Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2003.03a
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pp.130-130
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2003
일반적으로 Indium tin oxide (ITO)는 유기EL 소자 제작 공정에서 필수 불가결한 물질로 알려져 있다. ITO는 정공 수송의 기능을 하게 되는데 정공 주입의 효율을 향상시키기 위해서는 ITO 표면의 저 저항화와 ITO/유기박막 접합계면의 일함수 값의 적절한 균형이 중요하다. 그리고 현재 플라즈마를 이용한 ITO 기판의 세정은 산소 래디칼을 이용하여 표면을 산화하는 방식인 산소 플라즈마를 이용한 세정 방법이 널리 이용되고 있다. 본 연구에서는 ITO 표면의 탄소 오염물을 제거하여 저항특성을 향상시키기 위하여 원거리 산소와 수소 플라즈마 세정을 적용하였고, 그에 따른 탄소를 포함하는 오염물의 제거 효율과 산소와 수소 플라즈마로 처리된 ITO 표면의 특징을 기술하였다. 실험에 사용된 플라즈마 소스는 radio-frequency(RF) 플라즈마이고, 원거리 플라즈마 세정 시스템과 표면 분석 장비인 X-ray photoelectron spectroscopy(XPS)가 in-situ로 연결되어 있는 진공장비로 분석을 하였다 플라즈마 세정 전에 전처리 세정을 시행하지 알았으며, 세정 후 in-situ XPS에 의해서 화학 조성 및 결합 구조의 변화를 분석하였다. 또한 일함수와 면저항 값을 측정하고 그에 따른 표면의 저항 특성 및 표면 전위에 관하여 세정 효율과 연관지어 해석하였다. 원거리 산소/수소 플라즈마 세정 후 ITO 표면의 탄소오염물이 검출한계 이하로 효과적으로 제거된 것을 in-situ XPS 분석 결과로 확인하였고, 플라즈마 처리 순서 및 플라즈마 파워를 변화하여 그에 따른 표면의 결합 상태 및 화학 조성의 변화를 비교 분석하였다.
In this paper the design of the discharge cleaning system for KSTAR vacuum vessel is described. We first discuss about the parameters which are related the efficiency of discharge cleaning. The RG(RF-assisted Glow) discharge which has the ignition and sustain pressure lower than those in the case of DC discharge, thus has the higher efficiency of discharge cleaning. So we adopt the RG discharge, in practical design, for KSTAR discharge cleaning system. For uniformity of the cleaning effect, we plan to install two discharge cleaning systems in A- and I-port of the KSTAR vacuum vessel. The designed system will be adapted for the study of the fuel recycling and of the boronization as well as the discharge cleaning of the KSTAR vacuum vessel.
The objective of this study is to develop hydrocarbon-based cleaning agents by blending paraffins, glycol ethers and siloxanes in oder to effectively clean contaminants such as flux, solder and grease. And the effect of cleaning ability by wetting index, aniline points and solubility parameter of the formulated hydrocarbon-based cleaning agents were studied in this work. The formulated hydrocarbon-based cleaning agents were prepared on the base of physical properties of their individual components. Wetting indexes and aniline points of their were measured through experiments and solubility parameters of their were calculated based on the Hansen's equation. In this study, evaluation of cleaning ability by cleaning agents were carried out using contaminants such as flux, solder, and grease. The experimental results showed that the cleaning ability of the formulated cleaning agents was excellent in cleaning contaminants such as flux, solder and grease and that the influencing parameters on their cleaning efficiency were found to be different according to contaminant types. MC($20.3MPa^{1/2}$), DF-1 ($24.2MPa^{1/2}$) and DF-2($21.5MPa^{1/2}$) with similar solubility parameter as flux ($21.3MPa^{1/2}$) showed 100% cleaning efficiency within 3 minutes in flux cleaning. And CFC-113, MC and 1,1,1-TCE with low aniline point less than $-20^{\circ}C$ showed excellent cleaning efficiency in solder cleaning. DG-1($16.2\;MPa^{1/2}$) and DG-2($15.5\;MPa^{1/2}$) with similar solubility parameter as grease($15.0{\sim}17.0\;MPa^{1/2}$) showed relatively low cleaning efficiency of grease, but CFC-113 and MC with high wetting index and low aniline point showed good cleaning efficiency in grease cleaning. As a result of this study, the hydrocarbon-based cleaning agents alternative to regulated cleaning agents such as CFC-113, 1,1,1-TCE and MC were able to be developed through properly blending paraffins, glycol ethers and siloxanes for cleaning flux, solder and grease. And it can be shown that various influencing parameters of cleaning efficiency such as wetting index, aniline point, solubility parameter and etc. of the non-aqueous cleaning agent should be reviewed for prediction of their cleaning ability and can be applied to formulation of cleaning agents.
