• Journal of Powder Materials
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• v.27 no.2
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• pp.119-125
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• 2020

One of the promising candidates for accident-tolerant fuel (ATF), a ceramic microcell fuel, which can be distinguished by an unusual cell-like microstructure (UO₂ grain cell surrounded by a doped oxide cell wall), is being developed. This study deals with the microstructural observation of the constituent phases and the wetting behaviors of the cell wall materials in three kinds of ceramic microcell UO₂ pellets: Si-Ti-O (STO), Si-Cr-O (SCO), and Al-Si-Ti-O (ASTO). The chemical and physical states of the cell wall materials are estimated by HSC Chemistry and confirmed by experiment to be mixtures of Si-O and Ti-O for the STO; Si-O and Cr-O for SCO; and Si-O, Ti-O, and Al-Si-O for the ASTO. From their morphology at triple junctions, UO₂ grains appear to be wet by the Si-O or Al-Si-O rather than other oxides, providing a benefit on the capture-ability of the ceramic microcell cell wall. The wetting behavior can be explained by the relationships between the interface energy and the contact angle.

• Resources Recycling
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• v.24 no.5
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• pp.3-14
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• 2015

This study investigated that status of domestic and international furnace desulfurization and desulfurization characteristics of limestone for fluidized bed use depending on the technology for CFBC one of the CCPs. Limestone-based desulfurizing agent is one of the superior elements which are optimal at around $850-950^{\circ}C$ on high temperature desulfurization. And effectiveness of desulfurization process can be determined by the desulfurization experiment method such as diffusion reaction of the diaphragm of the absorber surface, the size of the particles, the pores of the quantity, size and structure. And, desulfurization efficiency depending on geological and crystallographic properties and calcination process of limestone needs additional research in the future.

• Proceedings of the Korea Concrete Institute Conference
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• 2008.11a
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• pp.37-40
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• 2008

Recently, Construction Business, is changing very quickly, exceedingly needs to slim down the construction expensive by reducing material costs and the term of works. The term of formwork takes 25% of the term of works and costs 15% to 20% of the cost of construction. Hereupon, the purpose of this study is to investigate the Axial Strength of Centrifugall Formed Shell PC Columns that can reduce the term of formwork, the costs of material, the difficulty of throwing away the waste. Shell PC Column is loaded stirrups and manufactured at factory, so it has good points like construction's quality control and part's precision. However, it needs to be tested for checking bonded ability because it is set up at core and coverd with concrete. therefore this study is necessary three type of columns, which are a RC column, different type of two compressive strength core concrete columns and a Shell PC Column. By three columns, this study compare with and analysis three columns's bonded and Compressive Behavior abilities.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 1999.07a
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• pp.249-249
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• 1999

