수묵화 드로잉 기술는 일반적으로 붓, 먹 그리고 종이에 대한 모델링과 사용자의 2차원 붓의 움직임, 먹 번짐과 종이 재질에 대한 시뮬레이션으로 구성된다. 본 논문에서는 먹의 양과 종이의 흡수력에 대한 계산을 효율적으로 줄이고 자연스러운 수묵화의 표현이 가능하도록 탱크(tank)모델을 단순화 시키고 수묵화의 특징을 농담효과, 번짐효과, 선, 종이의 4가지 분류로 개념화 시켜서 반영하였다. 또한, 위모트의 모션센서와 IR센서를 이용하여 사용자의 움직임에 대한 데이터 값을 붓의 움직임으로 전달하도록 하였다.
최근 모션 센서 기반의 무선 컨트롤러 위모트(Wiimote)와 같이 다양한 인터페이스들이 등장하면서 기존의 전통적 사용자 인터페이스인 마우스, 키보드, 조이스틱과는 다른 새로운 경험을 제공하고 있다. 또한 기술의 발전으로 디스플레이 장치는 점차 고화질 및 대형화 되어가고 있으며, 타일드 디스플레이도 여러 곳에 활용되고 있다. 그러나 대형화면을 위한 새로운 인터랙션용 장비들이 새롭게 개발되고는 있지만, 타일드 디스플레이와 같은 대형 화면에서의 사용자 인터랙션의 효율성에 대한 분석 연구는 부족한 실정이다. 본 논문에서는 4개의 다양한 화면 크기와 해상도를 가진 디스플레이들이 마우스와 위모트 사용자 인터랙션에 미치는 영향에 대해 살펴보았다.
리모트 수소 플라즈마를 이용하여 실리콘 웨이퍼 표면 위에 있는 금속불순물의 제거 및 제거기구에 관하여 조사하였다. 실리콘의 표면과 내부분석을 위하여 TXRF(total reflection x-ray fluorescence)와 SPV(surface photovoltage), AFM(atomic force microscope)을 사용하였다. TXRF 분석결과 리모트 수소 플라즈마가 금속오염물질 제거에 상당한 효과가 있는 것으로 나타났다. TXRF분석결과 리모트 수소 플라즈마가 금속오염물질 제거에 상당한 효과가 있는 것으로 나타났다. 리모트 수소플라트마 처리 후 금속오염은 금속원소의 종류에 따라 1010atoms/$\textrm{cm}^2$-1011atoms/$\textrm{cm}^2$수준이었다. SPV분석결과를 보면 수소 플라즈마 처리에 의해 minority carrier 수명이 전반적으로 증가하였다. AFM 분석을 통하여 수소 플라즈마 처리가 표면 손상을 일으키지 않으며 표면의 거칠기에 나쁜 영향을 미치지 않음을 알 수 있었다. 또한 본 실험에서 나타난 결과들을 종합해 볼 때 금속오염물의 제거기구는 자연산화막 혹은 수소로 passivate된 실리콘 웨이퍼 표면을 수소 플라즈마에서 발생된 수소원자가 실리콘표면을 약하게 에칭할 때 떨어져 나가는 'lift-off'가 유력한 것으로 판단된다.
현재까지 유아나 장애인을 위한 컴퓨터 활용 교육 콘텐츠는 지각훈련, 인지훈련, 한글 교육 등 다양한 분야에서 개발되었으나 가장 큰 문제점은 컴퓨터 모니터 앞에서 장시간 마우스를 이용하여 교육을 할 경우 활동성이 저하된다는 점이다. 이것은 특히 왕성하게 운동 능력이 발달하는 시기의 유아와 운동 장애로 인해 활동 기회가 부족한 장애 아동에게 적잖은 문제점으로 지적되어 왔다. 이와 같은 문제점을 개선하고 활동성과 협동력, 몰입성을 강화시키는 콘텐츠를 개발하기 위해서는 터치스크린과 같은 스크린 상에서 인간의 동작을 인식하여 이를 대화식으로 보여주는 기술이 필요하다 본 연구에서는 기존의 컴퓨터 활용 콘텐츠의 단점을 보완하고, 사용자의 활동성을 강화하기 위해 위모트가 가지는 센서 기술을 활용하여 실시간으로 빔 프로젝터나 컴퓨터 스크린으로 교육콘텐츠를 제공하고 신체를 직접 움직이며 적외선 펜을 사용하여 자극에 반응하는 교육 콘텐츠를 개발하였다.
원격 수소 플라즈마에 의한 Si 웨이퍼 표면 위의 Cr, Ni 및 Cu불순물의 제거 효과를 조사하였다. Si 웨이퍼를 이 불순물들이 포함되어 있는 아세톤으로 집중적으로 오염시켰으며 최적 공정조건을 결정하기 위해 rf-power와 plasma노출시간을 변화시키면서 실험을 수행하였다. 리모트 수소 플라즈마 세정 후 Si 웨이퍼 표면은 Total X-ray Reflection Fluorescence(TXRF), Surface Photovoltage(SPV) 및 Atomic Forece Microscope(AFM)에 의해 분석되었다. 리모트 수소 플라즈마 세정 후 Cr, Ni 및 Cu불순물의 농도는 감소하였고 소수 전하운반자수명은 전반적으로 증가하였다. 또한 AFM 분석결과 표면 거칠기는 전반적으로 향상되었고 Si 기판에 거의 손상을 주지 않았다. TXRF 분석결과는 리모트 수소 플라즈마 세정이 적절한 공정 조건에서 이루어질 때 금속 오염물의 제거에 아주 효과적임을 보여주었다. 또한, Cr, Ni 및 Cu 불순물의 제거는 $SiO_2$가 제거될 때 $SiO_2$에 묻어 함께 제거되는 이른바 lift-off mechanism에 의한 것으로 사료된다.
Wii의 기본 컨트롤러인 위 리모트(Wii Remote)는 모션센서(Motion Sensor)를 내장하고 있어 컨트롤러 사용자의 움직임을 3차원 좌표로 인식한다. 또한, 블루투스(Bluetooth)를 통해 컨트롤러의 확장이 가능하여 PC에서 마우스처럼 다른 응용프로그램을 제어하는데 사용할 수 있다. 본 연구에서는 모션센서와 블루투스 기능을 이용하여 위 리모트를 쥐고 있는 사용자가 화면에 가르키고 있는 좌표 값에 대한 정보를 받아 화면에 나타내는 드로잉을 구현하였다.
리모트 수소 플라즈마를 이용하여 Si 기판 위의 구리 오염의 제거 효과에 관하여 조사하였다. 최적의 공정 조건을 찾기 위하여 Si 기판을 1ppm ${CuCI}_{2}$ 표준 화학 용액으로 인위적으로 오염시킨 후 rf power와 세정시간, 거리 (수소플라즈마 중심에서 Si 기판표면까지의 거리)등의 공정 변수를 변화시키며 리모트 수소 플라즈마 세정을 실시하였다. 리모트 수소 플라즈마 세정 후 Si 표면의 분석을 위하여 TXRF(total x-ray reflection fluorescence)와 AFM(atomic force microscope)측정을 실시하였다. 리모트 수소 플라즈마 세정이 Cu의 제거에 효과적이며 Si 표면의 거칠기에 나쁜 영향을 주지 않음을 TXRF와 AFM 분석결과로부터 알 수 있었다. Cu 불순물의 흡착 메커니즘은 산화 환원 전위 이론으로 설명될 수 있으며, Cu 불순물의 제거 메커니즘은 XPS(x-ray photoelectron spectroscopy)분석결과를 근거로 하여 다음과 같이 설명할 수 있다. :먼저 Cu 이온이 Si 표면에 흡착되어 화학적 산화막을 생성한다. 그 다음, 수소 플라즈마 중의 반응성이 강한 수소이온이 이 산화막을 분해시켜 제거하며 Cu 불순물은 산화막이 제거될 때 함께 제거된다.
