• Title/Summary/Keyword: 단층코팅

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Fabrication and characteristics for the organic light emitting device from single layer poly(N-vinylcarbazole) (단층 poly(N-vinylcarbazole) 유기물 전기발광 소자의 제작 및 특성)

  • 윤석범;오환술
    • Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics D
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    • v.35D no.11
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    • pp.55-61
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    • 1998
  • Organic light emitting devices from a single layer thin film with a hole transport polymer, poly(N-vinylcarbazole) (PVK) doped with 2-(4-bi phenyl)-5-(4-t-butyl-phenyl) -1,3,4-oxadiazole (Bu-PBD) as electron transporting molecules and Coumurine 6(C6), 1,1,4,4-tetraphenyl-1,3-butadiene (TPB), Rhodamine B as a emitter dye were fabricated. The sing1e layer structure and the use of soluble materials simplify the fabrication of devices by spin coating technique. The active layer consists of one polymer layer that is simply sandwiched between two electrodes, indium-tin oxide (ITO), and aluminum. In this structure, electron and hole inject from the electrodes to the PVK : Bu-PBD active layer. Respectively, Blue, green and orange colored emission spectrum by the use of TPB, C6, Rhodamine B dye emitted at 481nm, 500nm and 585nm were achieved during applied voltages. PVK materials can be useful as the host polymer to be molecularly doped with other organic dyes of the different luminescence colors. And EL color can be tuned to the full visible wavelength.

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스퍼터링 소스를 이용하여 빗각 증착되어진 TiN 박막의 형상 및 특성 연구

  • Song, Min-A;Yang, Ji-Hun;Jeong, Jae-Hun;Kim, Seong-Hwan;Jeong, Jae-In
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2016.02a
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    • pp.165.2-165.2
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    • 2016
  • 빗각 증착이란 입사 증기가 기판에 수직하게 입사하는 일반적인 공정과는 다르게 증기가 기판의 수직선과 $0^{\circ}$이상의 각을 갖는 증착 방법을 의미한다. 본 연구는 공정 압력이 비교적 높은 스퍼터링 공정에서 빗각 증착을 실시하여 코팅층의 구조제어가 가능한지를 확인하였다. 본 연구에서는 조직의 치밀도 향상을 통한 특성 향상을 위해 TiN 박막을 제조함에 있어서 빗각 증착 기술을 응용하여 단층 및 다층 피막을 제조하고 그 특성을 비교하였다. 스퍼터 소스에 장착된 타겟의 크기는 6"이며, 99.5% Ti 타겟을 사용하였고, Ar 가스 분위기에서 기판으로 사용된 Si(100) 위에 코팅하였다. 기판과 타겟 간의 거리는 10 cm이며, 기판은 알코올과 아세톤으로 초음파 세척을 실시한 후 진공챔버에 장착하고 < $2.0{\times}10-5Torr$ 까지 진공배기를 실시하였다. 진공챔버가 기본 압력까지 배기되면 Ar 가스를 주입한 후 RF 파워에 약 300V의 전압을 인가하여 글로우 방전을 발생시키고 약 30분간 청정을 실시하였다. 기판의 청정이 끝난 후 다시 < $2.0{\times}10-5Torr$까지 진공배기를 한 후 Ar 가스를 주입하여 TiN 코팅을 실시하였다. 빗각 증착을 위한 기판의 회전각은 $70^{\circ}$, $80^{\circ}$$-70^{\circ}$, $-80^{\circ}$이며, TiN 박막의 총 두께는 약 $3.5{\sim}4{\mu}m$로 유지하였다. 스퍼터링을 이용한 TiN 박막의 빗각 증착 코팅을 실시하였으며, 공정조건에 따라 주상정이 자라는 모습과 기울어진 각도가 다른 구조를 갖는 박막이 제조되는 것을 확인할 수 있었다. 빗각증착을 실시하는 중에 기판 홀더에 약 -100 V의 전압을 인가하면 인가하지 않은 막에 비해 치밀한 박막이 성장한다는 사실을 확인하였다. 박막의 성능향상을 위하여 스퍼터 시스템에서 빗각 증착을 이용한 TiN 박막 형성을 실시하였다. SEM 단면 이미지에서 확인해본 결과 주상정이 자라는 형상이 공정 압력이 5 mTorr에서 2 mTorr로 낮아짐에 따라 상대적으로 치밀하면서 일정한 형태로 성장하는 것을 확인하였다. 본 연구를 통해 스퍼터링을 이용한 빗각 증착의 Structure Engineering 이 가능함을 확인하였으며 박막의 성능을 향상시키는 기술로서 응용 가능할 것으로 보인다.

