플라즈마 화학증착법(PACVD)에 의한 TiN증착시 증착변수가 미치는 영향(II) -TiCl4, N2의 입력분율을 중심으로- (Effects of Deposition Parameters on TiN Film by Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition(II) -Influence of TiCl4, N2 inlet Fraction on the TiN Deposition-)
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- 열처리공학회지
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- 제2권4호
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- pp.11-18
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- 1989