High speed wire seam weldability of tin coated thin gage sheet steels was investigated. Thickness and coating weight ranges of the test materials were 0.21~0.35mm and 1.1/1.1~2.8/11.2g/$m^2$, respectively. Test results indicated that the surface roughness value, Rz decreased as increasing the coating weight. The Rz was thought to be one of the important factors to influence the optimum welding condition range, $\triangle$Q. The $\triangle$Q showed close relationship with welding conditions such as welding pressure and travel speed. Higher welding pressure widened the $\triangle$Q while higher travel speed reduced the $\triangle$Q value. Results also demonstrated that tin coating weight should be optimized based on the weldability or the serviceability after welding. At th HAZ of sheet materials with thinner coating layer, tin depleted zone was produced since molten film of the coating material on the base metal agglomerated by the surface tension, which could result in reducing the corrosion resistance of the HAZ in the service environment.
Kim, Tae Hyung;Song, Yoseb;Lee, Chan-Gi;Choa, Yong-Ho
한국분말재료학회지
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제24권5호
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pp.351-356
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2017
Tin dioxide nanoparticles are prepared using a newly developed synthesis method of plasma-assisted electrolysis. A high voltage is applied to the tin metal plate to apply a high pressure and temperature to the synthesized oxide layer on the metal surface, producing nanoparticles in a low concentration of sulfuric acid. The particle size, morphology, and size distribution is controlled by the concentration of electrolytes and frequency of the power supply. The as-prepared powder of tin dioxide nanoparticles is used to fabricate a gas sensor to investigate the potential application. The particle-based gas sensor exhibits a short response and recovery time. There is sensitivity to the reduction gas for the gas flowing at rates of 50, 250, and 500 ppm of $H_2S$ gas.
We fabricated amorphous zinc tin oxide (ZTO) transparent thin-film transistors (TTFTs). The effects of Al electrode on the mobility and threshold voltage of the ZTO TTFTs were investigated. It was found that the aluminum (Al)-ZTO contact decreased the mobility and increased the threshold voltage. Traps, originating from $AlO_x$, were assumed to be the cause of degradation. An indium tin oxide film was inserted between Al and ZTO as a buffer layer, forming an ohmic contact, which was revealed to improve the performance of ZTO TTFTs.
In this paper, we studied a p-type reflector based on indium tin oxide (ITO) for vertical-type ultraviolet light-emitting diodes (UV LEDs). We investigated the reflectance properties with different deposition methods. An ITO layer with a thickness of 50 nm was deposited by two different methods, sputtering and e-beam evaporation. From the measurement of the optical reflection, we obtained 70% reflectance at a wavelength of 382 nm by means of sputtering, while only 30% reflectance resulted when using the e-beam evaporation method. Also, the light output power of a $1mm{\times}1mm$ vertical chip created with the sputtering method recorded a twofold increase over a chip created with e-beam evaporation method. From the measurement of the root mean square (RMS), we obtained a RMS value 1.3 nm for the ITO layer using the sputtering method, while this value was 5.6 nm for the ITO layer when using the e-beam evaporation method. These decreases in the reflectance and light output power when using the e-beam evaporation method are thought to stem from the rough surface morphology of the ITO layer, which leads to diffused reflection and the absorption of light. However, the turn-on voltage and operation voltage of the two samples showed identical results of 2.42 V and 3.5 V, respectively. Given these results, we conclude that the two ITO layers created by different deposition methods showed no differences in the electric properties of the ohmic contact and series resistance.
The electrical and mechanical properties in indium-tin-oxide films deposited on polymer substrate were examined. The materials of substrates were polyethersulfone (PES) which have gas barrier layer and anti-glare coating for plastic-based devices. The experiments were performed by rf-magnetron sputtering using a special instrument and buffer layers. Therefore, we obtained a very flat polymer substrate deposited ITO film and investigated the effects of buffer layers, and the instrument. Moreover, the influences of an oxygen partial pressure and post-deposition annealing in ITO films deposited on polymer substrates were clarified. X-ray diffraction observation, measurement of electrical property, and optical microscope observation were performed for the investigation of micro-structure and electro-mechanical properties, and they indicated that as-deposited ITO thin films are amorphous and become quasi-crystalline after adjusting oxygen partial pressure and thermal annealing above $180^{\circ}C$. As a result, we obtained 20-25 ${\Omega}/sq$ of ITO films with good transmittance (above 80 %) of oxygen contents with under 0.2 % and vacuum annealing. Furthermore, using organic buffer layer, we obtained ITO films which have a rather high electrical resistance (40-45 ${\Omega}/sq$) but have improved optical (more than 85 %) and mechanical characteristics compared to the counterparts. Consequently, a prototype reflective color plastic film LCD was fabricated using the PES polymer substrates to confirm whether the ITO films could be realized in accordance with our experimental results.
