We investigated to DC magnetic characteristics, the dependence of annealing temperature on the crystal grain and the crystalline orientation for grain-oriented silicon ribbon with 100 $\mu\textrm{m}$ final thickness manufactured by three times cold rolling method using the hot-rolled silicon steel plate as a raw material. The growth of (110)[001] Goss texture were almost observed in the whole area of the sample. The values of the saturation magnetic flux density B$\sub$s/ and the average ${\alpha}$ angle have 1.9 T and 4.6 degrees respectively. From this result we could be confirmed that the three times cold rolling method has a possibility of manufacture for oriented ultra-thin silicon ribbons much more simple and cheeper than the existing oriented silicon steel manufacturing method by means of more simplified producing process.
Cube texture를 갖는 Ni기판위에 MOCVD(Metal Chemical Vapor Deposition)를 이용하여 NiO, CeO$_2$, YBCO 박막을 제조하였다. NiO(200)와 CeO$_2$(200) buffer layer는 450${\sim}$470$^{\circ}$C에서 10분간 MOCVD방법으로 (100)<001>Ni 기판위에 직접 증착하였다. 제조된 NiO, CeO$_2$ buffer layer는 조직이 치밀하며 표면의 상태가 매우 좋으며 Ni기판 위에 epitaxial하게 성장하였다. NiO는 Ni기판과 NiO<100>//Ni<100>의 방위관계를 가지고 성장하였으며, CeO$_2$는 증착조건에 따라 CeO$_2$ <100>//Ni<100> 및 CeO$_2$ <110>//Ni<100> 의 방위관계를 가지고 성장하였다. 증착된 NiO막과 CeO$_2$막에서 균열은 발생하지 않았다. MOCVD법으로 표면에 biaxial texture를 갖는 ceramic buffer를 증착시킨 NiO/Ni및 CeO$_2$/Ni 기판위에 YBCO박막을 MOCVD법으로 제조하였다. YBCO막은 기판온도 800$^{\circ}$C,증착압력 10torr, 산소분압을 0.7torr로 하여 10분간 행하였다. 공급원료의 조성에 따라 YBCO의 막의 texture와 형성되는 상이 변화되었다. NiO/Ni및 CeO$_2$/Ni 기판 위에 증착된 YBCO막은 c축 배향성을 가지고 성장하였으며, -scan 및 ${\varphi}$ -scan으로 측정한 (500)면의 in-plane과 (110)면의 out-of-plane의 FWHM(Full Width Half Maximum)값은 각각 10$^{\circ}$ 미만으로 우수하였다.
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.28
no.9
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pp.1086-1093
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2011
To fabricate the aluminum alloys with good drawability, the textures evolution of the AA5182 sheets due to the change of lid parameter after rolling and subsequent annealing was studied. The measurement of the deformation textures was carried out for the sheets with high reduction ratio and the change of the recrystallization texture was investigated after heat-treatments of the rolled sheets in various I/d parameters. Rolling without lubrication and subsequent annealing led to the formation of favorable rot-$C_{ND}$ {001}<110> and ${\gamma}$-fiber ND//<111> textures in AA5182 sheets. From the results, the ${\gamma}$-fiber ND//<111> component well evolved during rolling at high lid parameter of 6.77. The initial shear deformation texture, especially, ${\gamma}$-fiber ND//<111> was not rotated during heat treatment in holding time of 180~7,200 seconds on AA5182 with I/d parameter of 6.77. Therefore, the AA5182 sheets were fabricated by controlling I/d parameter having well evolved ${\gamma}$-fiber ND//<111> which was advantageous in good drawability of the sheets.