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The Study on the Graded Index Antireflection(AR) Coating (구배형 굴절률 반사방지막 연구)

  • Kim, Chang-Bong
    • Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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    • v.18 no.5
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    • pp.565-570
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    • 2017
  • The various techniques proposed previously to obtain a good antireflection(AR) coating induce a scattering of incident light by nanoparticles or control the refractive index by using different materials. This paper compares a suggested graded index profile with the quintic index profile previously suggested for producing an index profile that gives good performance from an AR coating. We assume the structure of the AR coating has three, six, and nine layers with 180 nm total thickness. The wavelength of incident light ranges from 300 nm to 1100 nm. We use the transfer matrix theory for a single layer to obtain the reflectivity of three, six, and nine layers. The reflectivity of two different index profiles with three, six, and nine layers is compared. As a result, the suggested graded index profile shows lower reflectivity than the quintic index profile with three layers, especially in the wavelength range from about 600 nm to 1100 nm. Therefore, we expect that these results can be applied to optical devices and filters in the range from visible(red) to near infrared.

단일 이온 빔 증착법을 이용한 $MgF_2$$ZrO_2$ 박막의 제조

  • 강종석;강성건;김홍락;김동수;김광일
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 1999.07a
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    • pp.150-150
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    • 1999
  • 재료의 광학적 특성을 변화시키기 위한 표면 코팅의 사용을 잘 알려져 있다. 그리고 이러한 광학 코팅은 우리가 주위에서 볼 수 있는 렌즈에서부터 레이저반사경 다 나아가 다양한 광학 필터에 이르기까지 빛의 간섭을 이용한 광학 박막의 코팅은 폭넓게 이용되고 있다. 그러한 응용가운데 불필요한 표면 반사를 방지함으로써 전체 투과율을 강화시키기 위한 무반사(Anti-Reflection) 코팅은 오늘날 광대역 무반사 특성 등 다양한 광학적 요구에 따라 하나 또는 그 이상의 층을 형성함으로써 극적으로 성취할 수 있다. 본 실험은 기존 많이 활용되는 증발법 그리고 스퍼터링 방법과는 달리 고진공하에서 증착 변수를 효과적으로 제어, 박막을 형성할 수 있는 자체 제작된 단일 IBS(Ion Beam Sputtering) 시스템을 이용하여 우수한 광학적 특성을 갖는 광학 재료로써 무반사용 다층박막 형성하기 앞서 MgF2, ZrO2 (yttria stabilized zirconia) 단층 박막을 제조하였으며, 각 증착 변수에 따른 결정학적 및 광학적 특성을 관찰하였다. 본 실험에 사용된 제조 장비로 Kaufman type 2.5inch의 이온 건이 장착된 Ion Beam sputtering 시스템으로 초기 진공도는 5$\times$10-6orr이며, 이온 빔의 전류 밀도는 Fareday cup을 이용했다. 6inch 크기의 ZrO2(yttria stabilized zirconia), MgF2 타겟트를 이용하여 Si(100), glass 기판위에 박막을 성장시켰다. 각 타겟트에 대한 증착변수로 이온 에너지, 기판온도, Ar 가스량을 변화시키면서 박막을 제조하였다. 제조된 박막의 광학적 특성으로 가시 영역에서 투과율의 변화는 자외/가시광선 분광 분석기 (UV/VIS specrophotometer)를 이용하여 측정했다. 그리고 박막의 조성 및 결정학적 구조는 AES EDS와 XRD로 확인하였다. 이온 빔 전압 500V, 빔 저류 55mA일 때 온도는 상온에서 30$0^{\circ}C$까지 승온 후 MgF2 박막의 XRD분석결과 우세한 결정성을 관찰할 수 없었으며, 이 때의 광 투과도는 가시영역에서 80~90%의 값으로 측정되었다. 추후 증착된 막의 결정성을 위해 열처리를 실시하고, 각 증착조건에 대한 결과는 학회 발표시 보고한다.