GaN과 같은 III-nitride 반도체 관한 식각 기술의 연구는 blue-emitting laser diode(LD)를 위한 경면(mirror facet)의 형성뿐만아니라 새로운 display 용도의 light emitting diodes (LED), 고온에서 작동되는 광전소자 제조 등에도 그 중요성이 증대되고 있다. 최근에는 III-nitride 물질의 높은 식각속도와 미려하고 수직한 식각형상을 이루기 위하여 ECR(Electron Cyclotron Resonance)이나 ICP(Inductively Coupled Plasma)와 같은 고밀도 플라즈마 식각과 CAIBE(Chemically assisted ion beam etching)를 이용한 연구가 진행되고 있다. 현재 제조되어 지고 있는 LED 및 LD와 같은 광소자의 구조의 대부분은 p-GaN/AlGaN/InGaN(Q.W)/AlGaN/n-GaN 와 같은 여러 층의 형태로 이루어져 있다. 이중 InGaN는 광소자나 전자소자의 특성에 영향을 주는 가장 중요한 부분으로써 현재까지 보고된 식각연구는 undoped GaN에 대부분 집중되고 있고 이에 비해 소자 특성에 핵심을 이루는 InGaN의 식각특성에 관한 연구는 미흡한 상황이다. 본 연구에서는 고밀도 플라즈마원인 ICP 장비를 이용하여 InGaN를 식각하였고, 식각에는 Cl2/CH4, Cl2/Ar 플라즈마를 사용하였다. InGaN의 식각특성에 영향을 미치는 플라즈마의 특성을 관찰하기 위하여 quadrupole mass spectrometry(QMS)와 optical emission spectroscopy(PES)를 사용하였다. 기판 온도는 5$0^{\circ}C$, 공정 압력은 5,Torr에서 30mTorr로 변화시켰고 inductive power는 200~800watt, bias voltage는 0~-200voltage로 변화시켰으며 식각마스크로는 SiO2를 patterning 하여 사용하였다. n-GaN, p-GaN 층 이외에 광소자 제조시 필수적인 InGaN 층을 100% Cl2로 식각한 경우에 InGaN의 식각속도가 GaN에 비해 매우 낮은 식각속도를 보였다. Cl2 gas에 소량의 CH4나 Ar gas를 첨가하는 경우와 공정압력을 감소시키는 경우 식각속도는 증가하였고, Cl2/10%Ar 플라즈마에서 공정 압력을 감소시키는 경우 식각속도는 증가하였고, Cl2/10%CHF3 와 Cl2/10%Ar 플라즈마에서 공정압력을 15mTorr로 감소시키는 경우 InGaN과 GaNrks의 선택적인 식각이 가능하였다. InGaN의 식각속도는 Cl2/Ar 플라즈마의 이온에 의한 Cl2/CHF3(CH4) 플라즈마에서의 CHx radical 형성에 의하여 증가하는 것으로 사료되어 진다.

• Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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• v.13 no.3 s.40
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• pp.13-17
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• 2006

Dense and periodic arrays of holes and tungsten none dots were fabricated on silicon oxide and silicon. The holes were approximately 25 nm wide, 40 nm deep, and 60 nm apart. To obtain nano-size patterns, self-assembling resists were used to produce layer of hexagonally ordered parallel cylinders of polymethylmethacrylate(PMMA) in polystyrene(PS) matrix. The PMMA cylinders were degraded and removed with acetic acid rinse to produce a PS mask for pattern transfer. The silicon oxide was removed by fluorine-based reactive ion etching(RIE). Selectively deposited tungsten nano dots were formed inside nano-sized trench by using a low pressure chemical vapor deposition(LPCVD) method. Tungsten nano dot and trenched silicon sizes were 26 nm and 30 nm, respectively.

• 한국HCI학회:학술대회논문집
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• 2006.02b
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• pp.9-13
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• 2006

본 연구는 HD 복합TV 사용자의 시청행태 및 사용자 니즈 분석을 통해 사용자 시나리오를 도출하여 실제 제품에 적용할 수 있는 DTV 인터페이스 디자인의 일반적인 원리를 발견하고 대형 DTV 화면에 적합한 OSD디자인을 개발하여 디지털 복합 TV에 적합한 새로운 디자인 가이드라인을 제안하는 것을 그 목적으로 하고 있다. 이를 위해 DTV 시청환경을 기반으로 PVR, EPF, 녹화, 1394 등 다양한 기능에 대한 사용 시나리오를 정의하고 유저 내비게이션 특성을 반영한 OSD디자인 방향을 검토하였고 개발환경인 50인치 PDP 화면에 적합한 레이아웃을 제작하여 사용자조사를 통해 검증하였다. 사례연구로 최근 이슈가 되고 있는 타임머신 기능 X Canvas PDP의 OSD 디자인을 개발하여 양산용 제품에 적용할 수 있었다. 대표적인 특징으로 복합 TV 의 Gateway 인 홈메뉴, PVR 기능의 핵심인 프로그래스바, 모든 컨텐츠에 일관되게 적용할 수 있는 목록화면, 녹화관련화면에 공통적으로 적용할 수 있도록 폰트,칼라,레이아웃,위젯 정의를 수행하여 각 기능별 화면들이 Package개념으로 Identity를 갖추면서 사용하기 편리하도록 구성하였다. 그리고 이를 통하여 DTV Application Design에 일반적으로 적용할 수 있는 메뉴구조 및 화면디자인 가이드라인을 도출하였고 세계최초로 자사에서 개발한 하드디스크 내장 HD TV Application GUI 의 사용성 및 심미성 측면을 모두 만족시키는 등 DTV GUI 분야에서 주목할 만한 성과를 거두었다.

