• The Korean Chronic Disease News
• /
• no.290
• /
• pp.28-28
• /
• 2005

• 한국디지털정책학회:학술대회논문집
• /
• 2007.06a
• /
• pp.267-282
• /
• 2007

• Product Safety
• /
• s.198
• /
• pp.70-75
• /
• 2010

• Proceedings of the KIPE Conference
• /
• 2014.11a
• /
• pp.121-122
• /
• 2014

멀티 레벨 인버터는 높은 출력 전압을 갖으며, 낮은 THD(Total harmonic distortion)를 요구하는 시스템에 적합하다. 그 중 cascaded H-brige 멀티레벨 인버터는 H-bridge 셀별 관리가 쉽고, 레벨 수를 증가시키기 쉽다는 장점 때문에 많이 이용되어 왔다. 본 논문에서는 cascaded H-bridge 인버터의 기존 PI (proportional integral) 제어 기반 PWM (pulse width modulation)기법의 스위칭 패턴과 모델 예측 제어의 스위칭 패턴을 비교하고 모델예측 제어 시 셀 별 스위칭 패턴 균형을 위한 방법을 제안한다.

• Proceedings of the Korean Institute of Intelligent Systems Conference
• /
• 2002.12a
• /
• pp.243-248
• /
• 2002

빠르게 변해 가는 정보화사회에서 침입 탐지 시스템은 정밀성과 적웅성, 그리고 확장성을 필요로 한다. 또한 복잡한 Network 환경에서 중요하고 기밀성이 유지되어야 할 리소스를 보호하기 위해, 더욱 구조적이고 지능적인 IDS(Intrusion Detection System)개발의 필요성이 요구되고 있다. 본 연구는 이를 위한, 지능적인 IDS를 위해 침입패턴을 생성하기 위한 모델을 도출함에 목적이 있다. 침입 패턴은 방대한 양의 데이터를 갖게 되고, 이를 정확하고 효율적으로 관리하기 위해서 데이터마이닝의 주요 2분야인 Link analysis와 Sequence analysis를 이용하여 정확하고 신뢰성 있는 침입규칙을 생성하기 위한 모델을 도출해낸다 이 모델은 "Time Based Traffic Model", "Host Based Traffic Model", "Content Model"로 각각 상이한 침입 패턴을 생성하게 된다. 이 모델을 이용하면 좀더 효율적이고 안정적으로 패턴을 생성 할 수 있다, 즉 지능형 시스템기반의 침입 탐지 모델을 구현할 수 있다. 이러한 모델로 생성한 규칙은 침입데이터를 대표하는 규칙이 되고, 이는 비정상 사용자와 정상 사용자를 분류하게 된다 모델에 사용된 데이터는 KDD컨테스트의 데이터를 이용하였다. 사용된 데이터는 KDD컨테스트의 데이터를 이용하였다.

• Proceedings of the Korean Information Science Society Conference
• /
• 2001.04a
• /
• pp.661-663
• /
• 2001

EJB 표준 서버측 컴퍼넌트 표준 모델로서 객체지향 분산 애플리케이션의 개발 및 분산 배치를 위한 컴포넌트 아키텍처이다. EJB로 시스템을 구축시 프로그램의 개발을 쉽게 하고 단순화시키며 보안성, 영속성, 동시성, 트랜잭션 무결성, 보안 등의 처리를 자동으로 해주는 이점을 가진다. 또한 EJB 컴포넌트화 설계를 위해 디자인 패턴을 이용하면 설계 범위를 확장할 수 있고, 설계의 재사용성 효과를 높여주며, 설계 시간의 단축 및 의사소통에 대한 시간을 효과적으로 줄일 수 있다. 본 논문에서는 기존 시스템에서 데이터베이스 접근을 캡슐화하는데 이용하는 DAO의 트랜잭션 로직의 복잡성과 불필요한 DAO 생성 및 시스템 과부하의 문제점을 해결하고자 Integrated DAO 패턴을 제안한다. Integrated DAO 패턴은 컨테이너 관리 트랜잭션을 통해 트랜잭션 조작에 관한 복잡성을 줄여주기 때문에 시스템의 과부하 감소와 시스템 성능 향상에 효과가 있다.

• Proceedings of the Korean Information Science Society Conference
• /
• 2003.10b
• /
• pp.130-132
• /
• 2003

현재 세계 각국에서 많은 메타데이터 레지스트리들이 구축되어 왔다 그러나 메타데이터 레지스트리가 국제 표준(ISO/IEC 11179)임에도 불구하고 일관성 있는 표준 접근 인터페이스를 제공하지 않음으로써 각각 다른 연산으로 구현되었다. 이는 각각의 메타데이터 레지스트리 구축시 동일한 연산 패턴의 중복된 구현으로 인한 불필요한 비용을 야기한다. 국제 표준인 메타데이터 레지스트리에 대한 접근시 시스템 마다 동일한 연산 패턴을 지니게 된다. 이 논문에서는 이와 같이 메타데이터 레지스트리에서 공통적으로 사용되는 연산 패턴을 분석하고 정의한다. 또한 분석된 연산 패턴을 이용하여 표준 SQL을 확장한 SQL/MDR을 정의하고 설계한다. 설계된 SOL/MDR은 메타데이터 레지스트리 관리 시스템 개발에 표준 접근 방법을 제공한다. 또한 이는 개별적인 개발로 인한 추가적인 노력을 감소시키고 메타데이터 레지스트리에 대한 보다 일관성 있는 접근을 가능하게 한다.

