• 한국응용과학기술학회지
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• 제14권2호
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• pp.27-34
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• 1997

Naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonyl [NDS]derivatives members of Quinone diazide compound that are utilizable as photoresist for printing plate were synthesized, and photoresist were prepared by mixing these derivatives with a matrix resin(PF, CF) at various weight ratios. Photosensitive characteristics of photoresist were studied by Gray scale method, and SEM to analyze if they can be used as photosensitive material in a printing plate. Experimental results showed using IR, UV, NDS derivatives were photoconverted and developer-soluble photoresist were produced. Photoresist in the mixing ratio of 1:4 of NDS[II] and CF resin gave rise to the highest dissolution rate. In addition, photoresist obtained at this condition resulted in the most superior sensitivity.

• 한국응용과학기술학회지
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• 제15권1호
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• pp.9-15
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• 1998

Poly(p-anol-formaldehyde) cinnamates(AGEFCs) were synthesized to prepare a photo-sensitive polymer which enabled to be photodimerized via 6-center reaction. The photocharacteristics of the mixture of the AGEFCs and a sensitizer after exposure to light was tested. The yield of the residual film, which was closely related to the sensitivity of the film, was affected by the degree of polymerization of the backbone resin, sensitizers and their concentration. AGEFC-3 revealed a good photosensitive effect such as about 73% yield of residual film at 128 min. of exposed time.

• 한국응용과학기술학회지
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• 제13권1호
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• pp.47-54
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• 1996

Cinnamoyl ester(PGEFC) of poly(phloroglucinol-formaldehyde) glycidyl ether which has photosensitive functional group was prepared to apply to photoresist. Photosensitivity of PGEFC was estimated by the solubility difference in organic solvent before and after exposure to light. The yield of residual film was calculated by immersing the sample-coated quartz plates in the solvent which was used in coating. The yield of the residual film which was closely related to the sensitivity of the film, was affected by the degree of polymerization of the backbone resin, sensitizers and their concentration. The sensitivity was depended upon the degree of polymerization. Most of effective sensitizer for PGEFC among the sensitizers was 2, 6-dichloro-4-nitroaniline.

• 공업화학
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• 제17권2호
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• pp.217-222
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• 2006

폴리이미드는 높은 열안정성, 우수한 기계적, 전기적 성질을 가지고 있어 많은 연구가 진행되어 왔지만, 대부분의 유기용매에 불용인 관계로 그 용도가 제한되어 있다. 본 연구에서는 방향족 디아민인 2,2,-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane (BAPAF)와 3,3,-diamino-4,4- dihydroxybyphenyl (HAB)를 사용하고 방향족 디안하이드라이드인 4,4-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA), pyromellitic dianhydride (PMDA), 4,4-oxydiphthalic dianhydride (OPDA), 3,3,4,4-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA) 및 3,3,4,4-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride (DSDA)를 사용하여 가용성 폴리이미드를 합성하였다. 폴리이미드의 성질은 NMR, FR-IR 및 TGA를 이용하여 조사하였으며, 유전상수는 축전용량을 측정하여 계산하였다. 히드록시기를 포함한 폴리이미드와 methacryloyl chloride를 반응시켜 감광성 폴리이미드를 합성하고, photolithography기술을 이용하여 micro-패턴을 형성하였다.

• 마이크로전자및패키징학회지
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• 제8권3호
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• pp.69-75
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• 2001

후막광식각 기술은 스크린 인쇄 등의 일반적 후막공정에 노광 및 현상등의 리소그라피 공정 을 접목시킨 새로운 기술이다. 그린시트를 적층한 후 감광성 Ag 페이스트를 도포하고, 패턴을 노광, 현상, 동시소성하여 스크린 인쇄법으로는 어려운 25 $\mu\textrm{m}$ 선폭과 25 $\mu\textrm{m}$ 선간공백을 구현하였다. 알루미나 기판을 사용하였을 경우에도 유사한 방법으로 20 $\mu\textrm{m}$에 가까운 선폭이 구현 가능하였으며, 노광량과 현상시간이 미세라인 형성에 있어서 가장 중요한 공정변수임을 확인하였다. 또한, 광식각 기술을 이용하여 정밀도가 높고 고주파 대역에서 전송특성이 우수한 microstrip 전송선로와 series gap 공진기를 제작하여, 이로부터 기판의 유전률 및 유전손실을 계산하였다.

