• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2005년도 하계학술대회 논문집 Vol.6
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• pp.64-65
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• 2005

The structural and electrical properties of the films are investigated as a function of nitrogen/argon ratio at room temperature and at various deposition temperatures. The phase changes as $Ta_2N$ or TaN in the films were observed as nitrogen/argon ratio increases from 3% to 25%. The phase changes were associated with a change in the resistivity and TCR (temperature coefficient of resistance) of the films. TCR values of the films deposited at room temperature and different nitrogen contents were negative, and strongly decreased with the increase in nitrogen/argon ratio. The Ta2N films deposited at nitrogen/argon ratio of 3% show improved TCR values and thermal stability with increasing deposition temperature. The $Ta_2N$ films grown at nitrogen/argon ratio of 3% and the temperature of $200^{\circ}C$ showed a TCR value of -47 $ppm/^{\circ}C$, which is close to near-zero TCR in the range of deposition temperature.

• 한국응용과학기술학회지
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• 제29권3호
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• pp.377-392
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• 2012

작은 고체 분체들은 피커링 유화 체계에서 안정화제로 작용하는 것은 이미 알려진 사실이다. 이 연구에서 우리는 알킬실란 처리 $TiO_2$와 n-헥실알코올, 수계로 안정한 피커링 에멀젼을 제조하였다. $TiO_2$ 입자에 의해 안정화된 피커링 에멀젼을 제조하기 위한 최적의 조건은 $TiO_2$ 입자의 양과 수상/유상의 비에 의해 결정된다. 피커링 에멀젼의 형태는 물과 n-헥실알코올에 대한 입자들의 젖음성에 의존된다. 피커링 에멀젼은 $TiO_2$가 5.00 wt%, 오일과 수상의 비가 3 : 7인 경우에 가장 안정하였다. 피커링 에멀젼을 형판으로 하여 무기 전조체를 졸-겔 공정에 의해 다공성 분체들이 합성되었다. 합성된 다공성 분체들은 광학 현미경, SEM, BET, XRD 및 EDS에 의해 확인되었다.

• 유기물자원화
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• 제9권2호
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• pp.93-100
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• 2001

수산가공폐수 슬러지의 농경지 이용을 목적으로 수산가공폐수 슬러지에 zeolite 및 가축분 첨가율에 따른 퇴비화 과정중 온도변화, 중량감소율, $CO_2$ 및 $NH_3$발생량 및 무기성분함량 변화 등을 조사하였다. 퇴비화과정중 온도, 총중량 감소율 및 $CO_2$발생량은 zeolite 첨가율에 따라서는 별 차이가 없었으나 가축분은 첨가율이 낮을수록 온도와 총 중량감소율이 높았으며 $CO_2$발생량은 별 차이가 없었다. 퇴비화과정중 $NH_3$ 발생량은 zeolite 첨가율 5, 10 및 20%에서 퇴비화 전기간 동안 68, 61 및 $46mg/kgvs{\cdot}hr$로서 zeolite 첨가율이 높을수록 적게 발생되었고, 가축분도 첨가율 50, 65 및 80%에서 퇴비화전기간 동안 65, 58 및 $45mg/kgvs{\cdot}hr$으로서 가축분 첨가율이 높을수록 적게 발생되었다. 따라서 수산가공폐수슬러지의 퇴비화에 zeoilte 및 가축분을 첨가함으로써 악취를 어느 정도 감소시킬 수 있을 것으로 판단되었다. T-C 및 T-N함량은 퇴비화 전에 비하여 퇴비화 후에 약간 감소하였으며, C/N율은 퇴비화 후에 약간 증가하였다. 퇴비화 전후 무기성분변화는 모든 조건에서 퇴비화 전에 비하여 퇴비화 후에 $P_2O_5$, $K_2O$, CaO 및 Na함량은 약간 증가하였으며, MgO함량은 큰 변화가 없었고, Mn함량은 큰 폭으로 감소하였다.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제30권12호
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• pp.806-811
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• 2017

An all-transparent ultraviolet (UV) photodetector was fabricated by structuring $p-NiO/n-SnO_2/ITO$ on a glass substrate. $SnO_2$ is an important semiconductor material because of its large bandgap, high electron mobility, high transmittance (as high as 80% in the visible range), and high stability under UV light. For these reasons, $SnO_2$ is suitable for a range of applications that involve UV light. In order to form a highly transparent p-n junction for UV detection, $SnO_2$ was deposited onto a device containing NiO as a high-transparent metal conductive oxide for UV detection. We demonstrated that all-transparent UV photodetectors based on $SnO_2$ could provide a definitive photocurrent density of $4nA\;cm^{-2}$ at 0 V under UV light (365 nm) and a low saturation current density of $2.02nA{\times}cm^{-2}$. The device under UV light displayed fast photoresponse with times of 31.69 ms (rise-time) and 35.12 ms (fall-time) and a remarkable photoresponse ratio of 69.37. We analyzed the optical and electrical properties of the $NiO/SnO_2$ device. We demonstrated that the excellent properties of $SnO_2$ are valuable in transparent photoelectric device applications, which can suggest various routes for improving the performance of such devices.