We investigated the effects of the capping layer materials on the crystallization of the amorphous top-CoFeB (t-CoFeB) electrode and the magnetoresistance properties of the magnetic tunnel junctions (MTJs). When the hcp(002)-textured Ru capping layer was used, the amorphous t-CoFeB was crystallized to bcc-CoFe(110). The CoFe(110)/Ru(002) texture relation can be minimized the lattice mismatch down to 5.6%. However, when the fine polycrystalline but almost amorphous TiAl or amorphous ZrAl were used, the amorphous t-CoFeB was crystallized to bcc-CoFe(002). When the amorphous capping materials were used, the evolution of the t-CoFeB texture was affected mainly by the MgO(001) texture. Consequently, the M ratios of the annealed MTJ capped with the ZrAl and TiAl (72.7 and 71.8%) are relatively higher than that of the MTJ with Ru capping layer (46.7%). In conclusions, the texture evolution of the amorphous t-CoFeB during the post deposition annealing could be controlled by the crystallinity of the adjacent capping layer and in turn, it affects the TMR ratio of MTJs.
Kim Kee Joo;Shin Kwang Seon;Jeong Hyo-Tae;Paik Young-Nam
Transactions of the Korean Society of Automotive Engineers
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v.13
no.6
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pp.128-134
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2005
In order to fabricate the aluminum alloys with good drawability, the textures evolution of the AA5182 sheets after rolling and annealing was studied. The measurement of the deformation textures was carried out for the sheets which were cold rolled with high reduction ratio by using the symmetric roll. In addition, the change of the recrystallization texture was investigated after heat-treatments of the rolled sheets with various heat treatment conditions. Rolling without lubrication and subsequent annealing led to the formation of favorable $rot-C_{ND}\;\{001\}<110>\;and\;{\gamma}-fiber ND//<111>$ textures in AA5182 sheets. From the results, the ${\gamma}$-fiber ND//<111> component well evolved during rolling at highest reduction ratio (over $90\%$, l/d parameter of 6.77). Among shear deformation textures, the ${\gamma}$-fiber ND//<111> was not rotated in holding time of $180\~7,200$ seconds at $350^{\circ}C$. The Monte-Carlo technique was used and could be representatively simulated these textures evolution during recrystallization.
A commercial AA1070 alloy for electrical wire is severely deformed by drawing process in which a rod with an initial diameter of 9mm into is reduced to a wire of 2mm diameter. The drawn AA1070 wire is then annealed at various temperatures from 200 to 450 ℃ for 2h. Changes in microstructure, mechanical properties and electrical properties of the specimens with annealing temperature are investigated in detail. The specimen begins partially to recrystallize at 250 ℃; above 300 ℃ it is covered with equiaxed recrystallized grains over all regions. Fiber textures of {110}<111> and {112}<111> components are mainly developed, and {110}<001> texture is partially developed as well. The tensile strength tends to decrease with annealing temperature due to the occurrence of recovery or/and recrystallization. On the other hand, the elongation of the annealed wire increases with the annealing temperature, and reaches a maximum value of 33.3 % at 300 ℃. Electric conductivity of the specimens increases with annealing temperature, and reaches a maximum value of 62.6 %IACS after annealing at 450 ℃. These results are discussed in comparison with those for the other aluminum alloy.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2010.06a
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pp.214-214
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2010
The 0.65Pb($Mg_{1/3}Nb_{2/3})O_3-0.35PbTiO_3$ (PMN-PT) thin films with $La_{0.5}Sr_{0.5}CoO_{3-\delta}$ (LSCO) bottom electrodes were grown on $CeO_2$/YSZ/Si(001), Pt/$TiO_2$/Si and $SrTiO_3$ (STO) substrates using conventional pulsed laser deposition (PLD) at a substrate temperature of $550^{\circ}C$. Since generally the crystallographic orientation of the bottom electrode induces the orientation of the films deposited on it, it allows us to observe the influence of the PMN-PT film orientation on the electrical properties. Phi scan done on PMN-PT/LSCO thin films shows epitaxial behavior of the films grown on sto substrates and $CeO_2$/YSZ buffered Si(001) substrates, and (110) texture on Pt/$TiO_2$/Si substrates. Polarization-electricfield (P-E) measurement shows good hysteresis behavior of PMN-PT films with remnant polarization of 18.2, 8.8, and $4.4{\mu}C/cm^2$ on $CeO_2$/YSZ/Si, Pt/TiO2/Si and STO substrates respectively.
