• Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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• v.14 no.4
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• pp.1-7
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• 2007

Nanoimprint lithography (NIL) is an emerging technology enabling cost-effective and high-throughput nanofabrication. To successfully imprint a nano-sized pattern, the process conditions such as temperature, pressure, and time should be appropriately selected. This starts with a clear understanding of polymer material behavior during the NIL process. In this work, the squeezing of thin polymer films into nanocavities during the thermal NIL has been investigated based upon a two-dimensional viscoelastic finite element analysis in order to understand how the process conditions affect a pattern quality. The simulations have been performed within the viscoelastic plateau region and the stress relaxation effect has been taken into account.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2010.08a
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• pp.116-116
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• 2010

진공 chamber에서 방전된 plasma 내부를 외부 view port를 통하여 확인하는 것은 극히 제한적이며 leak의 확률을 높이고 plasma의 균일한 방전을 방해한다. 이를 개선하기 위하여 내장형 무선 카메라를 chamber 내부에 위치한 후 고진공 영역에서 촬영을 시도하였으나 일반적인 CCD 카메라로는 촬영할 수 없다. 고진공 영역에서 카메라 내부온도의 급격한 상승이 원인으로 밝혀졌고 적정온도인 $45^{\circ}C$를 초과하여 최대 $96^{\circ}C$까지 4 min 이내에 상승함을 IR camera로 확인할 수 있었으며 이 때 카메라가 작동하지 않았다. 또한 카메라를 고진공 영역에서 촬영 및 녹화하기 위해서는 $46^{\circ}C$의 온도를 낮추어야 함을 진공해제 이후 내부온도가 $50^{\circ}C$로 감소하면서 내장형 무선 카메라가 다시 작동함으로 인해 알 수 있었다. 본 연구에서는 이를 해결하기 위하여 내장형 무선 카메라에 AM 변조 방식의 311 MHz RF remote controller를 장착하여 외부에서 선택적으로 ON/OFF 할 수 있도록 개조하였고 10 L chamber에서 150 L/sec TMP를 이용하여 10-6 Torr의 압력에서 성공적으로 녹화 및 촬영하였다. 또한 내장형 무선 카메라 내부의 반도체 회로 규격 및 발열량과 heat sink의 규격 (열전도도, 복사율)을 추가로 조사하였다. 분자유동 영역에서 열전달은 복사에 의한 영향이 대부분이므로 내장형 무선 카메라 내부 온도를 감소시켜 카메라의 작동 시간을 연장하기 위하여 내부 회로에 emissivity가 높고 전기전도도가 낮아 회로에 영향이 없는 박막을 회로에 증착시키는 추후의 연구가 필요하다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.08a
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• pp.170-170
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• 2011

최근 진공기술은 세계적으로 유럽, 미국 및 일본을 주축으로 개발되어 보급되고 있다. 국내에서는 초기 기술 단계인 수봉식펌프, 유회전펌프, 유확산펌프가 개발되어 있으나 일반 산업용으로만 사용되고 있으며 반도체용으로는 전혀 적용되지 못하고 있는 실정이다. 특히 고청정공간을 필요로 하는 환경인 고집적 반도체 공정 등에는 사용할 수 없다. 본 연구에서 개발하고자 하는 터보형 드라이펌프는 시스템 내에 전혀 오일을 사용하지 않고 저소음 및 고효율, 저진동, 넓은 사용압력범위 등의 이점 때문에 현재 반도체 공정용 펌프로서 크게 각광을 받고 있다. 그러나 수요가 점차 증가함에도 불구하고 아직까지 우리나라는 전량 수입에 의존하고 있다. 이에 본 연구에서는 반도체 공정에 적합한 배기속도와 압축비를 가지는 에너지 절약형의 반도체 공정용 대유량 터보형 드라이펌프를 개발하여 국산화를 도모하고자 한다. 또한 단순히 외국 제품의 복사품을 제작하는 것이 아닌 체계적인 자료 확보를 통한 설계기술의 정립과 제품개발을 목적으로 하고 있다. 향후 전 세계적으로 최고 수준의 반도체 제조기술을 보유하고 있는 국내에서 국산화 및 상용화에 성공한다면 세계의 드라이 진공펌프 시장에도 충분히 우리의 기술력을 입증할 수 있으며, 결과적으로 상용화까지 이루어지리라 기대한다.

