• 청정기술
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• 제12권3호
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• pp.165-170
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• 2006

Polyurethane, PVA(polyvinyl alcohol)와 지렁이 분변토로 제작한 biomedia를 충진한 바이오필터(biofilter)를 이용하여 $H_2S$와 $NH_3$의 혼합 악취를 제거하였다. $NH_3$ 농도를 50 ppmv로 고정시킨 후, $H_2S$의 농도는 1~489 ppmv까지 증가시키며 제거효율을 살펴보았다. 또한 $NH_3$의 농도를 점진적으로 증가시켜 80, 100, 200, 300, 400, 500 ppmv 으로 설정하여 각각의 $NH_3$농도가 고정된 조건에서는 $H_2S$를 점차적으로 농도를 증가시켜주며 $NH_3$ 및 $H_2S$ 가스의 제거효율을 알아보았다. 혼합 악취가 공급되는 조건에서 $NH_3$의 유입 부하량은 입구농도가 50~300 ppmv 까지는 부하량 $11.14g\;N{\cdot}m^{-3}{\cdot}h^{-1}$이 증가함에 따라 제거용량도 비례하여 증가하였다. 입구농도가 300 ppmv 이상으로 증가함에 따라 유입 부하량은 증가하는 반면, 제거효율과 제거용량은 감소되는 것을 볼 수 있었다. 복합악취가 공급되는 조건에서 $H_2S$ 최대 부하량은 $40.27g\;S{\cdot}m^{-3}{\cdot}h^{-1}$이하이며, $NH_3$ 부하량이 $15.25g\;N{\cdot}m^{-3}{\cdot}h^{-1}$ 이하인 조건에서는 $NH_3$의 공급에 의해 $H_2S$의 제거효율은 큰 영향을 받지 않는 것으로 나타났다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2002년도 추계학술대회 논문집 Vol.15
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• pp.460-463
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• 2002

$MoO_3$ thin films were deposited on electrode and heater screen-printed alumina substrates in $O_2$ atmosphere by RF reactive sputtering using Molybdenum metal target. The deposition was performed at $300^{\circ}C$ with 350W of a forward power in an $Ar-O_2$ atmosphere. The working pressure was maintained at $3{\times}10^{-2}mtorr$ and all deposited films were annealed at $500^{\circ}C$ for 5hours. To investigate gas sensing characteristics of the addition doped $MoO_3$ thin film, Co, Ni and Pt were used as adding dopants. The sensing properties were investigated in tenn of gas concentration under exposure of reducing gases such as $H_2$, $NH_3$ and CO at optimum working temperature. Co-doped $MoO_3$ thin film shows the maximum 46.8% of sensitivity in $NH_3$ and Ni-doped $MoO_3$ thin film exhibits 49.7% of sensitivity in $H_2$.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제16권8호
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• pp.705-710
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• 2003

MoO$_3$thin films were deposited on electrode of alumina substrates in $O_2$atmosphere by RF reactive sputtering using molybdenum metal target. The deposition was performed at 30$0^{\circ}C$ with 350 W of a forward power in an Ar-O$_2$atmosphere. The working pressure was maintained at 3$\times$10$^{-2}$ torr and all deposited films were annealed at 50$0^{\circ}C$ for 5 hours. The surface morphology of films was observed by using a SEM and crystalline phases were analyzed by using a XRD. To investigate gas sensing characteristics of the doped MoO$_3$thin film, Co, Ni and Pt were used as dopants. The sensing properties were investigated in term of gas concentration under exposure of reducing gases such as H$_2$, NH$_3$and CO at optimum working temperature. Co-doped MoO3 thin film shows the maximum 46.8 % of sensitivity in NH$_3$ and Ni-doped MoO$_3$thin film exhibits 49.7 % of sensitivity in H$_2$.

