반응성 스퍼터링 조건에 따른$ Al_2O_3$ 박막의 유전특성 및 누설전류 특성
(Dielectric and Leakage Current Characteristics of $ Al_2O_3$ Thin Films with Variation of the Reactive Sputtering Condition)
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- 한국재료학회:학술대회논문집
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- 한국재료학회 2000년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
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- pp.156-156
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- 2000