
  • The Gagok mine is a contact metasomatic deposit, located at Gagok-myeon, Samcheok city and Cheoram-dong, Taebaek city, Gangwon province. The deposit lies within the limestone of Myobong and Pungchon formations, and exists the contact of intrusive granite porphyry. In order to determine the direction and extension of mineralization in the gallery and around the entrance of the ore deposit, we used the ground magnetic survey, the direct current (dc) resistivity survey using dipole-dipole array, and resistivity tomography survey. The ground magnetic survey did not detect the anomalous zone due to ore deposit, while the dc resistivity survey and resistivity tomography survey were successful in delineating the anomalous zone related to the extension of fault toward $N50^{\circ}W$.

진공챔버 내부의 위성표면온도 제어용 비접촉 적외선 발열장치 개발

  • Jo, Hyeok-Jin;Seo, Hui-Jun;Lee, Sang-Hun;Mun, Gwi-Won
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.08a
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    • pp.49-49
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    • 2010
  • 본 논문은 진공챔버 내부에서 위성 표면의 온도를 제어하기 위한 할로겐램프를 이용한 적외선 발열장치의 개발에 관한 것으로, 인공위성이 우주궤도에서 받게 되는 복사에너지를 지상의 진공챔버 내에서 모사하기 위한 비접촉 적외선 발열장치에 관한 것이다. 진공챔버 내에서의 비접촉식 발열 방법 중, 진공환경에서의 오염을 발생시키지 않고, 발열 시간 및 냉각 시간이 가장 짧으며, 높은 열효율로 태양복사에너지를 가장 근사하게 모사할 수 있는 할로겐 램프를 이용한 발열 방법을 적용하였으며, 램프에서 방사되는 열에너지가 위성표면에 균일하게 분포될 수 있도록 위성 표면으로부터의 거리와 램프의 개수, 램프의 배열에 따른 에너지 분포 계산식을 도출하여 적용하였다. 공급 전압에 따른 램프의 저항특성을 파악하여, 원격으로 제어되는 150 VDC, 5 A의 직류전원공급기를 이용해 램프의 발열량을 조절하였으며, 발열량에 따른 위성 표면온도에 대한 해석을 수행하였다. 램프를 이용한 비접촉식 적외선 발열장치 개발을 통해 진공환경에서의 시험대상에 대한 효율적인 열에너지 부과방법 수립이 가능하였다.

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A Design and Implementation of Busbar Joint and Temperature Measurement System (부스바 접촉 상태 및 온도 감지 시스템 설계 및 구현)

  • Lee, Young-dong;Jeong, Sung-Hak
    • Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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    • v.21 no.2
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    • pp.379-385
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    • 2017
  • In general, distribution board, panel board and motor control center can be installed over a wide area such as residence of group, building, schools, factories, ports, airports, water service and sewerage, substation and heavy industries that are used to supply converts the voltages extra high voltage into optimal voltage. There are electrical accidents due to rise of contact temperature, loose contact between busbar, deterioration of the contact resistance, over temperature of the busbars. In this paper, we designed and implemented the busbar joint and temperature measurement system, which can measure the joint resistance of busbar and loose connection between busbar using potentiometer and non-contact infrared sensor. The experimental results show that tightening the bolt and nut is fully engaged, resistance was decreased and maximum error range was 0.1mm. Also, the experimental result showed that the temperature at the contact area is increased from $27.3^{\circ}C$ to $69.3^{\circ}C$by the contact resistance.

Nondestructive measurement of surface resistance of indium tin oxide(ITO) films by using a near-field scanning microwave microscope (근접장 마이크로파 현미경을 이용한 ITO 박막의 표면저항의 비파괴 관측 특성 연구)

  • Yun, Soon-Il;Na, Sung-Wuk;You, Hyun-Jun;Lee, Yeong-Joo;Kim, Hyun-Jung;Lee, Kie-Jin
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2004.05a
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    • pp.137-141
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    • 2004
  • 저항특성이 다른 ITO박막의 구조특성과 표면특성을 XRD와 AFM(atomic force microscopy), SEM(scanning electron microscopy)을 이용하여 관측하였다. 접촉방식인 4단자 법을 사용하여 ITO박막의 표면전기저항을 측정하였다. 관측된 구조 및 표면특성을 바탕으로 비파괴 비접촉방식을 이용한 근접장 마이크로파 현미경을 이용하여 얻은 ITO박막의 표면저항특성과 비교 연구하였다.

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Pd/Ge/Pd/Ti/Au Ohmic Contact for Application to AlGaAs/GaAs HBT (AIGaAs/GaAs HBT 응용을 위한 Pd/Ge/Pd/Ti/Au 오믹 접촉)

  • 김일호;박성호(주)가인테크
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.11 no.1
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    • pp.43-49
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    • 2002
  • Pd/Ge/Pd/Ti/Au ohmic contact to n-type InGaAs was investigated with rapid thermal annealing conditions. Minimum specific contact resistivity of $1.1\times10^{-6}\Omega\textrm{cm}^2$ was achieved after annealing at $400^{\circ}C$/10sec, and a ohmic performance was degraded at higher annealing temperature due to the chemical reaction between the ohmic contact materials and the InGaAs substrate. However, non-spiking planar interface and relatively good ohmic contact($high-10^{-6};{\Omega}\textrm{cm}^2$) were maintained. This ohmic contact system is expected to be a promising candidate for compound semiconductor devices.

High Temperature Ohmic Contacts to Monocrystalline $\beta$-SiC Thin Film Using Nitride Thin Films (질화물 박막을 이용한 단결정 $\beta$-SiC의 고온 ohmic 접촉 연구)

  • Choe, Yeon-Sik;Na, Hun-Ju;Jeong, Jae-Gyeong;Kim, Hyeong-Jun
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.10 no.1
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    • pp.21-28
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    • 2000
  • Refractory metals, W and Ti, and their nitrides, $W_2N$ and TiN, were investigated for using as an ohmic contact material with SiC single crystalline thin films. The possibility of nitride materials for using as a stable ohmic contact material of SiC at high temperatures was examined by considering the thermal stability depending on the heat treatment temperature, their electrical properties and protective behavior from the interdiffusion. W contact with SiC thin films, deposited by using new organosilicon precursor, bis-trimethylsilylmethane, showed the lowest resistivity, $2.17{\times}10^{-5}$$\textrm{cm}^2$. On the other hand, Ti-based contact materials showed higher contact resistivity than W-based ones. The oxidation of contact materials was restricted by applying Pt thin films on those electrodes. Nitride electrodes had rather stable electrical properties and better protective behavior from interdiffusion than metal electrodes.

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