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2010.05a
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• pp.12.2-12.2
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• 2010

반도체 소자, 바이오 센서, 태양전지 등에서 집적도 및 소자 성능 향상을 위해서 최근 실리콘 소재를 위주로 한 수직 정렬형 와이어 어레이와 같은 3차원 구조의 소재에 대한 연구가 많이 진행되고 있다. 깊은 반응성 이온 식각법(DRIE: Deep Reactive Ion Etching)과 같은 건식 식각법으로 종횡비가 높은 실리콘 와이어 어레이를 제작할 수 있지만 시간과 공정비용이 많이 소요된다는 단점이 있고 양산성이 없다. 이를 극복하기 위해서 VLS (Vapor-Liquid-Solid)방법이 연구되고 있지만 촉매로 사용되는 금속의 오염으로 인한 소자 성능의 저하를 피할 수가 없다. 본 연구진에서 연구하는 있는 전기화학적 식각법을 사용하면 이러한 문제를 극복하고 매우 정렬이 잘 된 실리콘 와이어 어레이를 제작할 수 있으며 최적 조건을 정립하면 균일하고 재현성 있는 다양한 종횡비의 기판 수직형 실리콘 와이어 어레이를 제작할 수 있다. 또한, 귀금속 촉매 식각법은 금속 촉매를 사용하여 식각을 하지만 VLS 방법과 달리 Top-down 방법을 사용하기 때문에 최종 공정에서 용액에 담구어 귀금속을 식각하여 제거 하면 귀금속 촉매가 실리콘을 오염시키는 일은 배제할 수 있다. 귀금속 촉매 식각법의 경우 사용되는 촉매의 다양화, 포토리소그래피 방법, 그리고 식각 용액의 조성 변화에 따라 다양한 형상의 와이어 어레이를 제작할 수 있으며 이에 대한 결과를 소개하고자 한다. 3차원 실리콘 와이어 어레이를 사용하여 동심원형 p-n접합 와이어 어레이를 제작하면 소수캐리어의 확산거리가 짧아도 짧은 동심원 방향으로 캐리어를 포집할 수 있고 태양광의 입사는 와이어 어레이의 수직 방향이므로 태양광의 흡수도 효율적으로 할 수 있기 때문에 실리콘의 효율 향상을 달성할 수 있다. 이에 대한 본 연구진의 연구결과 및 최근 연구 동향을 발표하고자 한다.

• Journal of Biomedical Engineering Research
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• v.11 no.2
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• pp.305-314
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• 1990

In this paper we have implemented and tested TPN which is system to supply sufficent nutrition to nutritionally deficient patient by means of ES (expert system) a kind of A.1 (artificial intelligence) . This system affords to evaluation of nutritional state of patient which is essential to physi- cian. who performs TPN, decision of performing TPN and management of patient-data & calculation of information needing to making TPN fluid. The features were as follolv 1. we input data, take ideal weight of patient and 24hr's creatlnln In urine according to chart in system compare TSF (triceps skin fold), MAC (mid-arm circumference), AMC (arm muscle circumference) to 5th, 15th, 50th percentile and evaluate the nutritional state of patient. 2. Calculation of protein & nonprotein calorie needing to treament of patient can be made exactly by stress factor, activity factor and body temperature. 3. patient's personal recording needing to management of patient date name of chief doc- tor, name of department of admission, chart number, history can by taken very easily. 4. The way of system operating is pull-down Menu one, It can be processing very efficiently. 5. Date processing in system, we can manage memory volume of computer verlr efficiently using of dynamic allocation variables. 6. We can make it very easy to edit & revise the input data, processed data is saved to diskette in 2 files (TDF, THF) , these are semipermanent preservation.

