• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.20 no.3
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• pp.175-181
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• 2009

Holographic lithography is one of the potential technologies for next generation lithography which can print large areas (6") as well as very fine patterns ($0.35{\mu}m$). Usually, photolithography has been developed with two target purposes. One was for LCD applications which require large areas (over 6") and micro pattern (over $1.5{\mu}m$) exposure. The other was for semiconductor applications which require small areas (1.5") and nano pattern (under $0.2{\mu}m$) exposure. However, holographic lithography can print fine patterns from $0.35{\mu}m$ to $1.5{\mu}m$ keeping the exposure area inside 6". This is one of the great advantages in order to realize high speed fine pattern photolithography. How? It is because holographic lithography is taking holographic optics instead of projection optics. A hologram mask is the key component of holographic optics, which can perform the same function as projection optics. In this paper, Surface-Relief TIR Hologram Mask technology is introduced, and enables more robust hologram masks than those previously reported that were formed in photopolymer recording materials. We describe the important parameters in the fabrication process and their optimization, and we evaluate the patterns printed from the surface-relief TIR hologram masks.

• Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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• v.44 no.2
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• pp.46-54
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• 2007

We have fabricated and characterized MMI (Multimode Interference) coupled ring resonator with the total internal reflection mirrors and the semiconductor optical amplifier for the integration of the WDM (Wavelength Division Multiplexing) system. The TIR (Total Internal Reflection) mirrors were fabricated by self-aligned process and had losses of about 0.71 dB per mirror. Coupling in and out of a resonator was achieved using the extremely small MMI couplers. The MMI length and width used in the experiment were $119{\mu}m$ and $9{\mu}m$, respectively. The resulting FSR (Free Spectral Range) and on-off ratio were approximately 1.333 nm (162 GHz) and 13 dB, respectively.

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.31 no.6
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• pp.321-327
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• 2020

We investigated the light reflection from thin films coated on substrates. Using a prism with a high refractive index as the incident medium, the phenomena of the total internal reflection (TIR) of the prism/film/substrate system and the light coupling into the optical waveguide formed by the air/film/substrate system were comprehensively studied and compared. If the refractive index of the thin film is greater than that of the substrate, within the TIR region of the substrate, sharp reflection minima occur at specific angles where the waveguide modes are excited, that can be used to accurately measure the refractive index and thickness of a thin film. On the other hand, if the refractive index of the thin film is smaller than that of the substrate, such waveguide modes do not exist. In this case, although not so distinct as a bulk medium, the TIR effect of the thin film is still observable, accompanied by an interference pattern. In this study we analyzed the overall reflection phenomena occurring from prism/film/substrate structures, to investigate the possibility of measuring the refractive index of a thin film in both cases.

• Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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• v.44 no.11
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• pp.26-35
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• 2007

We characterized the properties of the fabricated filter with the total internal reflection mirror (TIR) in the rectangular ring resonator and very small multimode interference (MMI) couplers on an InP material platform for photonic integrated circuits. Coupling power in and out of a resonator is increased by using an optimum MMI length of 110 ${\mu}m$ and a width of 9 ${\mu}m$, respectively. The semiconductor optical amplifier with the length of 120 ${\mu}m$ is integrated in the resonator to compensate the loss of the internal waveguide and the TIR mirror. A free spectral range of approximately 2 nm (244 GHz) is observed with an on-off ratio of 13 dB. The curve fitting also yields the power coupled per pass as 42%. To reach critical coupling at this coupling level would require a round trip loss of about 2.4 dB.

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2013.05a
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• pp.497-498
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• 2013

• Korean Journal of Optics and Photonics
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• v.6 no.3
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• pp.239-244
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• 1995

내부 전반사 홀로그램을 이용하여 마스크의 미세 패턴을 기록, 재생 결상하였다. 직각 프리즘과 쐐기 살 다발 가르개, 반사경을 이용하여 광학계를 구성하였으며 TIR 홀로그램의 특성을 조사하였다. 본 실험에서는 5mW의 출력과 633nm의 파장을 가진 He-Ne 레이저를 이용하여 Agfa 8E75 홀로그램 건판에 TIR 홀로그램을 기록하고 기준파의 복소 공액파인 재생파로써 홀로그램을 재생하였다. 홀로그램 건판과 마스크와의 간격을 $200\mu$m로 유지했을 때 약 $3\mu$m의 분해능을 가진 재생상을 얻었으며 $70\mu$W의 기록 광으로써 홀로그램을 기록하여 0.45%의 에돌이 효율을 얻었다. 본 실험을 통하여 렌즈를 쓰지 않는 TIR 홀로그래피의 평판 표시 소자 리소그라피 기술에 응용 가능성을 알아 보았다.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2007.07a
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• pp.181-182
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• 2007