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산화아연-다층 그래핀 양자점을 이용한 전기화학셀

  • Sim, Jae-Ho;Lee, Gyu-Seung;Go, Yo-Han;Yang, Hui-Yeon;Son, Dong-Ik
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2016.02a
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    • pp.321-321
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    • 2016
  • 한경오염의 증가에 따라 광촉매 물질을 이용한 환경 정화의 필요성이 대두되고 있다 [1]. 광촉매와 전기화학셀은 빛을 이용하여 다른 에너지를 생산하는 능력을 가지고 있다. 이 전기화학셀의 성능향상을 위해서는 적절한 밴드갭을 이용한 광흡수의 증가, 전자재결합의 감소, 전기화학적 반응 표면의 증가가 필요하다. 산화 아연은 잘 알려진 n형 산화물 반도체로서 좋은 전기적 특성과 광촉매 성능으로 전기화학셀에 적합한 소재이다. 그러나 산화 아연은 액체 전해물질 상에서 안정성이 좋지 못하다 [2]. 이를 해결하기 위해 단층 그래핀 혹은 풀러렌(C60)을 이용하여 산화아연을 코팅하는 방법을 제안하였는데, 풀러렌을 사용 시 단층 그래핀에 비하여 전기화학셀의 전기화학적 반응은 높았으나 안정성은 더 떨어지는 모습을 보였다 [3]. 본 연구에서는 다층 그래핀을 이용하여 전기화학적 반응도 높고 안정성도 높은 산화아연-다층 그래핀 양자점의 합성 및 이를 이용한 전기화학셀 소자의 특성을 연구하였다. X선 회절법, 라만 분광법, 투과 전자 현미경, 광발광 분광기, 시간-분해성 광발광 분광기를 이용하여 산화아연-다층 그래핀 양자점의 특성을 분석하였고, 이를 이용하여 광양극을 제작하여 전기화학적 특성을 관측하였으며 로다민 B 염료를 이용한 분해 테스트를 통하여 광촉매 성능을 확인하였고 사이클 테스트를 통하여 안정성을 확인하였다.

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Principle of Oblique Angle Deposition and Its Application to Hard Coatings (빗각 증착 기술의 원리와 경질피막에의 응용)

  • Jeong, Jae-In;Yang, Ji-Hun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2018.06a
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    • pp.133-133
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    • 2018
  • 증착(Vapor Deposition)이란 어떤 물질을 증기화 시켜 기판에 응축시키는 공정을 말하며 물리증착(Physical Vapor Deposition; PVD)과 화학증착(Chemical Vapor Deposition)으로 대별된다. 빗각 증착 (Oblique Angle Deposition; OAD) 기술은 입사 증기가 기판에 비스듬히 입사하도록 조절하여 코팅하는 물리증착 기술의 하나로 피막의 조직을 다양하게 제어할 수 있으며 따라서 피막의 특성 제어가 가능한 기술이다. 지금까지 빗각증착은 증기의 산란이 발생하지 않는 $10^{-5}$ 토르 이하의 고진공에서 이루어져 왔다. 본 연구에서는 플라즈마를 이용한 스퍼터링과 음극 아크 증착을 이용하여 질화티타늄(TiN; Titanium Nitride) 박막을 제조하고 그 특성을 평가하였다. TiN 박막은 내마모성 향상 및 장식용 코팅에 널리 이용되고 있다. 박막 제조시 특히 바이어스 전압을 박막 조직의 기울기를 제어하는 수단으로 이용하였고 빗각과 바이어스 전압을 이용하여 다층박막의 조직제어에 활용하였다. 박막의 미세구조와 방위, 경도를 SEM, XRD, Nano Indenter를 이용하여 측정하였고 반사율 및 박막의 조도는 Spectrophotometer와 조도 측정기를 이용하여 측정하였다. 기울어진 조직 및 V형태의 조직이 단층 및 다층의 피막에서 명확하게 관찰됨을 확인하였고 특히 마지막 층 제조시 바이어스 전압을 인가할 경우 탄성계수는 크게 변하지 않는 상황에서 경도가 증가함을 확인하였다.

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The design of a single layer antireflection coating on the facet of buried channel waveguide devices using the angular spectrum method and field profiles obtained by the variational method (Variational 방법으로 구한 필드 분포와 Angular Spectrum 방법을 사용한 Buried채널 도파로 소자 단면의 단층 무반사 코팅 설계)

  • 김상택;김형주;김부균
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.13 no.1
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    • pp.51-57
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    • 2002
  • We have calculated the optimum refractive index and normalized thickness of a single layer antireflection coating on the facet of buried channel waveguides as a function of waveguide width for several waveguide depths using the angular spectrum method and field profiles obtained by the effective index method (EIM) and the variational method (VM), respectively, and discussed the results. In the area of large waveguide width, the optimum parameters of a single layer antireflection coating obtained by both methods are almost the same. However, as waveguide width decreases, the parameters obtained by the VM approach those of a single layer antireflection coating between cladding layer and air, while those obtained by the EIM do not approach those, and the difference between the two parameters is large. The tolerance maps of the quasi-TE and quasi-TM modes obtained by the VM for square waveguides are located in almost the same area regardless of refractive index contrast, while those obtained by the free space radiation mode (FSRM) method for refractive index contrast of 10% are located in the different area. Thus, we think that the tolerance maps obtained by the VM are more exact than those obtained by the FSRM method.