• Journal of the Korean Vacuum Society
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• v.21 no.6
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• pp.354-361
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• 2012

The organic memory device was made by the plasma polymerization method which was not the dry process but the wet process. The memory device consist of the styrene and MMA monomer as the insulating layer, MMA monomer as the tunneling layer and Au thin film as the memory layer which was fabricated by thermal evaporation method. The I-V characteristics of fabricated memory device got the hysteresis voltage of 27 V at 40/-40 V double sweep measuring conditions. At this time, the optimized structure was 7 nm of Au thin film as floating gate, 400 nm of styrene thin film as insulating layer and 30 nm of MMA thin film as tunneling layer. Therefore we got the charge trapping characteristics by the hysteresis voltage. From the paper, styrene indicated a good charge trapping characteristics better than MMA. In the future, we expect to make devices by using styrene thin film rather than Au thin film.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2000.02a
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• pp.31-31
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• 2000

Al2O3는 높은 화학적, 열적 안정성으로 인하여 미세전자 산업에서 절연막이나 광전자소자의 재료로써 널리 이용되고 있다. 특히, 사파이어는 고위도의 LED, 청색 LD의 재료인 GaN 계열의 III-Nitride 물질을 성장시킬 때 필요한 기판으로 보편적으로 사용되고 있다. 이러한 GaN계열의 광소자 제조에서 사파이어 기판을 적용시 지적되는 문제점들 중의 하나는 소자제조 후 사파이어의 결정 구조 및 높은 경도에 의해 나타나는 cutting 및 backside의 기계적 연마가 어렵다는 것이다. 최근에는 이온빔 식각이나 이온 주입 후 화학적 습식 시각, reactive ion etching을 통한 사파이어의 건식 식각이 소자 분리 및 backside 공정을 우해 연구되고 있다. 그러나 이러한 방법을 이용한 사파이어의 식각속도는 일반적으로 15nm/min 보다 작다. 높은 식각율과 식각후 표면의 작은 거칠기를 수반한 사파이어의 플라즈마 식각은 소자 제조 공정시 소자의 isolation 및 lapping 후 연마 공정에 이용할 수 있다. 본 연구에서는 평판 유도결합형 플라즈마를 이용하여 Cl2/BCL3/Ar 의 가스조합, inductive power, bias voltage, 압력, 기판온도의 다양한 공정 변수를 통하여 (0001) 사파이어의 식각특성을 연구하였다. 사파이어의 식각속도는 inductive power, bias voltage, 그리고 기판 온도가 증가할수록 증가하였으며 Cl2에 BCl3를 50%이하로 첨가할 때 BCl3 첨가량이 증가할수록 식각속도 및 식각마스크(photoresist)와의 식각선택비가 증가하는 것을 관찰하였다. 또한, Cl3:BCl3=1:1의 조건에 따라 Ar 첨가에 따른 식각속도 및 표면 거칠기를 관찰하였다. 본 연구의 최적 식각조건인 40%Cl2/40%BCl3/20%Ar, 600W의 inductive power, -300V의 bias voltage, 30mTorr의 압력, 기판온도 7$0^{\circ}C$에서 270nm/min의 사파이어 식각속도를 얻을수 있었다. 그리고 이러한 식각조건에서 표면의 거치기를 줄일수 있었다. 사파이어 식각은 보편적인 사파이어 lapping 공정시 수반되어 형성된 표면의 거치기를 줄이기 위한 마지막 공정에 응용될수 있다. 사파이어의 식각시 나타나는 식각 부산물은 플라즈마 진단방비인 optical emission spectroscopy (OES)를 통하여 관찰하였고, 식각시 사파이어의 표면성분비 변화 및 표면의 화학적 결합은 X-ray photoelectron spectroscopy(XPS)를 사용하여 측정하였다. 시각 전, 후의 표면의 거칠기를 scanning electron microscopy(SEM)을 통하여 관찰하였다.