Properties of TiN films prepared by oblique angle deposition using various sputtering conditions

빗각 증착법을 이용한 스퍼터링 공정조건에 따른 TiN 박막의 빗각형상 및 특성 연구

  • 송민아 (포항산업과학연구원 융합소재연구본부) ;
  • 양지훈 (포항산업과학연구원 융합소재연구본부) ;
  • 정재훈 (포항산업과학연구원 융합소재연구본부) ;
  • 김성환 (포항산업과학연구원 융합소재연구본부) ;
  • 정재인 (포항산업과학연구원 융합소재연구본부)
  • Published : 2014.11.20

Abstract

빗각 증착은 입사 증기가 기판에 수직하게 입사하는 일반적인 공정과는 다르게 증기가 기판의 수직선과 $0^{\circ}$이상의 각을 갖는 증착 방법을 의미한다. 본 연구는 공정 압력이 비교적 높은 스퍼터링 공정에서 빗각 증착을 실시하여 코팅층의 구조제어가 가능한지를 확인하였다. 본 연구에서는 조직의 치밀도 향상을 통한 특성 향상을 위해 TiN 박막을 제조함에 있어서 빗각 증착 기술을 응용하여 단층 및 다층 피막을 제조하고 그 특성을 비교하였다.

Keywords