• Proceedings of the Safety Management and Science Conference
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• 2012.04a
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• pp.639-654
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• 2012

최근 글로벌 경쟁이 치열해 지면서 가격경쟁력이 뒷받침되지 않으면 신흥 시장에 대한 대응이 어려워져 가격경쟁력의 중요성이 부각되고 있으며, 구조적인 비용 상승 추세로 기업의 원가 압력이 증대되고 있고, 이러한 변화된 경쟁 환경에서 생존하기 위해서는 전체적인 생산성 향상이 필수이다. 가격경쟁력 강화 및 원가압박을 해소하고 품질, 가격, 납기 전반에 모방할 수 없는 차별화된 경쟁력의 확보는 생산성 향상을 통해서 실현할 수 있고, 생산성 향상을 통한 경쟁력 있는 기업 육성은 우리 제조업을 발전시키는 토대(infra structure)이며, 기반 시설의 확충이다. 본 연구에서는 현재 외국의 혁신방법을 우리산업 현실에 대한 고려 없이 단순 도입으로 국내 실정에 맞지 않아 상당한 시행착오를 격고 있으며, 국내에 벤치마킹 할만한 제조혁신 방법론이 거의 없고, 벤치마킹하려고 해도 기업의 영업비밀이라 배우기도 쉽지 않은 상황에서 우리산업 현실에 맞는, 중소 중견기업의 맞춤형 생산성 혁신 지원도구로 중소기업의 자생적인 혁신을 위해 중소기업의 수준에 맞는 제조혁신 방법을 국내외 제조혁신 전문가로 컨소기엄을 구성하여 한국생산성본부에서 개발된 한국형제조혁신 방법론을 제조기업에 적용하여 성공적인 결과를 다른 기업에 적용 할 수 있도록 하는데 목적을 둔다. 연구목적을 달성하기 위해 문헌연구를 통해 일본의 TPS(Toyota Production System), 미국의 Lean 시스템 및 6시그마 시스템에 대하여 살펴보았고, 한국형 제조혁신 모델인 KPS(korea production system)를 통신장비 제조회사인 M. 사에 적용하여 실증하였으며, 그 결과 우수한 성과를 보임을 확인할 수 있었다.

• Proceedings of the Korean Society of Propulsion Engineers Conference
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• 2010.05a
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• pp.81-84
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• 2010

In this study, a coaxial swirl injector using hydrogen peroxide and kerosene was designed and combustion performance tests were performed to evaluate combustion characteristic according to mixture ratio. Spray characteristic of the injector was verified by cold flow test and combustion performances according to mixture ratio were evaluated by the characteristic exhaust velocity. Test results showed that the combustion efficiency at the design condition was about 95% and the pressure fluctuation was very small.

• Proceedings of the Korean Society of Propulsion Engineers Conference
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• 2017.05a
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• pp.325-329
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• 2017

In this study, the combustion experiment of hydrocarbon-kerosene fueled dual mode ramjet combustor was performed at mach number 3.5~6.0 conditions. Through the experiment, the temperature and the pressure distribution inside the combustion chamber were measured and the combustion characteristics inside the combustion chamber were investigated. In the mach number 3.5~5.0 range, it was able to identify subsonic combustion in the downstream combustion chamber. In the mach number 6.0 condition, the injected fuel from the injectors was naturally fired, and it was possible to confirm that supersonic combustion was successful in the upper chamber.

• Journal of Soil and Groundwater Environment
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• v.6 no.3
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• pp.43-52
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• 2001

It is important that the gas collected from wells completed in waste landfill should be continuously and stably transported to pre-treatment stage through pipelines. The transport is generally affected by fluid flow characteristics of landfill, gas reserves, leachate moisture holdup in pipeline, structures and dimensions of pipeline network, etc. This paper analyzes the pipeline transport and collection mechanism for gas generated in a durable waste landfill. From the results, the optimal controlled scheme of blower inlet pressure is proposed for the prevention of trapped gas pocket zones.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2013.08a
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• pp.214.1-214.1
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• 2013

