• Proceedings of the KIEE Conference
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• 2005.07a
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• pp.899-901
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• 2005

EMTP 프로그램으로 뇌써지 발생시 가공송전선로 등가모델 구현을 위한 필수적인 요소들과 비선형 요소들을 시간영역에서 해석이 가능하다. 따라서 이번 연구에서는 EMTP를 이용하여 전력전송이 이루어지는 가공 송전 선로 등가모델을 구현하고 전송선로의 길이와 굵기, 뇌격전류의 크기를 변화시켜가면서 시뮬레이션을 통해 자료를 얻는다. 이 과정으로 얻어진 결과는 송전계통의 설계에 사용되어 안정적인 전력 전송에 적용될 수 있을 것이다.

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 2005.07d
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• pp.3111-3113
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• 2005

EMTP 프로그램으로 뇌써지 발생시 가공송전선로 등가모델 구현을 위한 필수적인 요소들과 비선형 요소들을 시간영역에서 해석이 가능하다. 따라서 이번 연구에서는 EMTP를 이용하여 전력전송이 이루어지는 가공 송전 선로 등가모델을 구현하고 전송선로의 길이와 굵기, 뇌격전류의 크기를 변화시켜가면서 시뮬레이션을 통해 자료를 얻는다. 이 과정으로 얻어진 결과는 송전계통의 설계에 사용되어 안정적인 전력 전송에 적용될 수 있을 것이다.

• Annual Conference on Human and Language Technology
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• 1993.10a
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• pp.173-184
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• 1993

폰트관련기술은 폰트의 개발에 사용되는 폰트개발기술과 개발된 폰트의 효율적인 이용에 관한 폰트처리기술로 구분된다. 본 논문에서는 폰트개발기술의 대표적인 예인 서체설계지원시스템 특히 한글폰트의 개발을 쉽고 빠르게 할 수 있는 시스템의 개발에 대하여 논한다. 지금까지의 폰트개발은 서체전문가의 원도제작과정과 제작된 원도를 폰트화하는 과정으로 진행되었으나 본 시스템은 서체전문가가 직접 컴퓨터의 지원을 받아 원도를 제작하며 원도제작과정의 결과로 폰트가 만들어지도록 폰트개발과정을 일원화하도록 하였다. 이를 위하여 서체설계과정을 정의하고, 정의된 서체설계과정을 컴퓨터상에서 구현하기 위한 기법을 개발하였다. 본고에서는 참조설계로 표현되는 서체설계지원시스템의 개발을 위하여 고안된 기법중 글자의 중심선과 굵기로 윤곽선을 자동생성하는 기법과 글자의 특징을 이루는 돌기를 라이브러리화하여 운영하는 기법에 대하여 논하기로 한다. 시스템 개발은 PC상에서 VGA그래픽카드와 mouse를 사용하여 구현하였다.

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 2005.07c
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• pp.2459-2461
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• 2005

EMTP 프로그램으로 뇌써지 발생시 가공송전선로 등가모델 구현을 위한 필수적인 요소들과 비선형 요소들을 시간영역에서 해석이 가능하다. 따라서 이번 연구에서는 EMTP를 이용하여 전력전송이 이루어지는 가공 송전 선로 등가모델을 구현하고 전송선로의 길이와 굵기, 뇌격전류의 크기를 변화시켜가면서 시뮬레이션을 통해 자료를 얻는다. 이 과정으로 얻어진 결과는 송전계통의 설계에 사용되어 안정적인 전력 전송에 적용될 수 있을 것이다.

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 1996.07b
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• pp.875-877
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• 1996

The KEPCO needs the review of the practice on the size of grounding wire, because the KEPCO has been experienced the melting failure of grounding wire many times. This paper proposes the appropriate standard and calculation conditions on the size of grounding wire for the cable system of transmission voltage class.

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 2005.07b
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• pp.1817-1819
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• 2005

EMTP 프로그램으로 뇌써지 발생시 가공송전선로 등가모델 구현을 위한 필수적인 요소들과 비선형 요소들을 시간영역에서 해석이 가능하다. 따라서 이번 연구에서는 EMTP를 이용하여 전력전송이 이루어지는 가공 송전 선로 등가모델을 구현하고 전송선로의 길이와 굵기, 뇌격전류의 크기를 변화시켜가면서 시뮬레이션을 통해 자료를 얻는다. 이 과정으로 얻어진 결과는 송전계통의 설계에 사용되어 안정적인 전력 전송에 적용될 수 있을 것이다.

• Journal of the Korean Society of Surveying, Geodesy, Photogrammetry and Cartography
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• v.28 no.5
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• pp.539-546
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• 2010

A program which can produce military standard raster maps was developed. This includes the functions that classify the types of geospatial data, publish automatically based on paper map schema, and convert products with military standard raster formats. Especially, this paper presents the automatic map-publishing technique with mathematical modeling and controling the line width, color, shape that ever not used.