• KEPCO Journal on Electric Power and Energy
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• 제5권3호
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• pp.173-179
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• 2019

심랭식 공기분리공정은 공기를 액화시켜 질소와 산소, 아르곤 등 다양한 산업가스를 생산하며, 가스생산조건(순도, 종류)에 따라 공정 또한 달라진다. 그 중 SNG 플랜트 공급용 공기분리공정은 99.5% 이상의 초고순도 산소 생산을 요구하기 때문에 공정의 효율이 타 공기분리공정에 비해 떨어지며, 공정효율을 낮추는 요인에는 공기압축에 의한 소모동력이 대표적이다. 본 연구에서는 SNG 플랜트에 적용하는 공기분리공정의 에너지 효율 향상을 위하여 소모동력과 관련된 공기 압축 설비의 민감도 분석을 수행하였다. 민감도 분석을 위해 ASPEN PLUS를 이용해 공기분리공정을 모사하였다. 모사 결과, 99.5% 이상의 산소 18.21 kg/s를 생산하였으며, 33.26 MW의 동력이 소모되었다. 모사된 공정 중 공기압축설비는 주 압축기 1대와 2대의 재 압축기가 있으며, 2대의 재압축기에서의 공기압축비 변화에 따른 고압질소, 저압산소, 저압질소의 유량과 순도에 대한 영향과 공정 내 소모동력 변화에 대해 분석하였다. 분석 결과, 99.5% 산소, 99% 질소(고압), 90% 질소(저압)를 생산하기 위한 최적의 운전조건은 재압축비가 각각 0.48, 0.50가 되었으며, 재압축비 조정 후 $0.507kWh/O_2kg$에서 $0.473kWh/O_2kg$으로 소모동력도 약 7%가량 줄었음을 확인하였다.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
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• 제23권9호
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• pp.1229-1258
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• 2002

This paper reports the photochemical reduction of benzil 1 to benzoin 2 and the reduction of 2 to hydrobenzoin 4 in deoxygenated solvents in the presence of triethylamine (TEA) and/or TiO2. Without TEA or TiO2, the photolysis of 1 resulted in very low yield of 2. The presence of TEA or TiO2 increased the rate of disappearance of 1 and the yield of 2, which were further increased considerably by the presence of water. The photoreduction of 1 to 2 proceeds through an electron transfer to 1 from TEA or hole-scavenged excited TiO2 followed by protonation. In the reaction medium of 88 : 7 : 2 : 3 CH3CN/CH3OH/H2O/TEA with 2.5 $㎎/m{\ell}$ of TiO2, the yield of 2 was as high as 85 % at 50 % conversion of 1. The photolysis of 2 in homogeneous media resulted in photo-cleavage to benzoyl and hydroxybenzyl radicals, which are mostly converted to benzaldehyde. The reduction product 4 is formed in low yield through the dimerization of hydroxybenzyl radicals. The addition of TEA increased the conversion rate of 2 and the yield of 4 significantly. This was attributed to the scavenging effect of TEA for benzoyl radical to produce N,N-diethylbenzamide and the photoreduction of benzaldehyde in the presence of TEA. The ratio of $(\pm)$ and meso isomers of 4 obtained from the photochemical reaction is about 1.1. This ratio is the same as that from the photochemical reduction of benzaldehyde in the presence of TEA. In the TiO2-sensitized photochemical reduction of 2, meso-4 was obtained in moderate yield. The reduction of 2 to 4 proceeds through two consecutive electron/proton transfer processes on the surface of the photocatalyst without involvement of ${\alpha}-cleavage$. The radical 11 initially formed from 2 by one electron/proton process can also combine with hydroxy methyl radical, which is generated after hole trapping of excited TiO2 by methanol, to produce 1,2-diphenylpropenone after dehydration reaction.