Tetra-ethoxysilane (TEOS)은 일반적으로 저온 게이트 산화막의 원료 널리 이용되고 있으나 as-deposited 상태에서는 필수적으로 생성된 높은 계면밀도와 고정전하를 제거하기 위하여 수소계면처리, forming gas annealing 등 후처리 공정을 필수적으로 거처야만 한다. 즉 후처리 공정 없이도 일정수준의 계면밀도와 고정전하를 갖을 수 있는 출발물질이 제안되면 산업적 의미를 갖을 것이다. 본 연구에서는 TEOS를 대체할 수 있는 후보재료로써 Tetra-iso-propoxysilane (T-iso-POS)을 제안하였다. T-iso-POS는 iso 구조의 3차원적 특수 구조를 가지므로 더 쉽게 분해 될 수 있어 탄소의 결합을 억제 할 수 있다고 사료된다. 용량 결합형 PECVD (13.56 MHz) 장비를 이용하여 RCA 세정을 실시 한 p-Si (100) 기판위에 TEOS 혹은 T-iso-POS (2 sccm)와 O2를 도입(50 sccm), 플라즈마 전원(20~100 W), 압력(0.1~0.5 torr), 온도 ($170{\sim}400^{\circ}C$), 전극 간 거리 (1~4.5cm)의 조건 하에서 증착하였다. 얻어진 각각의 SiO2 막에 대해, 성장 속도, 2% BHF 용액보다 에칭 속도, IV 특성과 C-V 특성, FT-IR에 의해 화학구조 평가를 실시했다. T-iso-POS원료로 사용하여 TEOS보다 낮은 약 $200^{\circ}C$에서 증착 된 산화막에서 후 처리 없이도 10 MV/cm 이상의 절연 파괴 특성을 나타내는 우수한 게이트 절연막 제작에 성공했다. 그 성장 속도도 약 20 nm/min로 높았다.

• Korean Journal of Materials Research
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• v.6 no.11
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• pp.1113-1120
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• 1996

다이아몬드 박막을 이용한 반도체소자를 실현시키기 위해서는 다이아몬드가 아닌 다른 재료의 기판위에 대면적에 걸쳐 다이아몬드막을 에피텍셜 성장시키는 것이 필수적이다. 그러나 이 분야의 연구는 아직 초보상태로 그 목표가 실현되지 못하고 있다. 본 논문에서는 저압의 ECR 마이크로파 플라즈마 CVD에 의하여 대면적의 Si(100)기판상에 방향성을 갖는 다이아몬드막을 성공적으로 성장시킨 결과를 보고자한다. 지금까지 얻어진 최적 핵생성 공정조건은 다음과 같다 : 반응압력 10Pa, 기판온도 80$0^{\circ}C$(마이크로파 전력이 3kW일 때), 원료가스 CH4/He 계로 농도비 3%/97%, 가스총유량 100sccm, 바이어스 전압 + 30V, 마이크로파 전력(microwave power)4kW, 바이어스 처리 시간 10분간이며, 성장단계에서의 증착공정 조건은 기판온도 80$0^{\circ}C$, 원료가스 CH4/CO2/H2계로 농도비 5%/15%/85%, 가스 총유량 1000sccm, 바이어스 전압 +30V, 마이크로파 전력 5kW, 성막시간 2시간으로 일정하게 유지하였다. 이 조건하에서 기판 면적 3x4$\textrm{cm}^2$의 대면적에 대해서 약 2x109cm-2의핵생성 밀도를 균일하게 재현성있게 얻었다. 원료가스로 CH4/H2를 사용한 경우보다 CH4/H2를 사용할 경우에 라디칼밀도의 증가에 의하여 더 높은 핵생성밀도를 얻을 수 있었다. 또한 저압의 ECR플라즈마 CVD의 경우에는 양의 바이어스전압이 막의 손상이 없어 다이아몬드 핵생성에 더 적합하였다.

• Journal of the Society of Naval Architects of Korea
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• v.31 no.1
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• pp.63-70
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• 1994

The three-dimensional incompressible clavier-Stokes equations are solved to simulate the flow field around a Wigley model with free-surface. The IAF(Implicit Approximate Factorization) method is used to show a good success in reducing the computing time. The CPU time is almost an half of that if the IAF method were used. The present method adopts the local linearization and Euler implicit scheme without the pressure-gradient terms for the artificial viscosity. Calculations are carried out at the Reynolds number of $10^6$ and the Froude numbers are 0.25, 0.289 and 0.316. For the approximations of turbulence, the Baldwin-Lomax model is used. The resulting free-surface wave configurations and the velocity vectors are compared with those by the explicit method and experiments.