닌텐도 위 출시 이후 가속센서를 활용한 체감형 게임기에 관한 관심이 급증하고 있다. 닌텐도의 경우 위 리모트에 가속센서를 탑재하여 사용자가 라켓이나 배트를 휘두르는 것과 같은 조작이 가능하게 한다. 스마트폰 또한 가속센서를 내장해 출시되고 있기 때문에 스마트폰의 가속센서를 활용해 게임을 개발할 수 있다. 하지만 스마트폰 플랫폼은 다양하기 때문에 한 플랫폼에서 개발을 완료하였다 하더라도 다른 플랫폼에서 동작하려면 대상 플랫폼에 맞게 프로그램을 재작성 해야 하는 단점이 있다. 해결책으로 웹 어플리케이션이 제안되어 왔다. 그러나 웹 어플리케이션은 자바스크립트 보안 정책 때문에 파일시스템, 센서 등 로컬 자원에 대한 접근이 불가능하다. 이러한 단점을 극복하고자 웹 어플리케이션이 센서를 조작하고 파일시스템에 접근할 수 있도록 지원하는 PhoneGap, BONDI 등의 솔루션이 개발되었다. 본 논문은 센서를 사용한 웹 게임의 구현을 통해 센서를 이용한 웹 게임 개발 방법을 제시한다.
리모트 수소 플라즈마에 의한 Si 웨이퍼 표면 위의 Fe 불순물의 제거효과를 조사하였다. 세정시간 10분 이하와 rf-power 100W이하의 범위에서 최적 공정조건은 각각 1분과 100W이였으며, 플라즈마 노출시간이 짧을수록, rf-power가 증가할수록 Fe제거 효과가 더 향상되는 것으로 나타났다. 또한, 고압보다는 저압 하에서 Fe 제거효과가 더 우수하였는데, 저압 하에서는 $\textrm{H}_2$ 유량이 20sccm, 고압 하에서는 60sccm일 때 Fe 제거효과가 가장 우수하였다. 플라즈마 세정 직후의 열처리는 금속오염의 제거효과를 향상시켰으며, $600^{\circ}C$에서 최상의 효과를 얻을 수 있었다. AFM 분석결과에 의하면 표면 거칠기는 플라즈마 세정에 의하여 30-50% 향상되었는데, 이것은 Fe 오염물과 더불어 Si 표면의 particle이 제거된 데 기인하는 것으로 생각된다. 또한 본 논문에서는 수소 플라즈마에 의한 Si 웨이퍼 표면의 Fe 제거기구에 관해서도 자세히 고찰하였다.
잠입 액션 게임은 크게 적을 공격해 잠입하거나 적의 시야를 회피하는 두 가지 방식으로 진행된다. 최근의 잠입 액션 게임은 높은 액션의 비중으로 전면대결의 빈도가 높아져 다른 액션게임 장르와의 경계가 흐려졌다. 본 논문에서는 플레이어를 약자의 위치에 두어 액션을 이용한 잠입이 아닌 회피를 이용한 잠입을 주된 특징으로 하는 게임을 제작하고 그 제작과정을 기술한다. 회피를 위한 주요 요소로 빛을 선택해 적의 시야를 차단하여 회피하는 것을 주된 플레이 방법으로 삼았고 액션 요소를 추가하기 위해 다양한 프로토타입을 제작하여 테스터들에게 플레이하도록 하는 플레이 테스트를 거쳤고, 그 결과 제한된 상황에서의 액션이 선택되었으며, 잠입에 영향을 주는 사용자 인테페이스 중 미니맵, 입력 장치가 추가, 수정되었다. 잠입을 이용한 게임 제작 시 결정된 여러 사항들을 살펴보고 그 결정과정의 경험을 기술한다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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