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.11
no.3
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pp.795-801
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2010
As the fabrication technology of LCDs (Liquid Crystal Displays) advances, the size of mother glass substrates is getting larger, and the fabrication process is becoming finer. Accordingly, the importance of cleaning processes grows in the fabrication process of LCDs. In this study, we have compared and evaluated the particle removal efficiency for three different methods of physical cleaning, which are brush, bubble jet, and aqua/air cleaning. Using the seventh generation glass substrate, the particle removal efficiency has been investigated by changing operation conditions such as a flow rate of deionized water, pressure, contact depth between a brush bristle and a glass substrate, and so forth. In the case of brush cleaning, the cleaning efficiency barely changes after a critical point when the contact depth is varied. While the cleaning efficiency of bubble jet cleaning is almost independent of pressure, that of aqua/air cleaning is affected by pressure up to a critical point, but is not changed after it. We note the brush cleaning is the most effective among the three cleaning methods under our experimental conditions.
고효율 실리콘 이종접합 태양전지 제작을 위한 요소기술 중 a-Si:H/c-Si 간의 계면 안정화는 태양전지 효율에 중요한 역할을 한다. 본 연구에서는 n-type 결정질 실리콘 기판을 사용하여, 소수전하들의 재결합을 방지하고, 계면 안정화를 실행하는 방안으로 실리콘 기판 습식 세정을 수행하였다. 반도체 공정에서 일반적으로 알려진 RCA 세정기법에 HF 세정을 마지막공정으로 추가하여 자연 산화막과 기타 불순물을 더욱 효과적으로 제거할 수 있도록 실험을 진행하였다. 마지막 공정으로 추가된 HF 세정에 의한 a-Si:H/c-Si 계면 안정화 효과를 관찰하기 위하여 HF농도와 HF 세정시간에 따른 소수반송자 수명을 측정하였다. 또한 HF 세정 이후 공정의 영향을 확인하기 위하여 PE-CVD법으로 a-Si:H 박막 증착 이전 실리콘 기판의 온도와 상온에서 머무는 시간에 따른 a-Si:H/c-Si 계면안정화 특성을 분석하였다. 본 실험을 통해 HF세정공정이 계면특성에 미치는 영향을 확인하였으며 실리콘 기판 습식 세정이 이종접합태양전지 특성에 미치는 영향을 분석하였다.
Aqueous cleaning agents which are considered to be environmental-friendly and promising alternative ones among various industrial cleaning agents were evaluated in this words. In order to formulate aqueous cleaning agents, primary alcohol ethoxylates with 3, 5 and 7 moles of ethylene oxides among nonionic surfactants were selected as main surfactants. And anionic surfactants and alcohols were chosen as their cosurfactants. Builders such as NaOH, KOH, $Na_2CO_3$ and $NaHCO_3$ were also evaluated as additives for improvement of cleaning efficiency of aqueous cleaning agents. The experimental results of cleaning ability tests show that introduction of anionic surfactant TLS as cosurfactant in alcohol ethoxylate-based aqueous solution gives the best cleaning efficiency for removing mixed soil of cutting oil and grease. NaOH and $Na_2CO_3$ are also shown to play an important role for improvement of cleaning efficiency in a aqueous cleaning agent.