Changes in the microstructure and mechanical properties of as-roll-bonded AA6061/AA5052/AA1050 three-layered sheet with increasing annealing temperature were investigated in detail. The commercial AA6061, AA5052 and AA1050 sheets with 2 mm thickness were roll-bonded by multi-pass rolling at ambient temperature. The roll-bonded Al sheets were then annealed for 1 h at various temperatures from 200 to 400 ℃. The specimens annealed up to 250 ℃ showed a typical deformation structure where the grains are elongated in the rolling direction in all regions. However, after annealing at 300 ℃, while AA6061 and AA1050 regions still retained the deformation structure, but AA5052 region changed into complete recrystallization. For all the annealed materials, the fraction of high angle grain boundaries was lower than that of low angle grain boundaries. In addition, while the rolling texture of the {110}<112> and {123}<634> components strongly developed in the AA6061 and AA1050 regions, in the AA5052 region the recrystallization texture of the {100}<001> component developed. After annealing at 350 ℃ the recrystallization texture developed in all regions. The as-rolled material exhibited a relatively high tensile strength of 282 MPa and elongation of 18 %. However, the tensile strength decreased and the elongation increased gradually with the increase in annealing temperature. The changes in mechanical properties with increasing annealing temperature were compared with those of other three-layered Al sheets fabricated in previous studies.
Grain-oriented electrical steel sheets are mainly used as core materials for transformers and motors. They should have excellent magnetic properties such as low core loss, high magnetic flux density and high permeability. In order to improve the magnetic properties of the electrical steel sheet, it is important to form Goss oriented grains with a very strong {110}<001> orientation. Recently, efforts have been made to develop Goss grains by controlling processes such as hot rolling, cold rolling, and primary and secondary recrystallization. In this study, the sheets containing 3.2 and 3.4wt.% Si were used, which were rolled with 1 and 10 passes with total thickness reduction of 89%. Heating was carried out for primary recrystallization with different heating rates of $25^{\circ}C/s$ and $24^{\circ}C/min$ until $720^{\circ}C$. The behavior of Goss-, {411}<148>-, and {111}<112>-oriented grains were analyzed using X-ray diffraction(XRD) and electron back-scatter diffraction(EBSD) analysis. The area fraction of Goss-oriented grains increased with the number of rolling passes during cold rolling; however, after the primary recrystallization, the area fraction of the Goss grains was higher and exact Goss grains were found in the specimens subjected to rapid heating after one rolling pass.
Scanning Electron Microscopy with Polarization Analysis (SEMPA) was used to image the surface magnetic domain structure of the 100 ${\mu}{\textrm}{m}$ thick 3% Si-Fe sheet. The thin-gauged 3% Si-Fe strips with magnetic induction ($B_{10}$) from 1.98 to 1.57 Tesla were prepared via conventional metallurgical processes including melting, hot-and cold-rolling, intermediate annealing and final annealing. Using SEMPA, it was observed that the $B_{10}$ (1.98 T) Tesla sample was almost composed of 180$^{\circ}$ stripe domains which are parallel to rolling direction. On the other hand the 3% Si-Fe sheet with $B_{10}$ (1.57 T) Tesla was composed of large 180$^{\circ}$stripe domains that are slanted about 30$^{\circ}$to the rolling direction and complex magnetic domain structures like tree and zigzag pattern. The 180$^{\circ}$stripe domains, which covered a major part of the sample, had (110)<001> Goss texture parallel to the rolling direction. The domain walls between 180$^{\circ}$stripe domains were the conventional Bloch type walls. On the other hand, the 90$^{\circ}$domains, which covered minor part on edge of the sample, were observed in (200) grains. The domain walls between 90$^{\circ}$domains were the Neel type walls. In high magnification, the elliptical singularity at the Neel walls was clearly observed.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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