Ex vivo Morphometric Analysis of Coronary Stent using Micro-Computed Tomography (미세단층촬영기법을 이용한 관상동맥 스텐트의 동물 모델 분석)

  • Bae, In-Ho;Koh, Jeong-Tae;Lim, Kyung-Seob;Park, Dae-Sung;Kim, Jong-Min;Jeong, Myung-Ho
    • Journal of the Korean Society of Radiology
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    • v.6 no.2
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    • pp.93-98
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    • 2012
  • Micro-computed tomography (microCT) is an important tool for preclinical vascular imaging, with micron-level resolution. This non-destructive means of imaging allows for rapid collection of 2D and 3D reconstructions to visualize specimens prior to destructive analysis such as pathological analysis. Objectives. The aim of this study was to suggest a method for ex vivo, postmortem examination of stented arterial segments with microCT. And ex vivo evaluation of stents such as bare metal or drug eluting stents on in-stent restenosis (ISR) in rabbit model was performed. The bare metal stent (BMS) and drug eluting stent (DES, paclitaxel) were implanted in the left or right iliac arteries alternatively in eight New Zealand white rabbits. After 4 weeks of post-implantation, the part of iliac arteries surrounding the stent were removed carefully and processed for microCT. Prior to microCT analysis, a contrast medium was loaded to lumen of stents. All samples were subjected to an X-ray source operating at 50 kV and 200 ${\mu}A$ by using a 3D isotropic resolution. The region of interest was traced and measured by CTAN analytical software. Objects being exposed to radiation had different Hounsfield unit each other with values of approximately 1.2 at stent area, 0.12 ~ 0.17 at a contrast medium and 0 ~ 0.06 at outer area of stent. Based on above, further analyses were performed. As a result, the difference of lengths and volumes between expanded stents, which may relate to injury score in pathological analysis, was not different significantly. Moreover, ISR area of BMS was 1.6 times higher than that of DES, indicating that paclitaxel has inhibitory effect on cell proliferation and prevent infiltration of restenosis into lumen of stent. And ISR area of BMS was higher ($1.52{\pm}0.48mm^2$) than that of DES ($0.94{\pm}0.42mm^2$), indicating that paclitaxel has inhibitory effect on cell proliferation and prevent infiltration of restenosis into lumen of stent. Though it was not statistically significant, it showed that the extent of neointema of mid-region of stents was relatively higher than that of anterior and posterior region in parts of BMS as showing cross-sectional 2-D image. suggest that microCT can be utilized as an accessorial tool for pathological analysis.

Performance Evaluation of Ti-Al-N coated Endmill by Arc ton Plating (아크이온플레이팅에 의한 Ti-Al-N코팅 엔드밀의 성능평가)

  • 이상용;강명창;김정석;김광호
    • Proceedings of the Korean Society of Machine Tool Engineers Conference
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    • 2002.04a
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    • pp.251-254
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    • 2002
  • The technique of high speed machining is widely studied in machining field. In this study, TiAIN single-layered and TiAIN/TiN double-layered coatings were applied to end-mill by an arc ion plating technique. Their performances were comparatively studied about cutting force, tool wear, tool life and surface roughness of workpiece under high speed cutting conditions. The TiAIN single-layer coated tool showed higher wear-resistance due to its higher hardness, while the TiAIN/TiN double-layer coated tool showed better performance for high metal removal, i.e., high fled per tooth condition due to its higher toughness. The surface roughness of the workpiece was not influenced by the wear amount of coated tools.

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Properties of TiN films prepared by oblique angle deposition using various sputtering conditions (빗각 증착법을 이용한 스퍼터링 공정조건에 따른 TiN 박막의 빗각형상 및 특성 연구)

  • Song, Min-A;Yang, Ji-Hun;Jeong, Jae-Hun;Kim, Seong-Hwan;Jeong, Jae-In
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2014.11a
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    • pp.23-23
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    • 2014
  • 빗각 증착은 입사 증기가 기판에 수직하게 입사하는 일반적인 공정과는 다르게 증기가 기판의 수직선과 $0^{\circ}$이상의 각을 갖는 증착 방법을 의미한다. 본 연구는 공정 압력이 비교적 높은 스퍼터링 공정에서 빗각 증착을 실시하여 코팅층의 구조제어가 가능한지를 확인하였다. 본 연구에서는 조직의 치밀도 향상을 통한 특성 향상을 위해 TiN 박막을 제조함에 있어서 빗각 증착 기술을 응용하여 단층 및 다층 피막을 제조하고 그 특성을 비교하였다.

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