• Journal of Energy Engineering
• /
• v.10 no.1
• /
• pp.17-23
• /
• 2001

전력산업 구조개편에 따른 발전부문의 경제급전 추구로 인하여 구 동안 가스산업에서 수급조절역할을 담당하던 발전용 수요의 감소로 수급불균형 심화가 예상되고 결국에는 저장설비의 구축에 막대한 자본이 소요될 것으로 보인다. 이에 본 연구에서는 분석모형을 통하여 이러한 영향들을 계량적으로 분석하고 그 원인을 밝힘으로써 전력산업 구조개편에 대응한 향후의 천연가스 수급정책 방향을 제시하였다. 연구결과에 의하면, 경제급전의 추구로 인해 발전용 수요가 기존 예측치 대비 약 40∼50% 수준으로 급감하여 소요저장탱크기수는 1∼2기 정도 감소하지만, 발전용 수요의 수급조절능력의 약화로 천연가스 수요패턴은 더욱 악화되는 것으로 분석되었다. 또한 필요수입 보전주의에 따른 가격결정방식의 소비자가격이 상승되는 것으로 보아 저장설비에 과다투자가 이루어지는 것으로 판단할 수 있다. 결국, 도시가스의 수요패턴이 현상태를 유지하는 경우, 발전부문의 경제급전시 가스산업에서는 수요패턴의 약화로 저장시설에의 과다설비투자가 불가피하며 이는 소비자가격의 상승으로 이어질 것으로 예상된다. 따라서 향후 가스산업에서는 다양한 수요관리 방안과 도입량 조절 등을 통한 수요패턴 개선노력이 시급할 것으로 판단된다.

• Proceedings of the Korean Society of Computer Information Conference
• /
• 2021.07a
• /
• pp.75-77
• /
• 2021

전력 생산의 효율을 높이고 지속적인 공정관리를 위해 전력 설비 데이터의 패턴을 분석하고 원인이 되는 주요 변수를 찾는 것이 중요하다. 따라서, 본 연구에서는 전력 설비 데이터의 패턴을 분석하기 위해 데이터를 군집화하고 연구 방법으로 Decision Tree, Random Forest와 ResNet을 이용하여 패턴을 분류하였다. Class Activation Map을 이용하여 설비데이터의 원인이 되는 주요 변수를 확인하였다. 본 연구를 통해 전력 설비 데이터의 분류 및 원인 분석이 가능한 통합적 솔루션을 제시하고자 한다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
• /
• 2016.02a
• /
• pp.213-213
• /
• 2016

현재 반도체 산업에서는 디바이스의 고 집적화, 고 수율을 목적으로 패턴의 미세화 및 웨이퍼의 대면적화와 같은 이슈가 크게 부각되고 있다. 다중 패터닝(multiple patterning) 기술을 통하여 고 집적 패턴을 구현이 가능해졌으며, 이와 같은 상황에서 각 패턴의 임계치수(critical dimension) 변화는 패턴의 위치 및 품질에 큰 영향을 끼치기 때문에 포토마스크의 임계치수 균일도(critical dimension uniformity, CDU)가 제작 공정에서 주요 파라미터로 인식되고 있다. 반도체 광 리소그래피 공정에서 크롬(Cr) 박막은 사용되는 포토 마스크의 재료로 널리 사용되고 있으며, 이러한 포토마스크는 fused silica, chrome, PR의 박막 층으로 이루어져 있다. 포토마스크의 패턴은 플라즈마 식각 장비를 이용하여 형성하게 되므로, 식각 공정의 플라즈마 균일도를 계측하고 관리 하는 것은 공정 결과물 관리에 필수적이며 전체 반도체 공정 수율에도 큰 영향을 미친다. 흔히, 포토마스크 임계치수는 플라즈마 공정에서의 라디칼 농도 및 식각 선택비에 의해 크게 영향을 받는 것으로 알려져 왔다. 본 연구에서는 Cr 포토마스크 에칭 공정에서의 Cl2/O2 공정 플라즈마에 대해 O2 가스 주입량에 따른 식각 선택비(etch selectivity) 변화를 계측하여 선택비 제어를 통한 Cr 포토마스크 임계치수 균일도 향상을 실험적으로 입증하였다. 연구에서 사용한 플라즈마 계측 방법인 발광분광법(OES)과 optical actinometry의 적합성을 확인하기 위해서 Cl2 가스 주입량에 따른 actinometer 기체(Ar)에 대한 atomic Cl 농도비를 계측하였고, actinometry 이론에 근거하여 linear regression error 1.9%을 보였다. 다음으로, O2 가스 주입비에 따른 Cr 및 PR의 식각률(etch rate)을 계측함으로써 식각 선택비(etch selectivity)의 변화율이 적은 O2 가스 농도 범위(8-14%)를 확인하였고, 이 구간에서 임계치수 균일도가 가장 좋을 것으로 예상할 수 있었다. (그림 1) 또한, spatially resolvable optical emission spectrometer(SROES)를 사용하여 플라즈마 챔버 내부의 O atom 및 Cl radical의 공간 농도 분포를 확인하였다. 포토마스크의 임계치수 균일도(CDU)는 챔버 내부의 식각 선택비의 변화율에 강하게 영향을 받을 것으로 예상하였고, 이를 입증하기 위해 각각 다른 O2 농도 환경에서 포토마스크 임계치수 값을 확인하였다. (표1) O2 11%에서 측정된 임계치수 균일도는 1.3nm, 그 외의 O2 가스 주입량에 대해서는 임계치수 균일도 ~1.7nm의 범위를 보이며, 이는 25% 임계치수 균일도 향상을 의미함을 보인다.