• 한국재료학회:학술대회논문집
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• 한국재료학회 2012년도 춘계학술발표대회
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• pp.86.2-86.2
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• 2012

산화금속은 높은 결정성, quantum size effect, 높은 투과도, 대기중의 안정도 등과 같은 탁월한 성질들로 인하여 오늘날 실리콘의 대체물로서 많은 연구가 보고되고 있다. 이러한 금속산화물의 크기와 모양을 조절하며 대량 생산하기 위한 합성방법으로 가수분해, 금속양이온 응축법과 같은 다양한 수용액상 방법이 연구되고 있다. 하지만 2차원 단일 층에 나노물질을 정렬하고 전기적 접합을 형성하는 것이 매우 어렵다는 점 때문에 나노물질을 기판 위에 자유롭게 성장시키는 방법에 대해서는 아직 많이 보고 되어있지 않다. 본 연구에서 저온의 수용액에서 1차원의 나노막대가 2차원의 스피넬 구조 위에 heteroepotaxial 접합을 이루며 성장시키는 방법을 이용하였다. P-n접합 형성을 위하여 (0001)방향으로 배향된 n-type ZnO 나노막대를 (111)방향의 p-type Co3O4 나노플레이트 위에 성장시킨 구조를 제작하였으며 이를 바탕으로 다이오드소자를 제작하여 ideal factor, turn-on voltage, rectifying ratio등의 전기적 특성을 평가하였다.

• 대한화학회지
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• 제16권4호
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• pp.249-256
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• 1972

하동 kaolin을 NaOH용액으로 처리하여 그의 결정성을 X-선 분말회절법으로 조사하였다. 각 결정 생성의 최적 처리 조건은 다음과 같다. <표> Sodium A zeolite 결정 생성을 위해 적당한 $Na_2O 대 SiO_2$의 비는 0.5${\sim}$1.5이다. 생성된 Sodium A zeolite 의$ 25^{\circ}C$, 0.2N $CaCl_2$ 용액에서의 $Ca^{++}ion$ 교환능은 이론값의 65%였다.

• 한국재료학회지
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• 제13권8호
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• pp.519-523
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• 2003

We report the synthesis of cubic spinel $ZnCo_2$$O_4$thin films and the tunability of the conduction type by control of the oxygen partial pressure ratio. Zinc cobalt oxide films were grown on$ SiO_2$(200 nm)/Si substrates by reactive magnetron sputtering method using Zn and Co metal targets in a mixed Ar/$O_2$atmosphere. We found from X-ray diffraction measurements that the crystal structure of the zinc cobalt oxide films grown under an oxygen-rich condition (the $O_2$/Ar partial pressure ratio of 9/1) changes from wurtzite-type $Zn_{1-x}$ $Co_{X}$O to spinel-type $ZnCo_2$$O_4$with the increase of the Co/Zn sputtering ratio,$ D_{co}$ $D_{zn}$ . We noted that the above structural change accompanied by the variation of the majority electrical conduction type from n-type (electrons) to p-type (holes). For a fixed $D_{co}$ $D_{zn}$ / of 2.0 yielding homogeneous spinel-type $_2$O$ZnCo_4$films, the type of the majority carriers also varied, depending on the$ O_2$/Ar partial pressure ratio: p-type for an $O_2$-rich and n-type for an Ar-rich atmosphere. The maximum electron and hole concentrations for the Zn $Co_2$ $O_4$films were found to be 1.37${\times}$10$^{20}$ c $m^{-3}$ and 2.41${\times}$10$^{20}$ c $m^{-3}$ , respectively, with a mobility of about 0.2 $\textrm{cm}^2$/Vs and a high conductivity of about 1.8 Ω/$cm^{-1}$ /.

• 멤브레인
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• 제30권5호
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• pp.319-325
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• 2020

본 논문에서는 UiO-66 입자를 합성하고, 이를 열가소성 탄성중합체인 polystyrene-block-polybutadiene-block-polystyrene (SBS) 블록공중합체 매질에 삽입하는 방식으로 CO₂/N₂ 기체를 분리하기 위한 혼합 매질 분리막을 제조하였다. UiO-66가 고분자 매질에서 미치는 영향을 확인하기 위해 SBS와 UiO-66의 질량 비율을 변화시켜가며 혼합 매질 분리막을 제조하였다. 또한 UiO-66 입자의 균일한 분산을 위해서 두 차례에 걸친 초음파 처리 및 자성 막대를 이용한 물리적 혼합을 활용하였다. 제조된 시료들은 푸리에 변환 적외분광법(FT-IR), 주사전자현미경(SEM)을 통해 확인하였다. 또한 기체 투과 성능은 time-lag method를 통해 확인하였다. 이때, UiO-66의 함유량이 증가함에 따라 혼합 매질 분리막의 투과도는 크게 증가하였지만, CO₂/N₂ 선택도는 크게 감소하지 않았다. 가장 좋은 성능을 보인 20%의 UiO-66 입자를 함유한 분리막의 경우 663.8 barrer의 CO₂ 투과도와 13.3의 CO₂/N₂ 선택도를 보여주었다. 이러한 결과는 Robeson plot에서 순수 고분자 막에 비해 upper bound에 더 가까운 성능을 나타냈는데, 첨가된 UiO-66가 선택도를 크게 희생시키지 않고 기체 투과도는 두 배 이상 향상시켰기 때문이다.