Device quality indium tin oxide (ITO) films are deposited on glass substrates and ultra-thin diamond-like carbon films are deposited as a buffer layer on ITO by a pulsed Nd:YAG laser at 355 nm and 532 nm wavelength. ITO films deposited at room temperature are largely amorphous although their optical transmittances in the visible range are > 90%. The resistivity of their amorphous ITO films is too high to enable an efficient organic light-emitting device (OLED), in contrast to that deposited by a KrF laser. Substrate heating at $200^{\circ}C$ with laser wavelength of 355 nm, the ITO film resistivity decreases by almost an order of magnitude to $2{\times}10^{-4}\;{\Omega}\;cm$ while its optical transmittance is maintained at > 90%. The thermally induced crystallization of ITO has a preferred <111> directional orientation texture which largely accounts for the lowering of film resistivity. The background gas and deposition distance, that between the ITO target and the glass substrate, influence the thin-film microstructures. The optical and electrical properties are compared to published results using other nanosecond lasers and other fluence, as well as the use of ultra fast lasers. Molecularly doped, single-layer OLEDs of ITO/(PVK+TPD+$Alq_3$)/Al which are fabricated using pulsed-laser deposited ITO samples are compared to those fabricated using the commercial ITO. Effects such as surface texture and roughness of ITO and the insertion of DLC as a buffer layer into ITO/DLC/(PVK+TPD+$Alq_3$)/Al devices are investigated. The effects of DLC-on-ITO on OLED improvement such as better turn-on voltage and brightness are explained by a possible reduction of energy barrier to the hole injection from ITO into the light-emitting layer.
ITO(indium-tin-oxide)/PPV(poly(p-phenylenevihylene))/음극 전극의 단층구조와 ITO /PVK(poly(N-vinylcarbazole))/PPV/음극전극의 이층구조를 가진 유기 EL(electroluminescence) 소자를 제작하였으며, 전기-광학적 특성을 측정하였다. 실험 결과, 단층구조에서는 PPV막의 열변환 온도를 $140^{\circ}C$에서 $260^{\circ}C$로 증가할수록 최대 휘도가 $118.8\;cd/m^{2}$(20V)에서 $21.14\;cd/m^{2}$(28V)으로 감소하였고, EL 스펙트럼의 최대 피크가 500nm에서 580nm로 이동하였다. 또한, 음극전극의 일함수가 낮을수록 소자의 발광휘도와 주입 전류는 증가되었다. 이층구조에서는 PVK막의 농도가 감소함에 따라 발광휘도가 $70.71\;cd/m^{2}$(32V)에서 $152.7\;cd/m^{2}$(26V)으로 증가하였다.
Commercial applications of indium tin oxide (ITO) can be separated into two useful areas. As it is perceived to bear electrical properties and optical transparency at once, its chance to apply to promising fields, usually for an optical device, gets greater in the passing time. ITO is one of the transparent conducting oxides (TCO), and required to carry the relative resistance less than $10^{-3}{\Omega}$/cm and transmittances over 80 % in the visible wavelength of light. Because ITO has considerable refractive index, there exist applications for anti-reflection coatings. Anti-reflection properties require gradual change in refractive index from films to air. Such changes are obtained from film density or nano-clustered fractional void. Glancing angle deposition (GLAD) method is a well known process for adjusting nanostructure of the films. From its shadowing effects, GLAD helps to deposit well-controlled porous films effectively. In this study, we are comparing the reference sample to samples coated with controlled ITO multilayer accumulated by an e-beam evaporation system. At first, the single ITO layer samples are prepared to decide refractive index with ellipsometry. Afterwards, ITO multilayer samples are fabricated and fitted by multilayer ellipsometric model based on single layer data. The structural properties were measured by using atomic force microscopy (AFM), and by scanning X-ray diffraction (XRD) measurements. The ellipsometry was used to determine refractive indices and extinction coefficient. The optical transmittance of the film was investigated by using an ultraviolet-visible (UV-Vis) spectrophotometer.
The purpose of this study was to observe the change of mechanical property and microstructure in porcelain fused to gold alloy by heat treatment. PFG alloys are composed with Au-Pd-Ag alloy of the additional elements with indium, tin and copper. Specimens were tested in hardness using vicker,s micro-hardness tester and the surface micro structural changes were analysed by SEM and EDS. The results were as fellows: 1. The vickers hardness showed highest in Au-Pd-Ag alloy of the additional element with tin. 2. By hardening-oxiding result, the vicker,s hardness increased in additional element with tin but there was no significant difference in additional elements with indium and copper. 3. The surface oxide layer of Au-Pd-Ag alloy with added indium and tin increased but there was small change in additional element with copper. 4. The elements of indium and tin increased with increasing heat treatment in the surface alloy.
유기 박막 electoluminescent(EL) 소자를 제작하여 전극의 일함수에 따른 출력휘도의 의존성과 휘도-전압 특성을 측정하였다. 제작된 소자의 구조는 Indium-Tin-Oxide(ITO)/정공수송층/발광층(전자수송층)/금속전극이며, 정공수송층으로는 PMMA+TPD(0.5wt%)와 측쇄 액정 고분자 메트릭스인 MC homopolymer+TPD(0.005wt%)와 (MC/MMA)copolymer+TPD(0.005wt%)을 사용하였으며, 발광층은 $Alq_{3}$을, 금속전극으로는 Ca, Mg, Mg:Ag(10:1) 와 Al을 사용하였다. 출력특성이 전압에 따른 정류특성을 가짐을 보였으며, 소자의 문턱전압은 5볼트이고, 출력 휘도는 10 볼트에서 700 $Cd/m^{2}$이상의 휘도를 보였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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