• Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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• v.44 no.2
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• pp.127-138
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• 2007

In this paper, we propose a new X-masking scheme for utilizing logic built-in self-test The new scheme exploits the phase-shifting network which is based on the shift-and-add property of maximum length pseudorandom binary sequences(m-sequences). The phase-shifting network generates mask-patterns to multiple scan chains by appropriately shifting the m-sequence of an LFSR. The number of shifts required to generate each scan chain mask pattern can be dynamically reconfigured during a test session. An iterative simulation procedure to synthesize the phase-shifting network is proposed. Because the number of candidates for phase-shifting that can generate a scan chain mask pattern are very large, the proposed X-masking scheme reduce the hardware overhead efficiently. Experimental results demonstrate that the proposed X-masking technique requires less storage and hardware overhead with the conventional methods.

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2003.11a
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• pp.215-215
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• 2003

현재 이용되고 있는 위상 변위 마스크, 즉 Cr 계열의 마스크나 MoSiON 마스크는 DUV지역에서 낮은 굴절률을 갖는다. 그 겯과 마스크의 두께가 90 nm 이상이 되고, 웨이퍼에서 패턴 형성 시 에러율이 증가하게 된다. 본 연구에서는 DUV 지역에서 굴절률이 높을 것이라고 예상되는 Zr과 Hf의 oxide를 위상 변위 마스크 물질의 선정하고 각 물질의 전자 상태와 천이 상태를 분석하여 위상변위 마스크로써의 이용가능성을 연구하자 한다. 상온에서 Zr, Hf oxide의 안정한 구조는 cubic 구조와 monoclinic 구조이다. 현재 cubic 구조의 Zr, Hf oxide에 대한 전자 상태는 연구가 많이 되어 있는 반면 monoclinic 구조에서의 전자상태 연구는 미흡하다. 본 연구에서는 monoclinic 구조를 이용하여 Zr, Hf oxide의 클러스터 모델을 제작하였다. 제작된 클러스터 모델에 대하여 DV-X$\alpha$ 계산법을 적용, 기저상태의 전자상태를 계산하였다. 그리고 각 모델에서 Zr L-edge, Hf L-edge 그리고 O K-edge의 천이상태를 연구하여, 기저 상태의 전자상태와 천이상태를 연구하여 광학 성질과의 연관성을 연구하고자 하였다.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.18 no.5
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• pp.303-308
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• 2007

We report here on the application of a digital holographic microscope as a metrology tool for the inspection and the micro-topography reconstruction of different micro-structures of phase shift photo-mask (PSM). The lithography by phase shift photo-mask uses the interference and the pattern of the PSM is not imaged by general optical microscope. The technique allows us to obtain digitally a high-fidelity surface topography description of the phase shift photo-mask with only one hologram image acquisition, allowing us to have relatively simple and compact set-ups able to give quantitative information of PSM.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2003.07a
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• pp.160-161
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• 2003

위상특이점이라고도 불리는 광 보텍스(optical vortex)를 포함한 빔은 파면의 특이성 때문에 많은 관심을 끌어왔다. 위상을 정의할 수 없는 위상특이점을 따라서는 빔의 동일위상파면이 소용돌이 형태를 가진다. 그 소용돌이 정도는 위상전하(topological charge) 라는 양으로 특징지을 수 있다. 광 보텍스는 선형 및 비선형적 특성에 대해 많은 연구가 이루어져왔다. 레이저 공진기를 변형하거나, 홀로그램이나 위상마스크에 레이저를 조사하여 보텍스를 발생시키는 방법 등의 여러 방법이 알려져 있다. (중략)

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2001.02a
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• pp.158-159
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• 2001

파장분할다중 방식에서 필요로 하는 격자들 간의 격자주기 차이는 1nm이하를 요구한다. 따라서, 하나의 위상형 마스크로 서로 다른 주기의 격자를 동시에 제작하려면 하나의 위상형 마스크 패턴들 간에도 nm 정도의 차이를 갖는 미세한 패턴이 있어야 한다. 그러나, 일반적으로 마스크를 제작하는데 이용되는 장비인 전자빔 묘화장치(electron-beam lithographic system)의 분해능은 수십 nm이므로, 그러한 nm 정도의 정확도로서 조합된 마스크 패턴들을 만드는 것은 매우 어렵다. (중략)

• Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics D
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• v.36D no.11
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• pp.33-44
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• 1999

The boundary element method was newly implemented into an optical lithography simulator so that it could evaluate rigorously the topological effects of 2dimensional phase-shifting masks. Both transparent and periodic boundary conditions were applied for the method, and the continuity conditions were used for treating interface nodes. The accuracy of the module developed for simulating aerial images was verified by comparison with analytic solutions and published results. In addition, it was found that our simulator would be more efficient than the conventional method based on the rigorous coupled wave analysis in views of the convergence and the calculation speed. Finally, the optimal design of two phase-shifting masks was performed.

• Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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• 2001.05a
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• pp.489-492
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• 2001

We studied a method to use a variable discrete random phase mask in 2-D binary data representation for efficient holographic data storage. The variable phase mask is realized by use of a twisted nematic liquid crystal display.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.15 no.1
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• pp.79-85
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• 2004

We report on a transmittance controlled photomask with phase patterns on the back quartz surface. Theoretical analysis for changes in illumination pupil shape with respect to the variation of size and density of backside phase patterns and experimental results for improvement of critical dimension uniformity on a wafer by using the transmittance controlled photomask are presented. As phase patterns for controlling transmittance of the photomask we used etched contact-hole type patterns with 180" rotative phase with respect to the unetched region. It is shown that pattern size on the backside of the photomask must be made as small as possible in order to keep the illumination pupil shape as close as possible to the original pupil shape and to achieve as large an illumination intensity drop as possible at a same pattern density. The distribution of illumination intensity drop suitable for correcting critical dimension error was realized by controlling pattern density of the contact-hole type phase patterns. We applied this transmittance controlled photomask to a critical layer of DRAM (Dynamic Random Access Memory) having a 140nm design rule and could achieve improvement of the critical dimension uniformity value from 24.0 nm to 10.7 nm in 3$\sigma$.TEX>.

• Proceedings of the Korean Society of Broadcast Engineers Conference
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• 2020.07a
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• pp.311-313
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• 2020

컴퓨터 생성 홀로그램(CGH)에서 시야각은 매우 중요한 특성이다. 시야각에 따라 홀로그램을 볼 수 있는 영역이 결정되며 시야각을 넘어가게 되면 재구성된 오브젝트가 잘려 보이게 된다. CGH의 최대 시야각은 회절 격자 방정식에 의해 결정이 되며, 해당 수식에 따르면 홀로그램 재생 장치인 공간 광 변조기(SLM)의 픽셀 피치에 반비례한다. SLM의 픽셀 피치를 줄이는 것은 어렵고 비용이 많이 들기 때문에 본 논문에서는 고해상도 랜덤 바이너리 위상 마스크를 SLM에 부착하여 CGH의 시야각을 확장하는 방법을 제안한다. CGH를 계산하는데 자주 사용되는 반복 푸리에 변환 알고리즘(IFTA)에 위상 평균화 단계를 도입하여 SLM과 위상 마스크간의 픽셀 크기 및 개수의 차이를 극복하였다. 또한 스칼라 회절 이론을 바탕으로 한 홀로그램 시뮬레이션에 제안한 방법을 적용 후 가상 눈 모델을 도입하여 두 개의 물체로 이루어진 홀로그램을 재구성하고 여러 각도에서 관찰하여 시야각이 향상되는것을 검증하였다.

• Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers B
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• v.36 no.10
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• pp.1011-1017
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• 2012

We report the development of an optical micro-nanolithography method by using a roll-type mask. It includes phase-shift lithography and photolithography for realizing various target dimensions. For sub-wavelength resolution, a structure is achieved using the near-field exposure of a photoresist through a cylindrical phase-mask, allowing high-throughput continuous patterning. By using a film-type metal mask, continuous photolithography was achieved, and this method could be used to control the period of resultant patterns in real time by changing the rotating speed of the cylinder mask. As an application, we present the fabrication of a transparent electrode in the form of a metallic mesh by using the developed roll-type photolithography process. As a result, a transparent conductor with good properties was achieved by using a recently built cylindrical phase-shift lithography prototype, which was designed for patterning on 100-mm2 substrates.