• Review of KIISC
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• v.20 no.6
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• pp.73-87
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• 2010

정신한은행은 '10년 1 월부터 6월까지 약 6개월 동안 "위험관리 기반의 침해사고 조기 대응체계 구축" 프로젝트를 수행하여 침해 시도 조기 탐지 및 대응을 위한 "침해사고 조기 경보 시스템" 및 "침해 사고 대응 프로세스 전산화"와 침해 사고의 사전 예방 강화를 위한 "정보시스템 상시 취약점 점검 체계"를 모두 하나의 프레임웍으로 묶어 통합 구축하였다. 신한은행은 이를 통해 내부망 및 인터넷 서비스망에 대해서 이마 알려진 네트웍 침입 패턴뿐만 아니라 네트웍 트래픽 전반에 대한 모니터링을 대폭 강화하여 기존 침입탐지 시스템이나 디도스 대응 시스템 등에서 탐지가 불가능했던 신종 침입 유형이나 소규모 디도스 공격 트래픽도 자동화된 탐지가 가능하게 되었다. 그리고 탐지된 침입시도의 유행 및 위험 수준에 따라서 사전 정의된 침해사고 대응 프로세스를 통해, 정보보안 담당자가 관련 부서 및 경영진의 요구사항에 각각 최적화된 전용 상황 모니터링 화면을 공유하며 침해사고를 효과적으로 공동 대응할 수 있게 되었다. 또한 정보시스템 전반에 대하여 상시 취약점 점검을 실시하고 그 점검 결과를 데이터베이스로 구축하고 정보시스템의 위험 수준에 따른 체계화된 대응 방안을 수립할 수 있게 되었다. 신한은행은 금번 구축된 시스템을 정보보안 영역 전반으로 확대하여 동일 프레임웍에서 위험관리 기반의 내부 정보 유출 체계를 구축하고, 향후 그룹사에도 확대 적용하여 전체 그룹사의 보안 수준을 제고하는 데 활용할 계획이다. * 금번 구축 사례에서 소개된 침해사고 조기 대응체계는 구축 완료 시점에 사내 명칭 공모를 통해 "Ageis"로 선정되었으며, 본 사례에서도 전체 시스템을 가리킬 때 Ageis로 지칭한다. Aegis는 그라스 신화에서 Zeus 신이 딸 Athena 신에게 주었다는 방패로서 보호, 후원, 지도 등의 뜻을 가지며, 이지스 또는 아이기스 라고 발음된다.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2008.06a
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• pp.80-80
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• 2008

바이오 센서 응용 연구에 많이 사용되는 금(Au) 나노 입자를 이용한 국소 표면 플라즈몬 공명(Localized Surface Plasmon Resonance, LSPR)에 의한 산란광을 검출하는데 주로 이용되는 암시야(dark field) 현미경 검출 방식에 관한 전산모사를 통하여 입사광의 입사 방식에 따른 산란광 세기를 정량적으로 분석하였다. 전산모사 기법으로는 국소 표면 플라즈몬 공명의 동역학적인 현상을 모사할 수 있는 유한차분시간영역(Finite Difference Time Domain, FDTD) 기법을 이용하였는데, 이러한 기법이 암시야 현미경 전산 모사에 유효함을 우선적으로 검증하였다. 암시야 현미경 검출 방식의 모사에서 입사 광원의 반사 입사 방식과 투과 입사 방식을 비교하였고, 각각의 방식에 서 입사광의 입사각에 따른 산랑광 세기를 계산하였다. 이러한 전산모사를 통하여 프리즘을 통한 내부 전반사(Total Internal Reflection, TIR) 방식에서 입사 광원의 임계각 근처에서 많이 발생하는 에바네슨트 장(evanescent field)을 결합하는 경우 산란광 세기가 증가함을 관찰하였고, 이러한 세기의 변화를 프레넬(Fresnel) 방정식에 의해 계산된 에바네슨트 장의 세기 분포와 비교 분석하였다.

• Proceedings of the Korean Fiber Society Conference
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• 2003.04a
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• pp.327-328
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• 2003

최근, 가정 안까지 고속광통신망이 구축되면서 폴리머광섬유 (polymer optical fiber, POF)에 대한 관심이 매우 증가하고 있다[l,2] POF는 빛을 전송하는 코어층과 내부전반사를 유도하면서 코어를 보호하는 클래드 층으로 구성되어 있다. 빛을 직접 전송하지 않으나 POF가 최적의 성능을 보이기 위해서는 적절한 클래드 선택이 중요하다. 그러나 PVDF/PMMA 블렌드, fluoroacrylate, VDF-HFP 공중합체 등이 클래드용 재료로 사용되고 있다는 사실만이 알려져 있을 뿐 보다 자세한 정보는 보고된 바 없다. (중략)