본 발명은 승화성 고체 미립자 제트를 이용한 분사로 표면의 오염물을 제거하는 공정이다. 이는 극저온에서 고화된 입자가 표면에 고속 충돌 후 오염물을 제거하고 자신은 승화되어 잔사를 남기지 않는 청정 세척 공정을 말하는데 반도체 장비, 정밀 제품, 인쇄회로 기판 등의 다양한 표면의 각종 오염막 제거에 널리 사용될 수 있다. 본 장치의 특징은 세정 매체인 $CO_2$와 Carrier gas인 $N_2$를 사용하였고 현재 특허에 출원되어 있는 단순한 액체$CO_2$를 이용한 세정범위를 넘어 다양한 세정매체 즉, 복합인자($CO_2$ + ice, Ar + ice)를 이용하여 세정효율의 다변화를 이루었고 자체 개발한 냉동기를 이용하여 고화율이 액체 $CO_2$보다 상대적으로 낮은 기체 $CO_2$의 고화율을 증대 시킴으로써, 세정매체의 소모시간이 현격히 감소되어 원가절감 효과를 증대 시켰다. 세정대상물을 효과적으로 제거하기 위해 주 세정 매체인 $CO_2$의 수농도를 조절할 수 있는 Multi-Nozzle의 개발과 이로 인하여 세정력의 강도를 조절하도록 하였다. 세정 후 발생되는 오염입자를 효과적으로 제거하도록 국부 Exhaust를 Nozzle전단에 달아 재 오염의 방지효과를 극대화 시켰다.
In this study, evaluation tests for cleaning performance of various cleaning agents and selection of optimal ultrasonic cleaning parameters were executed to develop an efficient cleaning process in remanufacturing of laser copy machine. Cleaning performance tests were executed with 8 cleaning agents (A~H) to remove the contaminants of oil-ink, toner particles, and shoe polish. Physical properties and foamability tests were also applied. For 3 types of contaminants, cleaning agent G showed superior cleaning performance compared to agent A which has being used at a remanufacturing of laser copy machine in Korea. With cleaning agents selected in pre-tests, ultrasonic cleaning tests were executed to remove real contaminants on the parts of used digital laser copy machine parts. Cleaning agent G at 28 kHz ultrasonic frequency showed faster cleaning performance compared to agent A and other frequencies. The productivity and economic efficiency in remanufacturing of laser copy machine are expected to increase by adapting agent G and 28 kHz frequency at ultrasonic cleaning process.
Kim, Yihyang;Kim, Jungbin;Zhan, Min;Min, Dahae;Hong, Seungkwan
Membrane Journal
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v.29
no.6
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pp.339-347
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2019
Forward osmosis (FO) is operated at a lower pressure than reverse osmosis (RO), which has great advantages in terms of fouling control, maintenance, membrane cleaning, and potential energy reduction. In particular, since the membrane fouling layer of the forward osmosis process has a relatively loose and dispersed property, it is possible to control the membrane fouling by physical cleaning, unlike the reverse osmosis process. However, existing studies do not apply the proper cleaning flow rate for forward osmosis physical cleaning, and thus there is a limit that the optimal operation can not be performed. Therefore, this study aims to evaluate the justification of proper flow rate that can show high efficiency cleaning with economical energy amount. The membrane fouling experiments of the forward osmosis process were maintained at a circulating flow rate of 8.54 cm/s and the recovery rates were compared with the three cleaning flow rates. As a result of this experiment, it was confirmed that the 2 × speed cleaning showed the same efficiency as the water permeability recovery rate of the 3 × speed cleaning, and it was confirmed that the 2 × speed cleaning was an appropriate flow rate with high cleaning efficiency and economical SEC.
본 연구의 목적은 병원급식소의 세정작업의 효율적 관리를 위하여 위탁 전과 후의 비용효과를 비교하고 자가운영과 위탁운영체제의 세정담당 종업원들의 직무만족도를 비교하여 그 비용효율성을 분석하는데 있다. 본 연구의 결과에 의하면, 세정작업의 위탁관리로 다음과 같은 잇점을 기대할 수 있었다. 첫째, 호봉이 낮고 적은 수의 종업원 이용으로 인건비의 절감을 기대할 수 있었으며, 둘째, 봉급에 관한 항목을 제외한 다른 항목에 관해서는 자가운영과 위탁운영 체제의 세정담당 종업원들의 직무만족도에 유의적 차이가 없는 것으로 나타났으며, 세째, 작업일정이나 인사배치에 있어서의 용이함으로 나타났다. 이 연구 결과를 기초로 병원급식소의 위탁관리 프로그램에 관한 지속적인 평가와 개발에 관한 연구가 이루어져야 할 것이다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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