ALD로 성장시킨 $Ta_2O_5$ 박막의 열처리에 따른 특성변화

Effect of post-annealing on properties of $Ta_2O_5$ films grown by ALD

  • 이재웅 (연세대학교 금속공학과) ;
  • 함문호 (연세대학교 금속공학과) ;
  • 김형준 (포항공과대학 신소재공학과) ;
  • 명재민 (연세대학교 금속공학과)
  • 발행 : 2006.05.19