• 공업화학
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• 제8권2호
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• pp.211-219
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• 1997

1-부텐과 i-부탄의 알킬화반응에 의한 i-옥탄 생성반응을 Cs 혹은 $NH_4$가 치환된 $H_3PW_{12}O_{40}$ 촉매상에서 액상 및 기상으로 수행하였다. 액상알킬화반응의 경우 반응전 촉매의 전처리 온도가 헤테로폴리산 촉매의 반응성에 매우 중요한 역할을 하였다. 액상알킬화반응에서 치환염은 모산보다 매우 우수한 총수율과 i-옥탄 선택도를 보였으며, $(NH_4)_{2.5}H_{0.5}PW_{12}O_{40}$ 촉매는 $Cs_{2.5}H_{0.5}PW_{12}O_{40}$ 보다 1-옥탄 선택도면에서 더욱 효과적인 것으로 나타났다. 기상알킬화반응의 경우 Cs 혹은 $NH_4$가 치환된 $H_3PW_{12}O_{40}$ 촉매의 활성은 촉매의 산특성(산점의 비활성화)과 관련이 있었다. 기상알킬화반응에서 반응초기에는 촉매의 강한 산특성 때문에 $C_5-C_7$가 주로 생성되나 반응이 진행되면서 촉매 산점의 비활성화가 진행되어 $C_8$ 및 $+C_9$가 주로 생성되었다. 기상알킬화반응에서 대상 촉매중 $Cs_{2.5}H_{0.5}PW_{12}O_{40}$이 가장 우수한 총수율을 나타내었다.

• 한국식품과학회지
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• 제2권2호
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• pp.61-67
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• 1970

유류침적토양에서 분리한 Candida tropicalis KIST 359를 진탕배양 또는 발효조배양으로 여러가지 조건하에서 배양함으로써, 이 균주의 배양조건을 살피고, 그 균체의 화학성분 및 아미노산 조성을 밝혔다. 1. 본 균주는 $C_{14}{\sim}C_{17}$ 사이의 n-alkane 을 잘 자화할 수 있으며, 그 최적 배양온도는 $30^{\circ}C$, 최적 pH 는 5.5 부근이다. 2. 균체수율을 기준으로 할 때, 경유가 등유보다 좋은 기질이고, 경유를 썼을 때 요소를 제외한 다른 네가지 질소원($(NH_4NO_3,\;NH_4Cl,\;(NH_4)_2SO_4$ 및 $(NH_4)_2HPO_4$)은 서로 큰 차이 없이 좋은 수율을 보였다. 3. 경유의 농도 10%(v/v), 질소원의 농도 0.5%(w/v), 그리고 $MgSO_4-7H_2O$의 농도 0.05%(w/v)에서 그 수율이 가장 높았다. 4. 균체의 단백질함량은 59.8%이며, 그 아미노산조성은 FAO 표준구성에 비교할 만하나, methionine은 부족하고, lysine의 함량은 높다.

• Journal of Korean Vacuum Science & Technology
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• 제4권2호
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• pp.55-60
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• 2000

Vertically aligned carbon nanotubes on nickel coated glass substrates were obtained at low temperatures below 600$\^{C}$ by plasma enhanced hot filament chemical vapor deposition where acetylene gas was used as the carbon source and ammonia gas was used as the dilution gas and catalyst. The diameters of the nanotubes decreased from 96 m to 41 m as NH$_3$/C$_2$H$_2$ ratio increased from 2:1 to 5:1. Total flow rate of input gases with constant NH$_3$/C$_2$H$_2$ ratio did not change the diameter of carbon nanotubes. No growth of the carbon nanotubes was observed with only C$_2$H$_2$ nor N$_2$ instead of NH$_2$. G line and D line in Raman spectra were observed, which implies that there were many structural defects in carbon nanotubes.