• 센서학회지
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• 제1권2호
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• pp.101-106
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• 1992

반도체 pH 센서인 pH-ISFET와 효소 고정화막을 기술적으로 결합한 FET형 반도체 요소 및 포도당센서를 제조하고 그 동작특성을 조사하였다. 사진식각기술을 이용하여 pH-ISFET의 수소이온 감지막 위에 urease와 glucose oxidase를 감광성 고분자 물질인 PVA(polyvinyl alcohol)-SbQ(stilbazolium group)로 고정화(immobilization)시켰다. 제조된 요소센서와 포도당센서는 각각 $0.5{\sim}50{\;}mg/dl$ 범위의 요소농도와 $10{\sim}1000{\;}mg/dl$의 포도당 농도를 정량 할 수 있었다.

• 한국정밀공학회지
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• 제23권12호
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• pp.128-134
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• 2006

Two-dimensional nano-patterns are fabricated using immersion holographic lithography. The photoresist layer is exposed to an interference pattern generated by two incident laser beams($\lambda$=441.6 nm, He-Cd laser) of which the pitch size is less than 200 nm. Good surface profiles of the 2 dimensional patterns are achieved by trimming the lithography process parameters, such as, exposure time, developing time and refractive index of medium liquid.

• 한국방송∙미디어공학회:학술대회논문집
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• 한국방송공학회 2013년도 하계학술대회
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• pp.83-84
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• 2013

홀로그래픽 스테레오그램은, 양안 스테레오스코픽 영상들을 레이저 기준파와 간섭시켜 생성된 홀로그래픽 패턴을 감광매질인 홀로그래픽 필름에 기록한 후, 이를 다시 광학적 회절을 이용하여 3차원 영상으로 재현하는 3차원 디스플레이의 한 방법이다. 본 논문에서는 다시점의 full-color, full-parallax 영상을 디지털 방식의 스테레오그램으로 제작하여 3차원 입체 영상으로 재현하기 위한 기록 시스템에서, 기록 매질인 홀로그래픽 필름 면에서의 영상을 고해상도 영상 센서를 이용하여 직접 획득하고, 이 영상 정보를 분석하여 광축을 제어함으로써, 왜곡없는 최적의 호겔을 형성하여 높은 회절 효율을 갖는 스테레오그램을 제작하기 위한 방법 및 장치에 대한 연구개발 결과를 기술하였다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2006년도 추계학술대회 논문집 Vol.19
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• pp.22-23
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• 2006

A process for removal of photoresist(PR) m semiconductor manufacturing using water vapor with ozone is presented. For the realization of the ozone/vapor mixture process, high concentration ozone generator and process facilities have developed. As a result of the silicon wafer PR strip test, we confirmed the high efficiency PR strip rates of 400nm/mm or more at the ozone concentration of 16wt%/$O_2$. The ozone/vapor mixture process is more effective than the ozonized water Immersion process.

• 한국추진공학회:학술대회논문집
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• 한국추진공학회 2007년도 제29회 추계학술대회논문집
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• pp.225-228
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• 2007

마이크로 고체 추진제 추력기는 현재의 MEMS 기술로 가장 실현 가능성이 높은 마이크로 추력기이다. 마이크로 고체 추진제 추력기의 기본 요소로는 마이크로 노즐, 마이크로 점화기, 연소 챔버 그리고 고체 추진제이다. 마이크로 노즐과 연소 챔버는 감광유리의 이방성 식각을 통해 제작이 되었다. 마이크로 점화기는 마이크로 유리 박막 백금 히터를 사용하였다. 요소들의 제작 공정을 확립 후, 요소들을 통합하여 추력기를 개발하였다. 추력기의 연소 실험을 수행하여 성공적으로 연소가 일어남을 확인하였다.