• Proceedings of the KAIS Fall Conference
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• 2007.11a
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• pp.63-66
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• 2007

본 논문에서는 주변에서 쉽게 구할 수 있는 재료를 이용해 만든 인덕터와 커패시터를 사용해 윌킨슨 전력 분배기를 설계/제작하였다. 일반적으로 전력 분배기는 $\lambda/4$ 전송선로를 이용하기 때문에 인덕터와 커패시터를 사용할 수 있도록 전송선로를 집중소자로 변환해야 한다. 전송선로를 집중소자로 변환하기 위해 한 개의 직렬 인덕터와 두 개의 병렬 커패시터로 등가화하였다. 인덕터는 솔레노이드 형태로 선의 굵기와 솔레노이드의 반지름, 감은수에 변화를 주며 제작하였고, 커패시터는 평행판 커패시터 형태로 넓이에 변화를 주어 제작하였다. 구현된 전력 분배기는 설계 주파수에서 각각의 출력 포트에 -3.30dB, -3.31dB로 전력이 균등분배 되는 특성을 보였고, 반사손실은 -42.36dB, 출력 포트 간의 격리도는 -31.54dB로 설계 조건을 만족하였다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2000.02a
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• pp.90-90
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• 2000

이온빔을 이용한 리소그래피의 경우 미크론 이하의 미세구조를 형성할 수 있는 유용한 수단으로서 방사광 X-선과 함께 주목을 받고 있으며, 이와 같은 미세구조 제작은 MEMS (Micro Electro-Mechanical System) 개발에 있어서 매우 중요하다. 그러나 이온빔을 이용한 리소그래피에 대한 연구가 많이 이루어져 있지 않은 상태이다. MeV급 양정사 빔을 이용한 리소그래피의 가능성을 확인하기 위하여 기본적인 실험을 수행하였으며, 최적 이온빔 조사 조건 및 최적 현상 조건을 도출하였다. Resist로는 PMMA를 사용하였으며, 1.8 MeV 양성자 빔을 사용하여 50$\mu\textrm{m}$ 깊이의 구조물을 만들었다. 1.8MeV 양성자 빔의 조사선량이 7x1013ions/cm2 이상이 되면 PMMA 내부에 기포가 형성되므로 적정 조사선량을 4x1013 ions/cm2으로 결정하였다. 또한 선량을 4x1013ions/cm2 으로 고정하고 선량률을 변화시켜주면 선량률이 8x1011ions/cm2S 일 때부터 시료에 기포나 터짐 현상 등의 문제가 발생하였으며 5x1010~~1x1010ions/cm2s 의 선량률이 조사시간, 결함측면에서 가장 적합한 영역임을 알 수 있었다. 현상제로는 20% morpholine, 5% etanolamine 60% diethylenglykol-monobutylether, 15% 증류수를 혼합하여 사용하였다. 현상 온도를 30~5$0^{\circ}C$로 변화시켜서 현상을 한 결과, 4$0^{\circ}C$에서 현상 소요시간은 1시간 이내이며 SEM으로 관찰된 표면의 상태도 제일 양호한 결과를 보였다. 82 mesh 밀도, 선굵기 60$\mu\textrm{m}$, 크기 20x20 mm인 백금 망을 마스크로 사용하여 실제 3차원 미세구조를 제작하여 보았다. 그림 1에서 제작된 구조물의 SEM 사진을 보여주었으며, 식각된 면의 조도가 매우 뛰어나며 모서리의 직각성도 우수함을 확인할 수 있다. 이와 같이 도출된 시험 조건을 기초로 하여 리소그래피 후에 전기 도금을 이용한 금속 몰드 제작 및 이온빔 리소그래피 장점을 최대한 살릴수 있는 미세구조 제작에 대한 연구를 계속 추진할 계획이다.

• 한국HCI학회:학술대회논문집
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• 2006.02a
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• pp.807-811
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• 2006

본 논문에서는 기존의 연구에서 여러 단계를 거쳐 복잡한 연산을 한 후에 수묵화 표현이 가능했던 것과 달리 기존에 요구되었던 채색과정을 줄임으로써 렌더링의 효율을 높인 실시간 3차원 수묵화 기법을 제안한다. 본 논문에서 제안된 기법은 모델이 보여지는 방향에 따라 다른 조명 값과 법선 벡터 값을 계산한 후 연산 값에 따라서 여러장의 텍스처를 일정 비율에 맞춰서 모델에 적용함으로써 수묵화의 특징인 농담, 발묵 효과를 한 번에 적용할 수 있게 한다. 그리고 모델의 윤곽선을 표현하는데 사용자의 입력에 따라 붓의 굵기를 조절하게 하여 보다 사실적인 수묵화 느낌을 살렸다. 또한 텍스처 매핑 이후 에도 동양화적인 느낌을 살리기 위해서 두 가지의 종이질감효과를 추가하였다. 이 2 가지의 종이질감 효과는 일종의 안개 필터로서 기존의 안개 필터와 달리 모델이 그려지는 위치에 따라서 각각 가중치가 다른 필터가 적용되게 하였다. 이렇게 필터가 적용된 렌더링의 결과는 일반적으로 채색된 3차원 모델과 느낌이 다른 자연스러운 결과를 생성할 수 있다. 본 연구는 또한 간단한 구현에 장점을 두고 있기 때문에 간단한 애니메이션이나 일반 3차원 게임 등 여러 분야에서 기존에 적용하기 어려웠던 수묵화 기법을 다양하게 활용할 수 있는 가능성을 제시한다.