• 센서학회지
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• 제29권6호
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• pp.388-393
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• 2020

In this study, a PbS quantum dots (QDs)-based H₂ gas sensor with a Pd electrode was proposed. QDs have a size of several nanometers, and they can exhibit a high surface area when forming a thin film. In particular, the NH₂ present in the ligand of PbS QDs and H₂ gas are combined to form NH₃⁺, subsequently the electrical characteristics of the QDs change. In addition to the resistance change owing to the reaction between Pd and H₂ gas, the resistance change owing to the reaction between the NH₂ of PbS QDs and H₂ gas increases the current signal at the sensor output, which can produce a high output signal for the same concentration of H₂ gas. Using the XRD and absorbance properties, the synthesis and particle size of the synthesized PbS QDs were analyzed. Using PbS QDs, the sensitivity was significantly improved by 44%. In addition, the proposed H₂ gas sensor has high selectivity because it has low reactivity with heterogeneous gases such as C₂H₂, CO₂, and CH₄.

• 공업화학
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• 제18권4호
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• pp.350-355
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• 2007

천연망간광석을 이용한 질소산화물의 선택적촉매환원 반응에서 배가스 내에 포함된 수분의 영향을 연구하였다. 실험은 천연망간광석 촉매상에서 NO와 $NH_3$의 반응을 독립 또는 동시에 반응시켰다. 천연망간광석 촉매의 격자산소를 통하여 저온에서 $NH_3$가 산화될 수 있으며, $NH_3$의 산화로 인하여 생긴 NO 및 $NO_2$의 농도는 수분이 없을 때보다 수분이 존재할 때에 $300^{\circ}C$ 이상 고온에서 더 높게 나타났다. 수분은 천연망간광석 촉매상에서 NO 및 $NH_3$와 경쟁흡착하며, 이것은 고온 및 저온에서의 선택적촉매환원 반응을 저해하는 요인으로 작용할 수 있다. 촉매제조시 dipping한 수분도 $NH_3$와 경쟁흡착을 하여 $250^{\circ}C$ 이하에서 NOx 전환율이 감소하였다. NMO는 소성온도별로 활성특성이 달라지고 수분의 유무에 관계없이 $400^{\circ}C$의 최적소성온도를 갖는다.

• 대한기계학회:학술대회논문집
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• 대한기계학회 2008년도 추계학술대회B
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• pp.2874-2879
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• 2008

The Selective catalytic reduction(SCR) system is a highly-effective device of $NO_x$ reduction for diesel engines. Generally, the ammonia($NH_3$) generated from a liquid urea-water solution is used for the reductant. The ideal ratio of $NH_3$ molecules to $NO_x$ molecules is 1:1 based on $NH_3$ consumption and having $NH_3$ available for reaction of all of the exhaust $NO_x$. However, under the too low and too high temperature condition, the $NO_x$ reduction efficiency becomes lower, due to temperature window. And space velocity also affects to $NO_x$ conversion efficiency. This paper reviews a laboratory study to evaluate the effects of $NO_x$ and $NH_3$ concentrations, gas temperature and space velocity on the $NO_x$ conversion efficiency of the SCR system. The maximum conversion efficiency of $NO_x$ was indicated when the $NH_3$ to $NO_x$ ratio was 1.2 and the space velocity was $60,000\;h^{-1}$. The results of this paper contribute to improve overall $NO_x$ reduction efficiency and $NH_3$ slip.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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• pp.304.1-304.1
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• 2016

We have investigated the effect of plasma nitridation of atomic layer deposited-Al2O3 films of monocrystalline Si wafers and the thermal properties of nitridated Al2O3 films. Nitridation was performed on Al2O3 to form aluminum oxynitride (AlON) using NH3 plasma treatment in a plasma-enhanced chemical vapor deposition and it was conducted at temperature of $400^{\circ}C$ with various plasma power condition. After nitridation, we performed firing and forming gas annealing (FGA). For each step, we have observed the minority carrier lifetime and the implied Voc by using quasi-Steady-State photoconductance (QSSPC). We confirmed a tendency to increase the minority carrier lifetime and the implied Voc after the nitridation. On the other hand, the minority carrier lifetime and the implied Voc was decreased after Firing and forming gas annealing (FGA). To get more information, we studied properties of the plasma treated Al2O3 films by using Secondary Ion Mass Spectroscopy (SIMS) and X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS).